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2026/09/18

SONOSYSメガソニック洗浄ノズルシステム 製品ページ公開のお知らせ|半導体・MEMSの精密洗浄

ティックコーポレーション株式会社 ティックコーポレーション株式会社 本社
このたび、ティックコーポレーション株式会社では、SONOSYS(ソノシス)社製 メガソニック洗浄ノズルシステムの製品紹介ページを公開しました。 SONOSYSのメガソニック洗浄技術は、600kHz~9MHzの高周波エネルギーを利用し、半導体ウェーハ、フォトマスク、MEMSなどの微細構造へのダメージを抑えながら、微細なパーティクルを除去する精密洗浄技術です。 新ページでは、シングル・ダブル・トリプルノズルの特長や、半導体、MEMS、光学部品、LCD・FPD基板などへの用途をご紹介しています。 微細パーティクル除去、超純水(DI Water)を使用した精密洗浄、600kHz・1MHzなどのメガソニック洗浄をご検討の方は、ぜひご覧ください。
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SONOSYSメガソニック洗浄ノズルシステム - TIC Corporation Limited

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超音波メガソニック洗浄装置(枚葉洗浄 / バス・タンク式洗浄)

最新の超音波洗浄はソノシスにお任せください

超音波洗浄スプレーノズル 非接触単一基板の洗浄にはシングルノズル、デュアルノズル、トリプルチャネルのいずれか、および周波数の任意の組み合わせを備えた600kHz から最大9MHzまでのメガソニックノズルがございます。 このメガソニックノズルのトランスデューサーはメガソニックを生成し流体(純水など)を通してメガソニックを基盤の表面に送り洗浄します。 メガソニック浸水型トランスデューサー 周波数が400kHz/600kHz/1MHz/2MHzのメガソニック浸水型トランスデューサーです。     ステンレス製又はプラスチック製 (例:PP、PVDFまたはPFA)の密閉されたトランスデューサーを既存タンクの底部又は、側面に設置します。 4"、6"および8"の基板サイズの標準システムに加え、特注で浸水型トランスデューサーも可能です。 非常に順応性の高い構成によりメガソニックシステムをバス・タンク式洗浄の工程に使用することで費用対効果の向上を可能にします。 周波数は400kHz, 600kHz, 1MHz と2MHzをご用意しております。

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  • CMP装置
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ソノシス社製デジタル発信機(次世代型)

Digital Generatorは半導体、電子部品、精密機器向けメガソニック洗浄システムに対応したデジタル制御型ジェネレーター

Sonosys Digital Generatorは、メガソニック洗浄向けに開発された次世代デジタルジェネレーターです。 400kHz~9MHzの広帯域周波数に対応し、最大35W・最小0.35Wの高精度出力制御を実現 Modbus通信による遠隔監視・遠隔制御機能を搭載し、出力、温度、運転状態をリアルタイムに可視化できます。 さらに既存のSonosysノズルとの互換性を備え、設備更新コストを抑えながらスマートファクトリー化を推進します。 半導体洗浄、電子部品洗浄、精密部品洗浄の品質向上とDX推進に貢献する革新的なソリューションです。

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ソノシス社製メガソニックシステム(FTFトランスデューサー)

次世代メガソニック技術で最大300mmウェハーも一瞬でクリアに

SONOSYS社製1MHzメガソニックシステム(FTFトランスデューサー & MGHジェネレーター)は、単一基板の洗浄プロセスを最適化する高性能システムです。 主な特長を以下の通りです。 - 高精度洗浄: PFA製の密閉型トランスデューサーが基板から約1.5mmの距離で設置され、メガソニックエネルギーを均一に伝達 - 特許技術採用: 「バタフライ圧電セラミック」技術により、従来のシステムと比較して最大40%高い音圧、最大30%高い効率を実現 - シングルプロセス対応: 最大300mmの基板やウェハーの洗浄に適用可能 - 高出力仕様: 150Wの出力調整範囲(約20%~100%)を持ち、1MHzの超音波を活用 - 安定した動作環境: 筐体は19インチエンクロージャーでコンパクトな設計 - 動作温度範囲は+10℃~+40℃ - 耐久性と適応性: 最大+80℃までの液体温度に対応(窒素冷却使用時) - PTFEコート同軸HFケーブル(3m)採用 - 精密設計: 設置距離は約1.5mm(1MHz時)、基板の最低液層厚は約4mm

