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循環式固液混合分散システム(CMX)

最終更新日:2026年05月14日

澁谷工業株式会社 メカトロ統轄本部
澁谷工業株式会社 メカトロ統轄本部
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分散は装置で決まらない。工程設計で分散品質を安定化する固液混合システム

分散工程で「ダマ」「凝集」「粘度上昇」が発生するのは、装置ではなく工程設計に原因があります。粉体投入時の濡れ不良や分散条件の不適合が、品質ばらつきや再分散不良を引き起こし、量産時の安定性を大きく損ないます。またスケールアップ時には同一条件が再現できず、トラブルが発生します。さらに材料変更や配合変更のたびに条件出しが必要となり、開発・量産負荷が増加します。 澁谷工業の固液混合分散システムは、粉体供給から分散・調合・CIP洗浄までを一貫して設計。材料特性、投入条件、流体設計まで含めたプロセス全体の最適化により、分散品質と再現性を安定化します。工程間のロス削減や設備負荷低減にも貢献します。 単なる分散機ではなく、工程全体を支配する分散システムです。設計段階から品質を作り込むことで、立上げ期間短縮と歩留まり向上を実現します。また、装置選定から立上げまで一貫対応し、現場負荷を低減します。 お客様の材料・工程条件に応じた最適な分散プロセスをご提案します。まずは現状課題をご相談ください。 初期検討から量産立上げまで支援致します。 工程設計の考え方や導入事例は公式サイトでもご覧いただけます。

    乳化・分散機分散・乳化装置・ホモジナイザー乳化分散機
スクリーンショット

分散品質を安定化する固液混合 分散機 (連続システム) 

スクリーンショット 2024-02-20 160238.jpg
スクリーンショット 2024-02-20 160238.jpg IKA+shibuya .png インライン固液混合パイロットプラント.jpg IPROS75789733974651137068.png IPROS29562848587318290804.png
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  • 特設サイト - 製品・サービス詳細 - https://pr.mono.ipros.com/shibuya/product/

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基本情報

本システムは粉体供給から固液混合・分散・調合・CIP洗浄までを一貫して設計可能なインライン固液混合分散システムです。 粉体投入時の濡れ性制御と高せん断分散により、ダマ発生やナノ粒子凝集を抑制し、短時間で均一な分散状態を実現します。 連続プロセス化により分散時間の短縮と処理量の向上が可能であり、スケールアップ時の再現性確保にも寄与します。 さらに材料特性(粒径分布・粘度・温度特性)に応じたプロセス設計により、粒径ばらつきや再分散不良を抑制します。 装置単体ではなく工程全体で最適化する設計思想により、品質安定と省エネルギー化を両立します。データロギング、レシピ管理機能の搭載も可能です。 特に電池材料スラリーや高機能材料など、高粘度・ナノ粒子分散を要する用途において高い効果を発揮します。新規工場の立上げから既存ライン改造まで対応可能です。

価格情報

仕様により異なります。

納期

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用途/実績例

【分散工程の主な課題と適用分野】 ・ダマ発生/粉体投入時の濡れ不良  → 電池材料スラリー、接着剤フィラー分散、樹脂 ・ナノ粒子の凝集/均一分散が困難  → CNT分散、CNF、電子材料スラリー、太陽電池材料スラリー ・スラリー粘度上昇/流動性低下  → 導電ペースト、インク、電池材料スラリー ・スケールアップ時の品質再現性  → 電子材料スラリー、電池材料スラリー、高機能材料 ・分散時間の長時間化/生産性低下  → インク、樹脂、導電ペースト 上記以外の材料・用途についてもご相談ください。

詳細情報

  • インラインvsバッチ .png

    インライン連続式とバッチ式の比較です。 インラインとバッチでは、「流れの状態」が大きく異なります。 インラインは連続的に一定条件で処理されるため、滞留やムラが少なく、再現性の高い分散が可能です。 一方、バッチはタンク内で流速や滞留時間にばらつきが生じやすく、処理状態が不均一になりがちです。 同じ配合・条件でも結果が変わるのは、「流れ」の違いが影響しています。

