ウェーハステージの傾斜/回転機能により、フィーチャーセッティングが可能！
『QuaZar』は、大面積イオンソースと高度なモーションコントロールによる 精細な薄膜成膜アプリケーションを実現したイオンビーム成膜プロセスを 可能にするダメージフリーイオンビーム成膜ソリューションです。 独自開発のMarathon-grids技術の応用をはじめとしたメンテナンス周期の 延長は生産上重要な要素であり、現在お使いの既存のシステムに 設置することも可能。 ターゲットは設定したエネルギーのイオンビームでスパッタリングされるため 広いプロセスウィンドウを有します。 【特長】 ■RFシャントによるイオンソースの短絡を防止するREDEPブレーカー ■イオンソースのアノード消失を防止する補助電極システム ■機械式シャッターが不要なバーチャルシャッターの採用による パーティクル削減 ■2つ中和器を一体化したのDual PBN(オプション) ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。
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基本情報
【その他の特長】 ■イオンビームスパッタはロングスロー方式を採用し、低圧、高指向性のスパッタプロセス ■最大8ターゲットの装着が可能 ■イオンソースからのイオンビームは、集束グリッドを通過してターゲットに照射される (2MHz ICPイオンソース、ディッシュ型3グリッドイオン光学系を使用) ■300eV〜1500eVのイオンエネルギーと最大420mAのビーム電流 ■ターゲットに対して0度から90度までの傾斜角度が可能 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。
価格帯
納期
用途／実績例
【用途】 ■磁性層の高精度成膜に使用(NiFe、FeCo、CoFeB、Pd、Co) ■MTJ用メタル層・誘電体層の成膜に使用(MgO、Al2O3、Ru) ■メタライゼーション層の成膜に使用(TiW、Ti、Ta、W) ■高屈折率及び低屈折率酸化物 の成膜に使用(SiO2、Ta2O5、Nb2O5、TiO2 ■EUVマスクブランクス超薄膜多層膜の成膜に使用(Si、Mo、Ru) ■高温ボロメトリック・サブストイキオメトリック膜の成膜に使用(Vox、TiOx) ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。
企業情報
当社は、プラズマ技術を応用したエッチング、成膜、切断装置に加え、 ICP, RIE, DSE, IBE, IBD, PECVD, HDPCVD, HDRF F.A.S.T.-ALD装置の販売、 並びに、当該装置に関するカスタマーサービスの提供しております。 米国フロリダ州に本社を構える、Plasma-Therm LLCは、1974年に設立。 設立以来、50年以上の経験に基づきプラズマ技術を応用した半導体製造装置の製造・販売を 行っています。 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 ▼グループ会社Corial 公式サイト https://corial.plasmatherm.com/en
