半導体などの電子デバイスに使用可能な高純度特殊ガスを中国から調達しています。ヘリウムや三フッ化窒素などの取扱実績を有しています。
【ヘリウム】 ヘリウムは身近なところではキャラクターの風船用のガスとして使用されていますが、工業用途だと、半導体や光ファイバーの製造工程などにも使われています。天然ガスの副産物であるため、ヘリウムの産地は主にロシアやカタール、アメリカなどといわれていますが、ハイケムはいち早く中国で高純度ヘリウムガスを調達し顧客へ提案しています。 ヘリウムは高圧ガスであり、取り扱いが難しく、特別な認可が必要になりますが、当社は既に高圧ガス販売におけるライセンスを取得しており、現在、ヘリウムガスの取り扱い実績を有しています。 【三フッ化窒素（NF3）】 三フッ化窒素は、半導体や液晶製造装置用のクリーニング剤、ドライエッチング剤として使われています。 半導体の製造に不可欠な高純度特殊ガスとして使用は増加傾向にあり、ハイケムでは中国からの調達が可能です。
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基本情報
【ヘリウム】 主な用途：半導体・エレクトロニクス、医療(MRI装置) 主要取扱グレード：高純度グレード（5N、6N、6N5） 容器：高圧ガス（47Lタイプ） 【三フッ化窒素（NF3）】 主な用途：半導体・液晶製造装置用クリーニング剤、ドライエッチング剤 主要取扱グレード：高純度グレード（5N、4N） 容器：高圧ガス容器（47Lもしくは大型容器）等
価格帯
納期
用途／実績例
【ヘリウム】 主な用途：半導体・エレクトロニクス、医療(MRI装置) 主要取扱グレード：高純度グレード（5N、6N、6N5） 容器：高圧ガス（47Lタイプ） 【三フッ化窒素（NF3）】 主な用途：半導体・液晶製造装置用クリーニング剤、ドライエッチング剤 主要取扱グレード：高純度グレード（5N、4N） 容器：高圧ガス容器（47Lもしくは大型容器）等
企業情報
ハイケム株式会社は「日中の架け橋」として、日中間の化学品の輸出入販売や受委託製造事業を行う化学の専門商社です。近年ではサステナブルな社会実現に向けた『C1ケミカル事業』や『生分解性材料事業』にも注力し、日中のサプライチェーンの強みを活用することで「地球温暖化」や「海洋プラスチック問題」などの喫緊の課題への取り組みを強化しています。 C1ケミカル事業では保有するSEG技術をベースにライセンスビジネスを展開するとともに、二酸化炭素からプラスチック原料を製造する技術の開発及び社会実装への取り組みを行っています。生分解性材料事業では、中国で台頭する幅広い生分解性材料メーカーと関係を構築し、ハイケムの独自ブランド「Highlact（ハイラクト）」を展開するなど、新市場の開拓を積極的に進めています。