日本発のまったく新しいガスイオン注入も可能なDLCコーティング装置です。
・真空装置部の大型が容易に可能で最大長さ4m、直径1.2mの大型装置の納入実績もあります ・完全自動運転のためコスト低減が可能です ・DLC成膜のほかに簡易なイオン注入も可能で新しい材料の開発も可能です ・自転公転機構やヒーターが必要ないため真空装置内のパーティクルの発生を最小限に抑えることが可能です
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基本情報
・栗田製作所新開発のプラズマ発生方式により三次元形状物でも全方位に均一にDLC処理が可能です ・ワーク自身がプラズマ発生用アンテナになる為、外部アンテナやイオン源が必要なく簡単にDLC処理が可能になりました ・パルス電源を使用しているため非常に低温（50℃〜）での処理も実現しました ・金属から絶縁物まで幅広い物がこの一台でDLC処理できます
価格情報
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納期
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用途／実績例
・産総研や理化学研究所、各大学において数多くの納入実績があります ・民間企業においてもオリジナルの膜開発用にも多くの実績があります 【DLC膜採用例】 ・液送ポンプ用シール部材 ・食品加工用切断刃 ・半導体材料加工用冶具 ・レース用自動車部品 etc
ラインアップ（5）
| 型番 | 概要 |
|---|---|
| PBII-R450 | PBII-R450は小型の研究用装置です。 サイズのコンパクトさから、試験片製作や基礎データ取りに最適な装置です。真空装置が小型な為、真空排気時間も非常に短く、実験時間の短縮にもつながります。このサイズながらプラズマイオン注入成膜装置の最大の特徴を活かし、250mm～300mmサイズまでの大きさまで処理が可能です。 |
| PBII-C600 | PBII-C600は研究開発及び小ロットの生産に適した装置です。 円柱型チャンバ採用により、ワークと接地間距離の均一性が容易に取れる為、膜厚の均一性や膜質向上が期待されます。またΦ650相当あるので、成膜有効範囲も大きく広がり、比較的大きなワークまで処理が可能となりました。 |
| PBII-R1000 | PBII-R1000は、真空装置サイズが約1立米の大型装置です。その為、成膜有効範囲も広く様々なワークへガスイオン注入やDLCコーティングが可能です。 また両面扉式を採用し、装置内部でのワーク据付や内部清掃時の作業性を大幅に向上させました。更に弊社独自技術の大容量電源を標準搭載する事で、安定したプラズマ生成や複雑形状物へのコーティングも可能となりました。 |
| PBII-R1500 | PBII-R1500はチャンバサイズ、横1500mm、高さ1500mm、奥行き最大1800mmとR1000に比べ容積比で5倍の大型装置です。R1000と同様な使い易さで大型・長尺ワークへの成膜も可能になりました。更に弊社独自技術の大容量電源を複数個搭載する事で、安定したプラズマ生成や大型ワークへのコーティングも安定して実現しました。 |
| PBII-C2000 | PBII-C2000は真空装置が長さ約2m、径1.2mの大型装置です。その為、大型ワークへのDLC膜成膜が可能になりました。重量物搬送用に自動搬送台車もオプションでご用意しております。搬送台車上にワークをセッティングすれば電極との結合も真空装置内で自動で行なわれ作業性を大幅に向上させました。弊社独自技術の大容量電源を複数個搭載し、安定したプラズマ生成や大型ワークへの成膜も安定して実現しました |
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企業情報
長年培ってきたパルス電源技術を応用し、 新開発の各種プラズマ制御用電源や 表面処理装置の開発で、必ず御社のニーズに お答えします。
