半導体製造における成膜プロセスを支えるグラファイトヒーター
半導体業界の成膜プロセスでは、高品質な薄膜形成のために、精密な温度管理が不可欠です。特に、高温環境下での均一な温度分布と、高い耐久性が求められます。不適切な温度管理は、薄膜の品質低下や歩留まりの悪化につながる可能性があります。当社のグラファイト加工事例である高温炉・真空炉用ヒーター（エレメント）は、電気エネルギーを熱に変換し、炉内の温度を上昇させることで、これらの課題に対応します。 【活用シーン】 ・CVD（化学気相成長） ・PVD（物理蒸着） ・ALD（原子層堆積） 【導入の効果】 ・均一な温度分布による高品質な成膜 ・高い耐久性による安定した稼働 ・オーダーメイド対応による最適なサイズと形状
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基本情報
【特長】 ・熱に対する優れた性質 ・高い導電性 ・軽量で加工が容易 ・耐薬品性 ・自己潤滑性 【当社の強み】 創業78年の実績と、カーボン・グラファイト加工のノウハウ 多種多様な材料のストック 量産から1個まで対応可能な柔軟性 手書き図面にも対応
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企業情報
当社は、2026年を以って79周年を迎える事が出来ました。 マシニングやNC旋盤といった高性能の機械が出来る前より長きにわたり カーボン・グラファイトの加工の老舗として業界を引っ張って参りました。 ・各材料メーカー様より仕入れた多品種の材料を常にストックしています ・受注生産ですので、量産又は1個からでも承ります ・図面は手書きでも構いませんので、お見積もりだけでもお気軽にお声がけください
