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プロセス流体の視認が必要な気体および液体のアプリケーションにおいて、長期的に安定したパフォーマンスを実現する堅牢な設計で、小流量から大流量の測定に適したガラス管面積式流量計です。1分31秒の動画でご説明いたします。 https://www.youtube.com/watch?v=BgZMdBY4kLM 収録内容 ■基本的な仕組みや用途 ■特長 ■重要な流れの状態を監視 ■目盛設計（読み取りやすいスケール設計により、正確な流量監視が可能。直感的に操作できるため、トレーニング不要で使用できます。）

GT1000、GT1300、Full-View(R) モデルの後継機種 『精度要件を満たすために作られたシンプル且つ堅牢な設計』 プロセス流体の視認が必要な気体および液体のアプリケーションにおいて、長期的に安定したパフォーマンスを実現する堅牢な設計で、小流量から大流量の測定に適したガラス管面積式流量計です。 精度範囲はフルスケール流量の1％〜10％からオプションで選択できます。パージ流量の管理、シールオイルユニット、ベアリングの潤滑油、冷却水の管理などのアプリケーションに最適です。 また、当社のGT1000、GT1300、およびFull-View(R)1100シリーズ（モデル1110、1114、1140、1144）を更新される際は、取り付け互換性のある後継品としてモデルコードから選択可能です。 用途 ■ 工業用プロセス ■ 医薬品製造 ■ 石油とガスのポンプと精製プロセス ■ 化学製造 ■ バーナー制御 ■ 水処理・給水システム

『最高の性能を最大限に引き出す』 半導体製造における高度なエッチングやデポジションのプロセスに特化して設計された、業界初の完全圧力不感応タイプの圧力ベースのマスフローコントローラ（P-MFC）です。 GP200シリーズP-MFCは、従来のP-MFCの限界を克服し、低蒸気圧のプロセスガスでも高精度なプロセスガス供給を可能にする特許取得済みのアーキテクチャを採用しています。また、差圧センサーを内蔵し、下流側にバルブを配置するなど独自の設計を採用することで、業界で最も広い範囲の動作条件で高精度のプロセスガス供給を可能にしています。 幅広いプロセス条件に対応しているため、従来のP-MFCやサーマルMFCの代替品やアップグレード品として使用することができます。また、圧力調整器や変換器などの部品が不要になるため、ガス供給システムを簡易化し、コストを低減することができます。 【主な用途】 ■ 半導体製造 ■ エッチング ■ CVD ■ 高純度のオールメタル流路を必要とするガス流量制御アプリケーション

GP200シリーズの金属シール型・圧力ベースのマスフローメータ（P-MFC）動作原理を動画で解説しております。（英語） https://www.youtube.com/watch?v=ZWB03A_9fo8 動画チャプター 00:00　Brooks Instrumentとは 01:00　従来型圧力ベースMFCとは 02:10　GP200圧力ベースMFCの紹介 03:30　GP200 MFCの利点 03:50　GP200 MFCの圧力計測方法 04:45　GP200の優位性 この圧力ベースのマスフローメータは、従来型の圧力ベースMFCが抱える制約を克服し、プロセス性能を大きく向上させる独自の設計を採用しています。