電子部品・モジュールの製品一覧
- 分類：電子部品・モジュール
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【重量物の取り扱いによる作業負担を軽減！】お客様の課題を解決した導入事例5選を収録！ワークに応じた無料相談、テストも受付中！
- その他搬送機械
『 第1回 中部食品産業創造展'26 』出展決定！
〈 ポートメッセなごや 〉にて、2026年11月4日(水)～6日(金)に開催されます、 【 第1回 中部食品産業創造展'26 】に出展いたします。 昨年4月より発売を開始していおります、『小型サニタリーハンディポンプMHS型』の 新たなラインナップとして、『コードレスサニタリーハンディポンプ』の展示をいたします。 ・コードレス！どこへでも持ち運べ！サッと使え！簡単洗浄！ 従来通り18L缶やBIB（バックインボックス）に対応し、簡単に分解洗浄が可能な構造となっています。 この機会にぜひご来場いただきたくご案内申し上げます。 ・会場：ポートメッセなごや ・弊社出展ブース：第1展示館「C-６６」
ソニア社製超音波スプレーノズルの3DCADデータの配布開始
ソニア社製超音波スプレーノズルの3D CADデータ配布を開始しました。 設計者や装置メーカーの皆様は、製品形状や取付寸法を事前に確認できるため、装置設計やレイアウト検討を効率的に進めることができます。 今回、超音波スプレーノズル「WS40K」と「WS130K」の3D CADデータも公開し、導入前の干渉確認や設計シミュレーションに活用いただけます。 ソニアの超音波スプレーノズルは、精密コーティング、表面処理、加湿、洗浄など幅広い用途に対応。 3D CADデータの提供により、設計工数の削減と開発期間の短縮を支援し、製品選定から装置開発までをスムーズにサポートします。
ソニア社製超音波スプレーノズルの3DCADデータの配布開始
ソニア社製超音波スプレーノズルの3D CADデータ配布を開始しました。 設計者や装置メーカーの皆様は、製品形状や取付寸法を事前に確認できるため、装置設計やレイアウト検討を効率的に進めることができます。 今回、超音波スプレーノズル「WS40K」と「WS130K」の3D CADデータも公開し、導入前の干渉確認や設計シミュレーションに活用いただけます。 ソニアの超音波スプレーノズルは、精密コーティング、表面処理、加湿、洗浄など幅広い用途に対応。 3D CADデータの提供により、設計工数の削減と開発期間の短縮を支援し、製品選定から装置開発までをスムーズにサポートします。
SONOSYSメガソニック洗浄ノズルシステム 製品ページ公開のお知らせ｜半導体・MEMSの精密洗浄
このたび、ティックコーポレーション株式会社では、SONOSYS（ソノシス）社製 メガソニック洗浄ノズルシステムの製品紹介ページを公開しました。 SONOSYSのメガソニック洗浄技術は、600kHz～9MHzの高周波エネルギーを利用し、半導体ウェーハ、フォトマスク、MEMSなどの微細構造へのダメージを抑えながら、微細なパーティクルを除去する精密洗浄技術です。 新ページでは、シングル・ダブル・トリプルノズルの特長や、半導体、MEMS、光学部品、LCD・FPD基板などへの用途をご紹介しています。 微細パーティクル除去、超純水（DI Water）を使用した精密洗浄、600kHz・1MHzなどのメガソニック洗浄をご検討の方は、ぜひご覧ください。
無加圧で微粒子を噴霧！ピエゾセラミックの振動による霧化！！消費電力が小さくエネルギーコストが安い！！
- バルブ
- 超音波発振器
- ノズル
ソニア社製超音波スプレーノズルの3DCADデータの配布開始
ソニア社製超音波スプレーノズルの3D CADデータ配布を開始しました。 設計者や装置メーカーの皆様は、製品形状や取付寸法を事前に確認できるため、装置設計やレイアウト検討を効率的に進めることができます。 今回、超音波スプレーノズル「WS40K」と「WS130K」の3D CADデータも公開し、導入前の干渉確認や設計シミュレーションに活用いただけます。 ソニアの超音波スプレーノズルは、精密コーティング、表面処理、加湿、洗浄など幅広い用途に対応。 3D CADデータの提供により、設計工数の削減と開発期間の短縮を支援し、製品選定から装置開発までをスムーズにサポートします。
ソニア社製超音波スプレーノズルの3DCADデータの配布開始
