サブミクロンレベルのパーティクル除去を実現する洗浄ユニット
フォトマスク業界では、製造プロセスにおける微細なパーティクルの除去が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な課題です。特に、ウェハーやフォトマスクの洗浄においては、サブミクロンレベルの異物除去が求められます。不適切な洗浄は、デバイスの性能低下や不良品の発生につながる可能性があります。当社洗浄ユニット『近接型メガソニック PA10-Q60AE-S』は、基板直近での洗浄を可能にし、サブミクロンのパーティクルを除去することで、これらの課題に対応します。 【活用シーン】 ・シリコンウェハーの洗浄 ・フォトマスクの洗浄 ・CMP後の洗浄 ・枚葉式洗浄 【導入の効果】 ・高い洗浄性能による歩留まり向上 ・製品の品質向上 ・洗浄時間の短縮
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基本情報
【特長】 ・ノズル材質は石英のため低発塵で薬液に耐久性がある ・ノズル先端より1.0MHzまたは3.0MHzの音波を照射 ・低出力領域からリニアリティーの高い発振を可能としている ・基板直近での洗浄するため、サブミクロンのパーティクルが除去できる ・空振り防止機能保有する液供給が可能 ・基板への振り切り動作も可能で基板全体への再現性の高い洗浄を実現 ・多様な発振モードを搭載し、基板プロセスに適応した調整が可能 【当社の強み】 当社は、半導体業界のお客様の用途、製造ライン等に対応した各種装置の開発・設計・製造及び販売を行っています。顧客仕様に基づくカスタマイズ生産に特化し、設計、開発、組立て、検査、据付、保守に至るまで製品のライフサイクルをトータルにサポートしています。
価格帯
納期
用途／実績例
【用途】 ■シリコンウェハー、フォトマスク、液晶ガラス、磁気ディスク等の洗浄、CMP後の洗浄、枚葉式洗浄 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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企業情報
当社は、半導体業界、フォトマスク業界、ディスク業界及びレンズ業界に対し、 お客様の用途、製造ライン等に対応した各種装置の開発・設計・製造及び販売 などを行っている会社です。 顧客仕様に基づくカスタマイズ生産に特化し、設計、開発、組立て、検査、 据付、保守に至るまで製品のライフサイクルをトータルにサポート。 すべての工程で顧客と密接な関係を構築することで直接、顧客の考える問題点や 技術トレンドを感じ取り、それに応じた開発にいち早く着手しています。