  • スクリーンショット

    様々な分野に実績があります。CMX 2000 インラインミキサーはバッチ循環式の粉体吸引混合システムです。液中でダマになりやすく、溶解しにくい粉体原料の混合に最適です。2段式の分散/吐出ステージがある為、高粘度な液体でも安定して混合する事ができます。

  • IPROS40862574326751949523.png

    分散前と分散後の画像です。

  • IKA+shibuya

    世界的に有名なIKAグループと澁谷工業は2010年より業務・技術提携をしており、インライン連続分散システムを共同で取り組んでおります。

  • インライン固液混合パイロットプラント.jpg

    インライン固液混合パイロットプラントの画像です。インラインでの連続混合により、省スペースで、短時間での生産が可能です。開発から量産へのスケールアップ支援を行い、研究段階から量産設備まで、シブヤが伴走します。

  • IPROS29562848587318290804.png

    卓上で使用できる小型実験機です。プロセス検討の初期段階でご利用いただけます。

ラインアップ(1)

型番 概要
インライン固液混合分散システム

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この製品に関するニュース(7)

分散不良では粒子が凝集したままとなり、沈降や品質ばらつきの原因となる

分散工程における品質バラつきの原因と対策とは?粒度分布の不安定や再現性低下を防ぐための設計ポイントを解説

  • その他・お知らせ

分散工程において、粒度分布が安定しない、ロットごとに品質がばらつくといった課題は多くの現場で発生しています。これらの品質バラつきは、装置性能だけでなく、分散条件や流動状態、工程設計のばらつきによって引き起こされます。例えば、せん断エネルギーが不均一な場合、粒子の解砕状態に差が生じ、粒度分布の広がりや凝集残存の原因となります。また、バッチ処理では混合ムラや滞留時間の違いにより、ロット間で分散状態が変動しやすく、再現性の確保が難しくなります。特に高粘度系や高固形分スラリーでは、わずかな条件変動が品質に大きく影響します。品質バラつきを抑えるためには、分散エネルギーや流動条件を一定に保つ工程設計が重要です。インライン連続処理のように条件を安定化させることで、ロット間差を低減し、安定した分散品質の実現が可能となります。 さらに、分散工程では装置単体の性能だけでなく、投入順序や滞留時間、流量制御などの運転条件も品質に大きく影響します。インライン連続処理ではこれらの条件を一定に維持しやすく、高粘度スラリーにおいても安定した分散状態を確保できます。工程全体を設計することで、品質バラつきを根本から抑制することが可能です。

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分散品質は装置だけでなくプロセス全体の設計で決まる

分散プロセス設計とは何か?品質を安定させるための重要ポイント

  • その他・お知らせ

分散工程において、装置の性能だけでは安定した品質は得られません。重要なのは、材料特性や工程条件を踏まえたプロセス全体の設計です。これを分散プロセス設計といいます。 分散品質は、せん断の強さだけでなく、流動状態や滞留時間、投入方法など複数の要素によって決まります。これらの条件が適切に設計されていない場合、局所的な未分散やばらつきが発生し、安定した品質を維持することが難しくなります。 例えば、粉体投入時の濡れ不良や、流動の偏りによる滞留領域の発生は、ダマや未分散の原因となります。また、せん断エネルギーが十分であっても、すべての粒子に均一に作用しなければ、分散状態に差が生じます。 そのため、分散工程では「流動」「せん断」「処理時間」を一体として設計することが重要です。これにより、すべての粒子に同一の分散履歴を与えることが可能となり、均一で再現性の高い分散品質を実現できます。 特にインライン連続処理では、流れの中で条件を一定に保ちやすく、プロセス設計の再現性を確保しやすいという特徴があります。分散プロセス設計は、品質安定化とスケールアップ成功の鍵となる重要な考え方です。