ソニア社製超音波スプレーノズルの3D CADデータ配布を開始しました。 設計者や装置メーカーの皆様は、製品形状や取付寸法を事前に確認できるため、装置設計やレイアウト検討を効率的に進めることができます。 今回、超音波スプレーノズル「WS40K」と「WS130K」の3D CADデータも公開し、導入前の干渉確認や設計シミュレーションに活用いただけます。 ソニアの超音波スプレーノズルは、精密コーティング、表面処理、加湿、洗浄など幅広い用途に対応。 3D CADデータの提供により、設計工数の削減と開発期間の短縮を支援し、製品選定から装置開発までをスムーズにサポートします。
SONOSYSメガソニック洗浄ノズルシステム 製品ページ公開のお知らせ｜半導体・MEMSの精密洗浄
このたび、ティックコーポレーション株式会社では、SONOSYS（ソノシス）社製 メガソニック洗浄ノズルシステムの製品紹介ページを公開しました。 SONOSYSのメガソニック洗浄技術は、600kHz～9MHzの高周波エネルギーを利用し、半導体ウェーハ、フォトマスク、MEMSなどの微細構造へのダメージを抑えながら、微細なパーティクルを除去する精密洗浄技術です。 新ページでは、シングル・ダブル・トリプルノズルの特長や、半導体、MEMS、光学部品、LCD・FPD基板などへの用途をご紹介しています。 微細パーティクル除去、超純水（DI Water）を使用した精密洗浄、600kHz・1MHzなどのメガソニック洗浄をご検討の方は、ぜひご覧ください。
ソニア社製超音波スプレーノズルの3DCADデータの配布開始
ソニア社製超音波スプレーノズルの3D CADデータ配布を開始しました。 設計者や装置メーカーの皆様は、製品形状や取付寸法を事前に確認できるため、装置設計やレイアウト検討を効率的に進めることができます。 今回、超音波スプレーノズル「WS40K」と「WS130K」の3D CADデータも公開し、導入前の干渉確認や設計シミュレーションに活用いただけます。 ソニアの超音波スプレーノズルは、精密コーティング、表面処理、加湿、洗浄など幅広い用途に対応。 3D CADデータの提供により、設計工数の削減と開発期間の短縮を支援し、製品選定から装置開発までをスムーズにサポートします。
SONOSYSメガソニック洗浄ノズルシステム 製品ページ公開のお知らせ｜半導体・MEMSの精密洗浄
このたび、ティックコーポレーション株式会社では、SONOSYS（ソノシス）社製 メガソニック洗浄ノズルシステムの製品紹介ページを公開しました。 SONOSYSのメガソニック洗浄技術は、600kHz～9MHzの高周波エネルギーを利用し、半導体ウェーハ、フォトマスク、MEMSなどの微細構造へのダメージを抑えながら、微細なパーティクルを除去する精密洗浄技術です。 新ページでは、シングル・ダブル・トリプルノズルの特長や、半導体、MEMS、光学部品、LCD・FPD基板などへの用途をご紹介しています。 微細パーティクル除去、超純水（DI Water）を使用した精密洗浄、600kHz・1MHzなどのメガソニック洗浄をご検討の方は、ぜひご覧ください。
Digital Generatorは半導体、電子部品、精密機器向けメガソニック洗浄システムに対応したデジタル制御型ジェネレーター
- フォトマスク
- その他半導体製造装置
- ウエハー
SONOSYSメガソニック洗浄ノズルシステム 製品ページ公開のお知らせ｜半導体・MEMSの精密洗浄
このたび、ティックコーポレーション株式会社では、SONOSYS（ソノシス）社製 メガソニック洗浄ノズルシステムの製品紹介ページを公開しました。 SONOSYSのメガソニック洗浄技術は、600kHz～9MHzの高周波エネルギーを利用し、半導体ウェーハ、フォトマスク、MEMSなどの微細構造へのダメージを抑えながら、微細なパーティクルを除去する精密洗浄技術です。 新ページでは、シングル・ダブル・トリプルノズルの特長や、半導体、MEMS、光学部品、LCD・FPD基板などへの用途をご紹介しています。 微細パーティクル除去、超純水（DI Water）を使用した精密洗浄、600kHz・1MHzなどのメガソニック洗浄をご検討の方は、ぜひご覧ください。
ソニア社製超音波スプレーノズルの3DCADデータの配布開始
