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LT・SiC等2〜6インチ小径ウェハ両面同時薬液スクラブ洗浄装置

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最終更新日:2023年01月16日

株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)
株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)
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ワーク表裏面に触れない搬送・乾燥と異物、金属汚染の除去を可能にした薬液洗浄装置!薬液によりブラシ洗浄との組合せにも対応です。

ポリッシュ後の研磨スラリーをディスクスクラブ洗浄で除去し、薬液スプレー、メガソニックスポットシャワー、スピン乾燥できる枚葉洗浄装置です。 強固着物の除去と薬液スプレーによる金属汚染除去が可能で、オプションで端面同時のスクラブ洗浄も対応できます。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ : シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径  :φ2”~φ4” 厚みについては応相談 ■透明ウエハにも対応 ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。

    その他洗浄機
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LT・SiC等2〜6インチ小径ウェハ両面同時薬液スクラブ洗浄装置

chemi_cleaner.png
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EXTENSIVE VISION ON SYSTEM (幅広い視野に立ったシステム構築) を目的として、独自性の高い製品を作るという意味から名づけられた社名です。 現在の技術革新には目覚ましいものがあり、時代の要求は常に高度なものになっております。熟成化された今の装置産業に革命を起こすべく、常に他社との差別化をなした装置の提案を行い、産業界に貢献する会社であることが我々ゼビオスの使命だと考えております。

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