PLAD-271PE PLDシステム
AOVでは、多種多様なお客様のご要望にお応えするために、カスタマイズされた様々な真空製膜装置を取り扱いしております。AOVの取り扱う真空装置は物理気相蒸着（PVD）法と化学気相蒸着（CVD）法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD（パルスレーザ蒸着）装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト（IBAD）蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス（酸素、窒素、アルゴン等）下における高温基板加熱技術、高温下における安定した駆動制御機構に特徴があり、ご好評を頂いております。 製品の詳細情報はWebサイトをご覧ください。
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基本情報
PLAD-271PE PLDシステムはエキシマレーザとの制御により自動成膜（レーザショット数、ターゲット切替等々）を簡易に行えます。 独自の回転式SiC基板加熱により、基板面上で850度以上の加熱が行えます。 ターゲットは20mm径を6個有し、自転およびプログラム式公転により、ターゲット上の照射が均一になる様に補正されます。
価格情報
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納期
用途／実績例
各種民間企業、官公庁
企業情報
基礎研究、製造開発等のお客様のご使用用途に応じてカスタマイズしたシステムを提供できるため、様々な企業、研究機関の方々にご利用いただいております。 自社の西八王子工場における自社設計・自社製造に重点を置き、メンテナンス・修理はもちろん、交換部品、消耗部品のバックアップなども迅速に対応させていただいております。 基礎研究用の小型PLDから製造を目的とした高出力レーザを用いた大型PLDまで、レーザ＋光学系＋製膜装置の全体で製造、提供します。 ■ 高酸素雰囲気、高温環境のヒータに対応したPLD装置 のご提供 ■ エキシマレーザ、Nd：YAGレーザ等、各レーザの特徴に 応じた機種選定、光学系のご提案 ■ 製膜材料、用途に応じたカスタマイズ設計、製造 ■ 周辺の必要設備、安全対応等の全体でのご提案