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連続処理では粒子ごとの分散履歴が揃い、再現性が向上する

なぜ連続処理は再現性が高いのか?分散品質を安定させる仕組みを解説

  • その他・お知らせ

分散工程において、品質のばらつきは大きな課題の一つです。同じ装置・同じ条件で処理していても、ロットごとに分散状態が異なるケースは少なくありません。その主な要因は、粒子が受ける分散履歴のばらつきにあります。 バッチ処理では、タンク内の位置や流動状態によって、粒子ごとに受けるせん断や滞留時間が異なります。その結果、十分に分散される粒子と未分散の粒子が混在し、品質のばらつきが発生します。特に高粘度や高固形分条件では、この傾向が顕著になります。 一方、連続処理では、粒子が一定の処理領域を通過するため、ほぼ同じ分散条件を受けます。せん断エネルギーや滞留時間を一定に制御できるため、分散履歴のばらつきが抑えられ、均一で再現性の高い分散状態を実現できます。 また、連続処理はスケールアップ時にも有利です。流量を調整することで、ラボから量産まで同様の分散品質を再現しやすくなります。これにより、開発から量産への移行時の品質変動リスクを低減できます。 分散工程において重要なのは、すべての粒子に同一の処理履歴を与えることです。連続処理はこの条件を満たしやすく、品質安定化と再現性確保に有効な手法です。

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バッチ混合における流動ムラと分散不均一の発生イメージ

なぜ分散は均一にならないのか?凝集残存や分布のばらつきが発生する原因と均一分散を実現するための設計ポイントを解説

  • その他・お知らせ

分散工程において、見た目は混ざっているように見えても、実際には粒子が均一に分散していないケースは多く見られます。この原因の一つは、粒子同士の凝集が十分に解消されていないことにあります。分散エネルギーが不足している場合、粒子は一次粒子まで解砕されず、凝集塊が残存します。また、せん断条件や流動状態が不均一であると、局所的に分散状態が異なり、結果として粒度分布のばらつきが生じます。特に高粘度系や高固形分スラリーでは、流動性の低さからエネルギーが均一に伝わりにくく、分散ムラが発生しやすくなります。さらに、バッチ処理では混合ムラや滞留時間のばらつきにより、工程内で分散状態が均一に保たれにくい傾向があります。均一な分散を実現するためには、粒子特性に応じた分散エネルギーの設計と、流動条件を均一に保つ工程設計が重要です。インライン連続処理のように一定のせん断条件を維持することで、均一な分散状態と再現性の高い品質を実現することが可能です。投入順序や粉体の濡れ性、分散初期の混合状態も均一性に大きく影響します。特に粉体投入時に局所的なダマや偏在が発生すると、その後の分散工程でも解消されにくく、結果として分散ムラの原因となります。

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澁谷工業株式会社は、レーザ加工機(ファイバレーザ・CO2レーザ等)や半導体組立装置(テーピングマシン、多機能テストハンドラ、ボールマウンタ、ボンダ等)を中心とした精密機械分野において、高速・高精度搬送技術と制御技術を強みに事業を展開しています。 また、世界トップクラスのシェアを誇るボトリングシステムで培ったラインエンジニアリング技術を基盤に、原料(液体・粉体)計量から高粘度スラリー分散、CIP洗浄管理まで、調合プロセス全体の設計・最適化を実現しています。 固液混合分散システムでは、ラボ検証からパイロット、量産ラインまで一貫したスケールアップ対応により、「止まらない・汚さない」安定した生産プロセスを構築。さらに、医薬分野におけるアイソレータや洗浄システムなど、高度な品質要求に応える装置開発にも対応し、多様な産業の生産技術を支えています。 加えて、半導体分野では高精度位置決めや高速搬送制御などのコア技術を応用し、生産性向上と品質安定化に貢献。固液混合分散分野においても、分散状態の安定化や再現性向上といった課題に対し、工程設計を通じて解決しています。

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