特定の官能基を化学修飾し、導入したマーカー元素から試料間の表面官能基（水酸基、カルボキシ基）の相対比較をした事例を紹介します。
高分子材料表面の元素の化学状態などを把握するにはX線光電子分光（XPS）が用いられますが、直接材料表面の官能基を定量することは困難です。そこで、XPS分析に適したヘテロ元素を含む試薬で特定の官能基を化学修飾し、導入したマーカー元素から表面官能基（水酸基、カルボキシ基）を評価した事例を紹介します。 【分析試料】ポリビニルアルコール（PVA）、ポリアクリル酸（PAA） 【分析方法】XPS；単色化AlKα線（アルバック・ファイ製 PHI5000 VersaProbe II） 【分析結果】 1. 水酸基の評価：無水トリフルオロ酢酸（TFAA）によるポリビニルアルコール（PVA）（ケン化度：約80%）中の水酸基の修飾を例に挙げて紹介します。 2. カルボキシル基の評価：トリフルオロエタノール（TFE）によるポリアクリル酸（PAA）中のカルボキシ基の修飾を例に挙げて紹介します。 化学修飾-XPS法を光学用ポリマーフィルムや液晶ディスプレイ用配向膜などに対して適用することで、試料間の表面官能基の相対比較により、物性との相関を把握することが可能となります。
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