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更新日:2025年07月10日 集計期間:2025年07月02日〜2025年07月08日 ※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。
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高平坦度・高位置精度のキャリア
プランゼーのイオン注入用タングステン・モリブデン製品は、高い信頼性と迅速なサービスで多くの半導体製造メーカーに愛用されています。
油を使えない真空環境下での仕様に最適
生産機としても使用でき、多くのユーザー様で採用されております。
高品質なディスク再生を低価格にてご提供するサービス
半導体から医療まで様々な製品への注入が可能! Si,SiC,GaN等に好適!
【RoHS 環境対応品】絶縁性や耐熱性に優れたセラミックブッシングです。分析機器や真空装置の部品として幅広く採用されております。
最短半日見積り/金属部品から樹脂製品まで、半導体製造装置に関わる部品を実績にてご紹介!
ソーラーシステムや暖房システムの充填作業に最適!強力なポンプの注入器
広範囲で安定した放電を実現した高出力RFイオンソースです。
装置安定稼働と品質向上にご協力!対応可能装置はお問い合わせください
イオン注入装置のオーバーホールも対応!対応可能装置は、お問い合わせください
炭酸ガスは静電気防止に優れた効果があります。 中空糸膜を介しCO2 GASを給気する方法で、DIWの比抵抗値を制御する装置。
成膜せずにドーピングで物質の表面を改質!耐摩耗性の向上、耐疲労性の向上、摩擦力の減少に貢献します
放射性汚染を最小限に抑制!用途に応じたプラズマ励起技術を提案可能
~150KV(DC)クラスの超高真空用導入端子 導体材質は高融点金属にも対応可能
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安定放電が可能な真空管を利用したパルス電源です。
真空管での安定放電を実現
パルスパワーの出力リターン線に、栗田製作所は銅平板をご提案させていただきます。
磁性流体シール
半導体用トランスデューサー
イオン注入装置ディスク再生サービス
輸入商社として半導体製造装置における技術革新を迅速に提供する
イオン注入・分析のよくあるご質問をQ&A形式でご紹介しています
ステンレスの電解研磨
高純度を要求される半導体製造工程でのイオン注入には多数のカーボンが使用されます。その高純度カーボンのご紹介です。
【RoHS 環境対応品】高電圧配線を必要とする回路の導入碍子として、どんな条件にも適用できるよう工夫された設計となっております。
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