“サセプタ不用"の高スループットSiCウェハアニール！4-8インチウェハに対応
『HEATPULSE』は、サセプタ不要のSiCウェハアニールが可能な 高速加熱処理(RTP/RTA)装置です。 独自技術により高温プロセスも効率化。 パワーデバイス関連、およびその他の半導体業界、または高温高速 加熱処理が必要な方に好適な装置です。 【特長】 ■独自技術により、サセプタ無しでのSiCアニールを実現 ■パージ効率、昇温レートの向上により、約1.5倍の高スループット、 プロセスの柔軟性も向上(当社サセプタ使用装置と比較) ■新モデルでは2チャンバ構成に対応し、シングルからダブルチャンバへの 将来のアップグレードも可能 ■Plasma-Therm独自のユーザーフレンドリーな制御システム「Cortex」 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【仕様】 ■4-8インチウェハに対応 ■DTC(Direct Thermocouple)で基板温度を直接測定 ■デュアルチャンバ(最大2チャンバ、2クーリングステーション、2カセット対応) ■自動3軸アライナ ■フットプリント80"×52"(203cm × 132cm) ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯
納期
用途／実績例
【用途】 ■SiCウェハの熱処理工程でのRTP(Rapid Thermal Processing)に対応 ■Si,SiC,Sapphire(サファイア),GaAsウェハの加熱処理 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
企業情報
プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社は、プラズマ技術を応用した半導体製造装置の販売およびサポートを行っています。 エッチング装置、成膜装置、プラズマダイシング（切断）装置をはじめ、ICP、RIE、DSE（Deep Silicon Etching）、IBE（イオンビームエッチング）、IBD（イオンビーム成膜）、PECVD、HDPCVD、HDRF、F.A.S.T.（ALDライク成膜）など、多彩なプロセスソリューションをご提供しています。 米国フロリダ州に本社を置くPlasma-Therm LLCは、1974年の設立以来、50年以上にわたりプラズマ技術を応用した半導体製造装置の開発・製造・販売を行ってきました。 半導体、MEMS、化合物半導体、先端パッケージング、研究開発用途から量産用途まで、お客様のプロセス要件に応じた最適なソリューションをご提案します。 装置選定、プロセス開発、デモ評価、保守・メンテナンスに関するご相談も承っております。ぜひお気軽にお問い合わせください。 ▼グループ会社 Corial 公式サイト https://corial.plasmatherm.com/en
