レジストに像が形成される過程をコンピュータ上に再現！好適なプロセス条件を効率的に発見
「リソグラフィ・シミュレータ」とは、露光装置の振る舞いと レジスト(感光性を持つ有機材料)の振る舞いを計算するツールです。 実際のプロセスにおけるパラメータを入力することにより、レジストに 像が形成される過程をコンピュータ上に再現し、好適なプロセス条件を 効率的に見つけることが可能。 シミュレータには、実際のリソグラフィ・プロセスと同様さまざまな 設定を行なうことができます。 【光学系 入力】 ■照明形状 ■コヒーレンス・ファクタ ■マスクパターン ■マスクの要素属性 ■開口数・フォーカス ■収差・フレア ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
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基本情報
【レジスト 入力】 ■膜厚 ■屈折率 ■DillのABCパラメータ ■PEB温度 ■酸の拡散長 ■その他 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
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企業情報
リソテックジャパンは、創設以来リソグラフィのスペシャリストとして、レジスト露光/現像解析装置、レジストコータ/デベロッパ、リソグラフィシミュレータに加え、最先端リソグラフィプロセス向けに露光/現像材料評価等もご提供しております。 特にレジスト処理装置では、スピンコータ、デベロッパ、ベーク（PEB)装置、膜厚測定等を様々な分野に適応させて、開発用実験装置から生産用全自動システムまでご要望に応じた最適な仕様をご提案しています。 例えば、極薄シリコンウェーハ / 各種化合物半導体 / 石英 / サファイヤ / 圧電基板(SAW)等の各種基板に対しての、ArFレジスト / EBレジスト / 高粘度厚膜レジスト / ポリイミド / 絶縁膜 / ワックス等の塗布装置やアルカリ / 無機/有機等の現像装置をラインナップしています。 その他に、HMDS処理 / 真空減圧ベーク / UV照射 / 高温ベーク処理等各種プロセスユニットを用意しています。