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《ソノシス》超音波スプレーノズル

レヒラー社のノズル技術とソノシス社の超音波技術のコラボ商品

水や薬剤などの液体を、まるで霧のように細かく噴霧できる装置をご存じですか? SONOSYS(ソノシス)の超音波アトマイザーは、従来の圧縮空気式ノズルとは異なり、「超音波の力」で液体を繊細なミスト状に変えることができます。 SONOSYSの超音波アトマイザーは、次のような幅広い用途に対応しています: 製品や原材料の加湿(乾燥防止) 液体のガス置換や脱気 離型剤(型から製品をはがしやすくする液)の噴霧 混合・撹拌工程中の液体添加 消毒液の噴霧 ポイントは「空気を使わずに霧を作る」 従来の噴霧ノズルは、圧縮空気が必要だったため「音がうるさい」「エネルギーコストが高い」といった問題がありました。 しかし、超音波アトマイザーは空気を使わず、静かで省エネ。 しかも粒子が非常に細かいため、均一な加湿や噴霧が可能です。 最後に 「水や薬剤を静かに、均一にミスト化したい」「限られたスペースでも使いたい」そんなニーズをお持ちの方に、超音波アトマイザーは最適です。 工場、医療、研究、農業、様々な分野での活用が進んでいます。

  • 超音波発振器
  • ノズル
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【半導体ウェーハ向け】超音波メガソニック洗浄装置

ウェーハの微細な汚れを徹底除去。ソノシスが実現する高品質洗浄。

半導体業界、特にウェーハ製造においては、微細な異物の除去が製品の品質を左右する重要な課題です。ウェーハ表面に付着した微細なパーティクルや有機物は、デバイスの性能低下や歩留まりの悪化を引き起こす可能性があります。当社の超音波メガソニック洗浄装置は、これらの課題に対し、メガソニック技術を用いてウェーハ表面の汚れを効果的に除去します。これにより、高品質な半導体製品の製造を支援します。 【活用シーン】 ・ウェーハ製造工程における洗浄 ・微細な異物や有機物の除去 ・高品質な半導体製品の製造 【導入の効果】 ・洗浄品質の向上 ・歩留まりの改善 ・製品の信頼性向上

  • 超音波発振器
  • フォトマスク
  • 超音波洗浄機

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【光学向け】超音波メガソニック洗浄装置

プリズムの精密洗浄に。ソノシスの超音波洗浄装置。

光学業界では、プリズムの品質を左右する精密な洗浄が求められます。 特に、微細な埃や油膜の除去は、光の透過率や屈折率に影響を与え、製品の性能を低下させる可能性があります。 当社の超音波メガソニック洗浄装置は、プリズムの表面に付着した微細な汚れを、メガソニックの力で徹底的に除去し、高品質な製品作りに貢献します。 【活用シーン】 ・プリズム製造工程における洗浄 ・光学レンズの洗浄 ・精密部品の洗浄 【導入の効果】 ・高い洗浄力で、製品の品質向上 ・洗浄時間の短縮 ・洗浄コストの削減

  • 超音波発振器
  • フォトマスク
  • 超音波洗浄機

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【半導体ウェーハ向け】超音波メガソニック洗浄装置

ウェーハ洗浄の課題を解決する、ソノシスの超音波洗浄

半導体業界、特にウェーハ製造においては、微細な異物や残留物の除去が製品の品質を左右する重要な課題です。ウェーハ表面のわずかな汚れが、デバイスの性能低下や歩留まりの悪化につながる可能性があります。ソノシスの超音波メガソニック洗浄装置は、これらの課題に対し、高い洗浄力と均一な洗浄を実現することで、ウェーハ製造における品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェーハ製造工程における異物除去 ・精密部品の洗浄 ・薬液洗浄後のリンス工程 【導入の効果】 ・洗浄時間の短縮 ・洗浄品質の向上 ・歩留まりの改善

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  • 超音波洗浄機
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【MEMSデバイス製造向け】超音波メガソニック洗浄装置

MEMSデバイス製造の表面清浄化を、ソノシスの超音波洗浄で

MEMSデバイス製造においては、微細な異物や残留物の除去が製品の品質を左右する重要な課題です。ウェーハ表面のわずかな汚れが、デバイスの性能低下や歩留まりの悪化につながる可能性があります。ソノシスの超音波メガソニック洗浄装置は、これらの課題に対し、高い洗浄力と均一な洗浄を実現することで、MEMSデバイス製造における品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・MEMSデバイス製造工程における異物除去 ・精密部品の洗浄 ・薬液洗浄後のリンス工程 【導入の効果】 ・洗浄時間の短縮 ・洗浄品質の向上 ・歩留まりの改善

