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仕上分散システム MKO

最終更新日:2026年07月31日

澁谷工業株式会社
澁谷工業株式会社
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ビーズミル前工程のプレミキシングで、分散効率と再現性の向上に貢献。

MLCC(積層セラミックコンデンサ)材料の製造では、ビーズミルによる微細分散の前工程であるプレミキシングが、その後の分散品質や生産性を左右する重要な工程です。プレミキシングが不十分な場合、粗大凝集物が残存し、ビーズミルの負荷増加や処理時間の長時間化、分散品質のばらつきにつながることがあります。 コーンミル「MKO」は、ローターとステーターの間で発生する高いせん断力により、粗大凝集物を効率よく解砕しながら均一なプレミキシングを行うインライン式コーンミルです。ビーズミルへ投入する前のスラリー状態を安定化することで、後工程の処理効率向上や再現性向上に貢献します。 MLCCメーカーでビーズミル前工程への採用実績があり、セラミックススラリーをはじめ、電子材料、高固形分スラリー、機能性材料など幅広い用途に対応しています。単なる装置提案ではなく、プレミキシングから後工程までを考慮したプロセス設計をご提案します。

    乳化・分散機分散・乳化装置・ホモジナイザー真空脱泡機
MKMKO.jpg

MLCC材料のプレミキシング分散に コーンミル「MKO」

MKMKO.jpg
MKMKO.jpg MKO中身.jpg IKA+shibuya .png MKO.jpg MKO_silver altern_1_a.jpg
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  • 特設サイト - 製品・サービス詳細 - https://pr.mono.ipros.com/shibuya/product/

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基本情報

【処理方式】 インライン連続式コーンミル 【特長】 ・ローター/ステーター構造による高せん断処理 ・粗大凝集物の解砕と均一なプレミキシングを同時に実現 ・ビーズミル前工程に好適なスラリー状態を形成 ・連続処理による安定した品質と高い再現性 ・高粘度・高固形分スラリーにも対応 ・循環運転にも対応し、目的に応じた処理条件を設定可能 ・分解・洗浄が容易な構造でメンテナンス性にも配慮 【ラインアップ】 研究開発向けラボ機から、生産機まで幅広い機種をラインアップ。処理量や材料特性に応じた好適な機種をご提案します。 【対応材料】 MLCC用セラミックス材料、電子材料スラリー、各種無機材料、顔料、機能性材料、高固形分スラリーなど ※処理能力や仕様は、材料特性・粘度・粒径・機種により異なります。

価格情報

仕様により異なります。

納期

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用途/実績例

・MLCC用セラミックススラリーのプレミキシング ・電子材料スラリー ・セラミックス材料 ・顔料・無機フィラー分散 ・高固形分スラリー ・機能性材料 ・電池材料スラリー ・化学品・ファインケミカル 【導入実績】 MLCCメーカーにおいて、ビーズミル前工程のプレミキシング設備として採用実績があります。 粗大凝集物の解砕と均一なプレミキシングにより、後工程であるビーズミルの処理効率向上や分散品質の安定化に貢献しています。

詳細情報

  • IKA+shibuya

    世界的に有名なIKAグループと澁谷工業は2010年より業務・技術提携をしており、インライン連続分散システムを共同で取り組んでおります。

  • インライン固液混合パイロットプラント.jpg

    インライン固液混合パイロットプラント。連続混合によりダマを抑制しながら安定分散を実現します。省スペースかつ短時間処理に対応し、研究開発から量産まで一貫したスケールアップ検討が可能です。

  • IPROS29562848587318290804.png

    卓上で使用できる小型実験機です。プロセス検討の初期段階でご利用いただけます。

ラインアップ(1)

型番 概要
インライン固液混合分散システム

カタログ(1)

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インライン固液混合分散システム

インライン固液混合分散システム

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この製品に関するニュース(2)

分散品質は装置だけでなくプロセス全体の設計で決まる

分散プロセス設計とは何か?品質を安定させるための重要ポイント

  • その他・お知らせ

分散工程において、装置の性能だけでは安定した品質は得られません。重要なのは、材料特性や工程条件を踏まえたプロセス全体の設計です。これを分散プロセス設計といいます。 分散品質は、せん断の強さだけでなく、流動状態や滞留時間、投入方法など複数の要素によって決まります。これらの条件が適切に設計されていない場合、局所的な未分散やばらつきが発生し、安定した品質を維持することが難しくなります。 例えば、粉体投入時の濡れ不良や、流動の偏りによる滞留領域の発生は、ダマや未分散の原因となります。また、せん断エネルギーが十分であっても、すべての粒子に均一に作用しなければ、分散状態に差が生じます。 そのため、分散工程では「流動」「せん断」「処理時間」を一体として設計することが重要です。これにより、すべての粒子に同一の分散履歴を与えることが可能となり、均一で再現性の高い分散品質を実現できます。 特にインライン連続処理では、流れの中で条件を一定に保ちやすく、プロセス設計の再現性を確保しやすいという特徴があります。分散プロセス設計は、品質安定化とスケールアップ成功の鍵となる重要な考え方です。

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分散不良では粒子が凝集したままとなり、沈降や品質ばらつきの原因となる

分散トラブルの原因とは?凝集・沈降・ばらつきが発生する理由と分散工程で見直すべき設計ポイントを解説

  • その他・お知らせ

分散工程において、凝集が解消されない、沈降が発生する、粒度分布が安定しないといったトラブルは多くの現場で発生しています。これらの問題は装置の性能だけでなく、粒子特性や分散条件、工程設計の不整合によって引き起こされます。例えば、分散エネルギーが不足している場合、粒子は一次粒子まで解砕されず凝集が残存します。また、せん断条件や流動状態が適切でない場合、均一な分散が得られず、沈降や品質ばらつきの原因となります。特に高粘度系や高固形分スラリーでは、わずかな条件差が結果に大きく影響します。さらに、バッチ処理では混合ムラや滞留時間のばらつきにより、再現性の確保が難しくなります。これらの分散トラブルを解決するためには、単に装置を変更するのではなく、粒子特性・分散エネルギー・流動設計を含めたプロセス全体の最適化が重要です。インライン連続処理のように条件を一定に保つことで、安定した分散品質と再現性の確保が可能となります。

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澁谷工業株式会社は、レーザ加工機(ファイバレーザ・CO2レーザ等)や半導体組立装置(テーピングマシン、多機能テストハンドラ、ボールマウンタ、ボンダ等)を中心とした精密機械分野において、高速・高精度搬送技術と制御技術を強みに事業を展開しています。 また、世界トップクラスのシェアを誇るボトリングシステムで培ったラインエンジニアリング技術を基盤に、原料(液体・粉体)計量から高粘度スラリー分散、CIP洗浄管理まで、調合プロセス全体の設計・最適化を実現しています。 固液混合分散システムでは、ラボ検証からパイロット、量産ラインまで一貫したスケールアップ対応により、「止まらない・汚さない」安定した生産プロセスを構築。さらに、医薬分野におけるアイソレータや洗浄システムなど、高度な品質要求に応える装置開発にも対応し、多様な産業の生産技術を支えています。 加えて、半導体分野では高精度位置決めや高速搬送制御などのコア技術を応用し、生産性向上と品質安定化に貢献。固液混合分散分野においても、分散状態の安定化や再現性向上といった課題に対し、工程設計を通じて解決しています。

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