コンパクトで省電力！デバイス作成向け単結晶高純度ダイヤモンド合成実験用プラズマCVD装置
ダイヤモンドの単結晶成長(ホモエピタキシャル)が可能な 高純度のダイヤモンド合成実験を行うためのプラズマCVD装置 【特徴】 ○コンパクトで省電力 ○超高真空技術を駆使しており、プラズマが室壁に接触しないため デバイス作成向け単結晶高純度ダイヤモンド合成実験が可能 ○球状コンパクトチャンバー＋特殊電極により、高効率な運転が可能 ○放電状態を見ながらの実験が可能 ○試料導入はロードロック方式への発展が可能 ○完全なシールド構造により、マイクロ波の漏れ対策は万全 ○全て空冷仕様により、電力とガス供給のみでの運転が可能 ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。
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基本情報
ダイヤモンドの単結晶成長(ホモエピタキシャル)が可能な 高純度のダイヤモンド合成実験を行うためのプラズマCVD装置 【特徴】 ○コンパクトで省電力 ○超高真空技術を駆使しており、プラズマが室壁に接触しないため デバイス作成向け単結晶高純度ダイヤモンド合成実験が可能 ○球状コンパクトチャンバー＋特殊電極により、高効率な運転が可能 ○放電状態を見ながらの実験が可能 ○試料導入はロードロック方式への発展が可能 ○完全なシールド構造により、マイクロ波の漏れ対策は万全 ○全て空冷仕様により、電力とガス供給のみでの運転が可能 ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。
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企業情報
1972年、初代社長堀田が自宅の玄関先を作業場に 大誠産業株式会社を設立して以来、技術開発、 研究開発の仕事に打ち込んでまいりました。 当初は、気象研究所のポラックカウンタなどの開発に携わり、 空気を科学する仕事から始まりました。 その後、リークデテクタのメンテナンスサービスを 始めるなどして、次第に真空の世界に仕事を広げて行きました。 創立10年頃から超高真空の仕事が増え始め、 創立15年頃には小型の装置を製造できるようになりました。 現在、仕事の守備範囲は格段に増え、超高真空、 MBE、CVD、ECR、RFラジカル源など単に真空装置に止まらず、 各種のプラズマ、イオンあるいは電子を利用した 機能部品の開発を進めております。 今後、真に先端技術の世界で通用する 小企業を目標にしたいと考えております。