真空管での安定放電を実現
両極とも真空管を採用している為、安定したプラズマ生成が可能になりました。
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基本情報
・高耐久性の真空管採用により、高速立上がり、マイクロパルスが可能になりました。 ・両極性各々のパルス制御が可能です。 ・もちろん片極性での使用も可能です。
価格情報
仕様により異なりますので、お問合せ下さい
納期
用途／実績例
・イオン注入用装置電源 ・パルスバイアス用電源 ・絶縁破壊試験用電源 ・真空プロセス用電源
ラインアップ（3）
| 型番 | 概要 |
|---|---|
| PVB－20K05A | 出力電圧:2～-20kV,出力電流:0～5Ap,周波数:SINGLE～5kHz,パルス幅:1～20μs,DUTY:2％以下,立ち上り時間:1μs以下,立ち下り時間:負荷インピーダンスによる,サイズ:600(W)×730(D)×1680(H) |
| PVB－20K10A | 出力電圧:2～-20kV,出力電流:0～-10Ap,周波数:SINGLE～5kHz,パルス幅:1～20μs,DUTY:2％以下,立ち上り時間:1μs以下,立ち下り時間:負荷インピーダンスによる,サイズ:600(W)×730(D)×1680(H) |
| PVB－20K50A | 出力電圧:2～-20kV,出力電流:0～50Ap,周波数:SINGLE～5kHz,パルス幅：1～20μs,DUTY:3％以下,立ち上り時間:(-)200ns・(+)1μs以下,立ち下り時間:負荷インピーダンスによる,サイズ:850(W)×940(D)×1730(H) |
カタログ（1）
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企業情報
長年培ってきたパルス電源技術を応用し、 新開発の各種プラズマ制御用電源や 表面処理装置の開発で、必ず御社のニーズに お答えします。
