実験・研究・評価・試作に好適!ガラス、金属などの平板基材に高速、高精度、低ダメージ真空成膜を実現!
『VS-R400G』は、独自のLIA(低インダクタンスアンテナ)方式プラズマ源を採用し、 超高速、高品質な真空成膜を実現するスパッタ装置です。 LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)によるアシスト効果により、 成膜速度を落とすことなくダメージを低減し、高品質な成膜を実現。 また、高密度プラズマの特性を活かし、反応性スパッタにも 対応可能です。 【特長】 ■実験・研究・評価・試作に好適なスパッタ装置 ■成膜速度を落とすことなくダメージを低減し、高品質な成膜を実現 ■高密度プラズマの特性を活かし、反応性スパッタにも対応可能 ■ロータリーカソードを搭載することで、成膜速度の高速化が可能 ■生産機への展開が容易 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
■対象基材:ガラス板、金属板などの平板 【仕様(一部)】 ・対象膜:ITO、アルミナ、化合物、各種金属膜 ・成膜方法:デポダウン、インライン成膜 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
用途/実績例
【用途】 ■機能膜 ■表面改質 ■表面処理 ■改質 ■窒化 ■酸化 ■パッシベーション ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ラインアップ(1)
型番 | 概要 |
---|---|
VS-R400G | ・対象基材:ガラス板、金属板などの平板 |
カタログ(1)
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