成膜プロセスに最適化！1台からカスタム対応の高圧電源
半導体製造における成膜プロセスでは、高品質な薄膜形成のために、高精度な電源制御が求められます。特に、均一な膜厚と高い再現性を実現するためには、電源の安定性が重要です。不適切な電源は、膜質の低下や歩留まりの悪化につながる可能性があります。当社のカスタム対応特殊高圧電源は、成膜プロセスに最適な仕様で、1台から対応可能です。 【活用シーン】 ・スパッタリング ・CVD（化学気相成長） ・ALD（原子層堆積） 【導入の効果】 ・成膜プロセスの最適化 ・膜質の向上 ・歩留まりの改善
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基本情報
【特長】 ・1台からカスタム対応 ・据置BOX、ハンディ、ラック、モジュールタイプ ・1kV～100kV、Max. 750W対応（標準モデル） 【当社の強み】 株式会社理経は、65年にわたりIT及びエレクトロニクス業界のソリューションを提供してきた実績があります。お客様のニーズに合わせた最適なソリューションを提供します。
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企業情報
株式会社理経は1957年設立、65年目を迎えるIT及びエレクトロニクス業界のソリューションベンダーです。 システムソリューション、ネットワークソリューション、電子部品及び機器の分野で、世界の最先端技術・先進的な製品を核とした多彩なソリューションを、お客様のニーズに合わせた最適な「一歩先のソリューション」として提案しています。