ソニア社製超音波スプレーノズルの3D CADデータ配布を開始しました。 設計者や装置メーカーの皆様は、製品形状や取付寸法を事前に確認できるため、装置設計やレイアウト検討を効率的に進めることができます。 今回、超音波スプレーノズル「WS40K」と「WS130K」の3D CADデータも公開し、導入前の干渉確認や設計シミュレーションに活用いただけます。 ソニアの超音波スプレーノズルは、精密コーティング、表面処理、加湿、洗浄など幅広い用途に対応。 3D CADデータの提供により、設計工数の削減と開発期間の短縮を支援し、製品選定から装置開発までをスムーズにサポートします。
SONOSYSメガソニック洗浄ノズルシステム 製品ページ公開のお知らせ｜半導体・MEMSの精密洗浄
このたび、ティックコーポレーション株式会社では、SONOSYS（ソノシス）社製 メガソニック洗浄ノズルシステムの製品紹介ページを公開しました。 SONOSYSのメガソニック洗浄技術は、600kHz～9MHzの高周波エネルギーを利用し、半導体ウェーハ、フォトマスク、MEMSなどの微細構造へのダメージを抑えながら、微細なパーティクルを除去する精密洗浄技術です。 新ページでは、シングル・ダブル・トリプルノズルの特長や、半導体、MEMS、光学部品、LCD・FPD基板などへの用途をご紹介しています。 微細パーティクル除去、超純水（DI Water）を使用した精密洗浄、600kHz・1MHzなどのメガソニック洗浄をご検討の方は、ぜひご覧ください。
SONOSYSメガソニック洗浄ノズルシステム 製品ページ公開のお知らせ｜半導体・MEMSの精密洗浄
このたび、ティックコーポレーション株式会社では、SONOSYS（ソノシス）社製 メガソニック洗浄ノズルシステムの製品紹介ページを公開しました。 SONOSYSのメガソニック洗浄技術は、600kHz～9MHzの高周波エネルギーを利用し、半導体ウェーハ、フォトマスク、MEMSなどの微細構造へのダメージを抑えながら、微細なパーティクルを除去する精密洗浄技術です。 新ページでは、シングル・ダブル・トリプルノズルの特長や、半導体、MEMS、光学部品、LCD・FPD基板などへの用途をご紹介しています。 微細パーティクル除去、超純水（DI Water）を使用した精密洗浄、600kHz・1MHzなどのメガソニック洗浄をご検討の方は、ぜひご覧ください。
SONOSYSメガソニック洗浄ノズルシステム 製品ページ公開のお知らせ｜半導体・MEMSの精密洗浄
このたび、ティックコーポレーション株式会社では、SONOSYS（ソノシス）社製 メガソニック洗浄ノズルシステムの製品紹介ページを公開しました。 SONOSYSのメガソニック洗浄技術は、600kHz～9MHzの高周波エネルギーを利用し、半導体ウェーハ、フォトマスク、MEMSなどの微細構造へのダメージを抑えながら、微細なパーティクルを除去する精密洗浄技術です。 新ページでは、シングル・ダブル・トリプルノズルの特長や、半導体、MEMS、光学部品、LCD・FPD基板などへの用途をご紹介しています。 微細パーティクル除去、超純水（DI Water）を使用した精密洗浄、600kHz・1MHzなどのメガソニック洗浄をご検討の方は、ぜひご覧ください。
ご好評の「リチウムイオン電池の製造プロセス＆コスト総合技術2016」を修正・追記いたしました。
- リチウムイオン電池
7/30 分離プロセス工業化・省エネ技術Webセミナー
■タイトル 「分離プロセスの工業化スケールアップ及びプロセス工業の省エネルギー ～フリーソフト化学プロセスシミュレータ及びピンチテクノロジー活用～」 化学プロセスの工業化では、蒸留・抽出・吸着などの分離工程設計と、省エネルギー化の両立が重要です。本セミナーでは、分離プロセスのスケールアップ手法をはじめ、ベンチ試験からパイロット試験への展開、工業化における留意点や失敗事例を交えて解説します。また、フリーソフト「COCO/ChemSep」を用いた化学プロセスシミュレーションや、ピンチテクノロジーによる熱回収・省エネルギー設計、カーボンリサイクル評価についても学べます。 【セミナーで得られる知識】 ・蒸留・抽出・吸着プロセスの工業化技術 ・分離工程のスケールアップ手法 ・COCO/ChemSepによるプロセスシミュレーション ・ピンチ解析を活用した省エネルギー技術 【対象者】 化学・プロセス工業の研究・開発・設計・生産技術担当者、工業化・省エネルギー化に携わる技術者・研究者
容器整列工程のコストを最適化。シンプル設計で安定稼働を実現する高トルク・省スペースモータ。
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