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【プロセス分析計 技術資料】現像液中のTMAHをオンライン分析

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プロセス分析計

最終更新日:2026年01月06日

メトロームジャパン株式会社 本社
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半導体産業向け!プロセス分析計 / オンライン分析計で現像液中の水酸化テトラメチルアンモニウム(TMAH)をモニタリング!

水酸化テトラメチルアンモニウム(TMAH)は、主に集積回路(IC)、プリント基板(PCB)、フラットパネルディスプレイ(LCD)の製造に用いられる第4級アモニウム塩で、これらのデバイス製造時のフォトリソグラフィ工程で最もよく使用されます。 この工程では、フォトレジスト現像液を使用して、基板上にパターンを転写します。半導体産業で使用される薬品は、極めて純粋でなければなりません。なぜなら、微量の汚染物質でさえ、電気的特性に悪影響を及ぼすからです。 現像工程はフォトリソグラフィにおける重要な段階であり、生産効率を上げるためにはこの工程を最適化しなければなりません。このプロセスアプリケーションノートでは、オンラインプロセス滴定により現像液中のTMAH濃度をモニターする方法を紹介します。

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【プロセス分析計 技術資料】現像液中のTMAHをオンライン分析

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スイスのヘリザウに本社を置くメトローム社は、70年以上の歴史を持つイオン分析に特化した分析機器のリーディングカンパニーです。世界140か国以上で製品とサービスを提供しています。長年培われたスイスの技術をベースに、装置は3年保証を実現しています。

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