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ASM1101N型 あすみ技研

最終更新日:2021年05月26日

株式会社あすみ技研
株式会社あすみ技研
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110Wの高出力UV洗浄をお手元で手軽に。

UV(紫外線)表面処理技術の用途例 -洗浄と改質- ・パネル・ディスプレイ 製品 フラットパネル、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機EL 用途・効果 ガラス表面の有機系皮膜の除去、ITOと絶縁膜との密着度向上、ガラスとITOの密着向上、各種塗布膜の親水化 ・光学部品 製品 ピックアップレンズ、センサー、半導体製造用レンズ、水晶振動子 用途・効果 レンズ表面の有機系皮膜の除去、樹脂レンズ表面の親水化コーティング、金属系蒸着膜との密着性向上、貼合せ前処理 ・基板 製品 プリント基板、銅基板、セラミック基板ほか 用途・効果 メッキ加工の前処理、レジスト膜表面の有機物除去、はんだとの部品密着性向上 ・樹脂 製品 携帯電話外装、コネクタースイッチ、自動車内装品ほか 用途・効果 塗装と樹脂基材との密着性向上、蒸着膜と樹脂基材との密着性向上、接着剤と樹脂基材との接着性向上、布と樹脂基材との接着性向上

    その他半導体製造装置紫外線照射装置分析機器・装置
あすみ技研 UVオゾン洗浄改質実験装置1.jpg

UV洗浄表面改質装置 ASM1101N

あすみ技研 UVオゾン洗浄改質実験装置1.jpg
あすみ技研 UVオゾン洗浄改質実験装置1.jpg
  • 関連リンク - http://www.uv-asumi.com/products/uv-senjyou-produc…

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基本情報

UV洗浄、紫外線洗浄、UVオゾン洗浄、紫外線オゾン洗浄とも呼ばれる、製品の高精細化に適合した、UVエネルギーによる精密でクリーンな乾式洗浄法です。 低圧水銀ランプより発する短波長の光エネルギー184.9nm、253.7nmはポテンシャルが高く、高精細基板製造過程で生じた有機汚染物質の結合を分解する強いエネルギーを持っています。同時に基盤表面上で紫外線ランプとエアーから生じたオゾンにより酸化反応がおこり、有機汚染物質は揮発性の二酸化炭素や水分となり飛散することで、基盤表面がクリーンになります。 ○高照度、高均一紫外線照射   特殊形状の低圧水銀ランプを採用することで、高い照度を実現。照度均一度は±10%を確保しました。 ○正確なデータ取りが可能  ランプから試料ステージまでの照射距離を10mm刻みで設定出来、最適な照度で実験が行えます。 ○安全な環境を確保  紫外線が外部に漏れない設計です。(※本体の覗き窓は、紫外線を透過させないガラスを使用)  扉を開けるとランプが消える安全設計。 排オゾンの分解除去器もオプションでご用意致します。

価格情報

-

納期

~ 1ヶ月

用途/実績例

<主な用途> ◇高精細部品接着前処理 ◇ワーク表面の有機汚染物質を高効率に分解除去 ◇各種エレクトロニクス部品の歩止まり向上 ◇強い光エネルギーによる表面改質  (接着前処理により難接着材料を易接着性に改質) <特徴> ◆コンパクトな箱型設計 ◆高出力長寿命型低圧水銀ランプを採用 ◆スピーディな処理が可能◆熱処理と違いワークへの熱弊害も軽減 ◆取扱いと設置も簡単 ◆紫外線安全対策機能付き

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UV洗浄表面改質装置 ASM1101N 

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1)ディップコーティング事業 超低速の速度域、速度ムラのない安定した引上げ速度、利用者の操作性に配慮したインターフェイスなど、充実したディップコーティング装置をご提供いたします。 これまでのディップコーティングの使用例を踏まえまして、適切なコーティング条件などをお客様と一緒に考え、新たなアプローチをご提供してまいります。 2)UVオゾン洗浄装置(UVクリーナー) UV(紫外線)によるドライプロセスの洗浄装置を取り扱っています。小型研究用から生産用、洗浄改質だけでなくUV硬化用装置も扱っています。

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