光干渉法による膜厚測定の原理
光干渉法と自社製高精度分光光度計により、非接触・非破壊かつ高速高精度での膜厚測定を可能にしました。 光干渉法は、分光光度計を利用した光学系によって得られた反射率を用いて光学的膜厚を求める方法です。 図１のように金属基板上にコーティングされた膜を例にとると対象サンプル上方から入射した光は膜の表面で反射します（R1）。さらに膜を透過した光が基板（金属）や膜境界面で反射します（R2）。この時の光路差による位相のずれによっておこる光干渉現象を測定し、得られた反射スペクトルと屈折率から膜厚を演算する方法が光干渉法です。
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基本情報
●膜厚測定範囲： 1nm～35μm（機種選択による） ●測定時間 ： 1秒／1ポイント ●測定径 ： φ5μm、φ10μm、φ20μm、φ40μm
価格帯
納期
用途／実績例
●機能性材料 ： 光学フィルム（AR膜、ベースフィルム、ITO、WET膜なそ） 機能性材料（SAW／BAWフィルター、レンズ、DLC膜、ポリイミドなど） 医療用材料（カテーテル、バルーン、鉗子など） ●半導体 ： Si半導体（SiO２/Si、レジスト/Si、SiO2/a-Si/SiO2/Si、SOI、Siなど） 化合物半導体（a-Si/GaAs、Al2O3/GaAs、a-Si/Al2O3/GaAs。SiC、GaN、Ga2O3など）
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企業情報
大塚電子は、独自の｢光｣技術を用いて、大塚電子にしか出来ない画期的な新製品を作り出しています。 創業以来積み上げてきた要素技術を融合させながら、医用機器、分析機器、分光計測機器という3つの事業を展開しています。 【医用機器】 親会社である大塚製薬をはじめ、試薬メーカーなどと連携した、臨床検査機器、医療機器の開発・生産を主体とする事業を展開。最新テクノロジーを集結し、人々の健康に貢献しています。 【分析機器】 新素材解析のコアテクノロジーである光散乱の技術を、ナノテクノロジー領域の物性測定に応用。粒子径、ゼータ電位、分子量の測定法を基準に、新素材、バイオサイエンス、高分子化学、さらには半導体や医薬分野などへの展開を図ります。 【分光計測機器】 分光計測技術の代名詞であるマルチチャンネル分光器と、長年にわたって培ってきた解析技術の蓄積による製品群を生み出しています。多様化するニーズに応えながら、幅広い分野へと拡大し続けています。