ヘテロ元素を含む試薬で特定の官能基を化学修飾し、導入したヘテロ元素から表面官能基の割合を評価した事例を紹介します。
【分析試料】4,4'-ジアミノジフェニルエーテル（DADPE）、OH 終端した Si ウエハ 【分析方法】XPS；単色化 AlKα線（アルバック・ファイ製 PHI5000 VersaProbe II） 【分析結果】 1. アミノ基の評価 ヘテロ元素である F に着目して解析を行った結果、試料由来の C に対するアミノ基の割合は 19at%でした。 2. シラノール基の評価 ヘテロ元素である F に着目して解析を行った結果、試料由来の Si に対するシラノール基の割合は 3at%でした。 【まとめ】 化学修飾した試料の XPS 分析によって表面官能基の割合を求めることが可能です。また、今回行った評価の他に、材料特性が異なる試料表面を分析して表面官能基の割合を比較することで、表面官能基が材料特性に与える影響を評価することも可能です。
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