大きな熱量の出力も可能なため幅広い基板に"1台"で対応が可能!ICNIRP、電波法などの各種規制に対応『S-WAVE301H』
『S-WAVE301H』は、大きな熱量を要するプリント基板を スポット加熱する製品です。 バスパー、パワー半導体、4層基板、高多層基板、厚銅基板、 セラミック基板、金属ベース基板といった特長的な基板にも対応可能。 低消費電力、高い加熱効率などの特長はそのままです。 ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■低消費電力、高い加熱効率 ■大きな熱量を要するプリント基板をスポット加熱 ■パワー半導体のはんだ上がりを改善 ■バスバーのはんだ上がりを改善 ■ICNIRP、電波法などの各種規制に対応 ■バスパー、金属ベース基板など特長的な基盤にも対応可能 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【機能】 ■磁気集中ヘッド ・コイル定格電流(可変範囲):210A(40~100%) ・発振周波数:750~1100kHz ・加熱可能ワーク幅:~φ2.0、~t2.0 ■入力 ・入力電圧:AC100~240V 50/60Hz 1φ ・最大入力電力:600W ■冷却方式:水冷_外部冷却水循環器を使用 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。
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