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更新日:2025年07月10日 集計期間:2025年07月02日〜2025年07月08日 ※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。
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低粘度~高粘度レジスト対応!小口径~大口径まで、どのウェハサイズの装置も作製可能です!
逆テーパー角度を一定に!ネガレジストやイメージリバーサル用のレジストに必要な露光後ベーク(PEB)対応自動レジスト現像装置です。
高い圧力から霧状の柔らかい圧力まで自由自在!2流体スプレーレジスト現像装置。厚膜などの現像時間を短くするのに有効です。
今までの露光装置とは生産性が違います!
一般的なイオン交換型金属除去膜から半導体アプリケーションに特化した金属除去膜まで幅広いラインナップ。
スプレー及びパドル現像が行なえる、小型卓上タイプのスピンデベロッパー
高圧ジェットで驚きの剝離能力!当社独自の特殊ノズルで、枚葉による高速処理・高剥離力・低消費薬液でのリフトオフを実現しました!
枚葉式のためプロセスの再現性が高く、薬液使用量も少なく済みます。品質向上・プロセス安定ニーズにお応えするレジスト現像装置です!
半導体・医療機器分野に求められる高清浄度に対応。精密洗浄から包装・組立までを一貫してクリーン環境で行います。
用途に応じた幅広い孔径(1nm相当の微細孔径も)と清浄度を有するポリエチレンフィルタ
クリーンルーム対応の精密機器据付から保守まで、半導体製造装置の導入をトータルサポート! 補足情報
厚膜現像や処理時間短縮に効果を発揮する1流体現像装置です。スプレー形状(円形、扇等)、圧力、流量などを自由に選択できます。
多彩な薬液に実績あり!低価格の理由は、設計から販売まで自社で行っているからです
【超高圧ジェットでメタル&レジスト除去】ASAP専用ノズルで、枚葉による高速処理・高剥離力・低消費薬液でのリフトオフを実現!
低弾性でFPCの折り曲げが容易。薄型化・軽量化、設計自由度アップに貢献
レジストの溶解量が多い(液寿命の増加)!ネオ現像液
カバーガラス一体型タッチパネル(OGS)用レジストコーター
生産設備・研究開発向け!薄膜電子部品工程における一連のプロセスを提供!
霧化方法・薄膜形成方法など、当社の最新ノウハウを初心者の方にも分かりやすく解説
Compact & Resonable for Highend Process !
最短半日見積り/金属部品から樹脂製品まで、半導体製造装置に関わる部品を実績にてご紹介!
塗料ロスが極めて少なく、対応電池パネルやガラスの製造ラインにも対応。
丁寧な打ち合わせの後、お客様のニーズを満たす乾燥装置をお作り致します。
純水1/4RC 圧縮空気1/4RC!薬液をスプレー塗布する装置
電子部品生産システム、冷間鍛造自動車部品、クーラント関連機械の総合カタログ
最大加工サイズφ1000×500、工程集約による短納期対応、複数面アプローチによる複雑形状の高精度加工
チューブポンプのイメージを一新するチューブポンプディスペンサー。 微少量吐出・高速連続吐出・高精度吐出を実現。動画あり
昇温した有機薬液による化学反応と、高圧ジェットの 物理的アシスト利用した剥離性能の高い 枚葉式レジスト剥離・リフトオフ装置
昇温した有機薬液による化学反応と高圧ジェットの物理的アシスト利用した剥離性能の高い枚葉式レジスト剥離・リフトオフ装置【テスト可】
薬液使用量削減の最適ツール
半導体業界におけるトータルエンジニアリングパートナー 2,000件を超える半導体分野の実績
クリニック様、薬局様の会計業務削減に貢献! ※IT導入補助金(デジタル化導入類型)利用可能
薬液供給装置・薬液回収装置
生産規模に応じて複数チャンバーに対応。ウエハーの均一なエッチングを実現します。
お客様のご要望に沿ったカスタマイズ仕様。実験機から生産機まで対応可能です。
ワークや用途に応じた仕様にカスタマイズが可能です。
排ガス・風量に応じた室内型スクラバーを装着することにより、排ガス処理設備が無い場所でも、安全な運転環境を実現できます。
シンプルデザインの卓上式マニュアルスピンナー
シンプルデザインのマニュアルスピンコーター
多目的全自動スクリーン印刷機
遠赤外線加熱装置
簡単操作のCtoCロボット搬送付き現像/エッチング装置。用途によりデベロッパー、エッチャー共に製作可能
ACサーボを採用し常に安定した回転精度のスピンナー(スピンコーター)
高品質・低価格・省スペースを追求 スイングスプレー式、パドル方式の両方に対応したデベロッパー
自動機を購入するほど生産量が多くないが、プロセスの再現性を求めるお客様向けのセミオートデベロッパーです。
自動機よりも安く、マニュアル装置より使いやすいセミオートタイプのリフトオフ装置です。
【枚葉式でDIP並みの膨潤】リサイクル式循環ヒーターにより、高温・高剥離力・低消費薬液での膨潤・高圧ジェットリフトオフを実現!
【複数サイズのウエハを段取り替えなしで処理!】複数サイズ兼用装置はダウンタイムが少なく、生産性が高いリフトオフ装置を実現!
電子ビーム描画装置、EUV露光装置、ナノインプリント・リソグラフィ用途 粉体と溶液の2種類を提供可能!
直動形電磁弁
セミコンジャパンカタログ展示コーナー
高性能のポンプを使用し高精度の塗布を行うウエハレジスト塗布装置
フレキシブルプリント基板(FPC)用の高精度片面露光装置
フレキシブルプリント基板(FPC)用の高精度両面露光装置
FPD製造工程で威力を発揮するフィルム用整合付半自動露光装置
190WPHの高スループットを実現したマスクアライナ
顕微鏡オート移動など、生産性、使い勝手に優れたアライナ
材料幅はTAB/CSP/COF用で35mm~160mm、FPC用で250~300mmに対応します!
弊社が得意とする【半導体分野向けソリューション】をお客様に合わせてご提案致します!
再現性±0.3%(F.S.)以下、大幅な省レジストを実現
リチルピュアで解決!高純度性に優れたPFA樹脂リチルライニング
「高純度フォトレジスト液製造設備関連の課題は日本フッソ工業にお任せください!」
「コーティングの効果を事前に確かめておきたい」 そんなニーズにお応えするため、吉田SKTではコーティング面の測定も承ります。
半導体、ディスプレイ、プリント基板等で欠かせないフォトレジスト材料に関する基盤技術やノウハウを集約しております。
PFASフリーでありながら、高い性能を実現する界面活性剤!
半導体製造装置 アルミ部品 マシニング加工【コストダウンはフィリール株式会社にお任せください】
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