  • 超音波発振器
  • 超音波洗浄機
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【半導体製造向け】超音波メガソニック洗浄装置

ウェーハ洗浄の課題を解決する、ソノシスの超音波洗浄

半導体製造業界、特にウェーハ製造においては、微細な異物や残留物の除去が製品の品質を左右する重要な課題です。ウェーハ表面のわずかな汚れが、デバイスの性能低下や歩留まりの悪化につながる可能性があります。ソノシスの超音波メガソニック洗浄装置は、これらの課題に対し、高い洗浄力と均一な洗浄を実現することで、ウェーハ製造における品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェーハ製造工程における異物除去 ・精密部品の洗浄 ・薬液洗浄後のリンス工程 【導入の効果】 ・洗浄時間の短縮 ・洗浄品質の向上 ・歩留まりの改善

  • 超音波発振器
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【光学レンズ製造向け】超音波メガソニック洗浄装置

光学レンズの精密洗浄を、ソノシスの超音波洗浄で

光学レンズ製造においては、微細な異物や残留物の除去が製品の品質を左右する重要な課題です。レンズ表面のわずかな汚れが、デバイスの性能低下や歩留まりの悪化につながる可能性があります。ソノシスの超音波メガソニック洗浄装置は、これらの課題に対し、高い洗浄力と均一な洗浄を実現することで、光学レンズ製造における品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・光学レンズ製造工程における異物除去 ・精密部品の洗浄 ・薬液洗浄後のリンス工程 【導入の効果】 ・洗浄時間の短縮 ・洗浄品質の向上 ・歩留まりの改善

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【CMP工程向け】超音波メガソニック洗浄装置

CMP工程のスラリー除去に、ソノシスの超音波洗浄

CMP工程では、ウェーハ表面のスラリー除去が、製品の品質に影響を与える重要なプロセスです。ウェーハ表面に残存したスラリーは、後工程での欠陥や歩留まりの低下につながる可能性があります。ソノシスの超音波メガソニック洗浄装置は、高い洗浄力と均一な洗浄を実現し、CMP工程における品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・CMP工程におけるスラリー除去 ・ウェーハ製造工程における異物除去 ・薬液洗浄後のリンス工程 【導入の効果】 ・洗浄時間の短縮 ・洗浄品質の向上 ・歩留まりの改善

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【Sonosys】超音波洗浄装置

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ハイパーCLT敷板

冬の現場の足元対策|スリップ防止に役立つハイパーCLT敷板

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寒くなると、土木現場では朝露や霜、雨によって路面が濡れやすくなります。敷鉄板の表面に水や泥が付着すると、作業員の靴が滑ったり、車両のタイヤが空転したりする危険があります。 そこで検討したいのが、木材CLTを使用した木製敷板「ハイパーCLT敷板」です。木材表面は金属製の敷鉄板とは異なる質感を持っているため、歩行路や車両通行路のスリップ防止を考える際の選択肢になります。 仮設道路、搬入路、重機作業ヤード、材料ヤード、作業員通路などに敷設することで、泥や砂利の上を直接歩く範囲を減らし、凹凸のある地面を整えやすくなります。 5×10版は約230kg、5×20版は約460kgと比較的軽量で、現場条件によっては設置・撤去や移設にも対応しやすいことが特徴です。 ハイパーCLT敷板は、国土交通省NETIS登録技術です。NETIS登録番号は「TH-250021-A」。冬季の安全対策や新技術活用、環境配慮の提案にも取り入れられます。 木製敷板、NETIS、土木、CLT、木製軽量敷板。 寒い季節の現場だからこそ、足元から安全対策を見直してみませんか。

2026年11月14日

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2026年11月14日

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ハイパーCLT敷板

歩きやすい足元をつくる|作業員に配慮したハイパーCLT敷板

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建築・土木現場では、重い資材を運ぶ作業だけでなく、現場内を何度も歩いたり、長時間立ち続けたりすることも、作業員の足や腰への負担になります。 そこで活用を検討できるのが、CLTを使用した木製敷板「ハイパーCLT敷板」です。作業員通路、仮設道路、搬入路、材料ヤードなどに敷設することで、泥や砂利の上を直接歩く範囲を減らし、安定した動線を確保しやすくなります。 木製敷板は、金属製の敷鉄板とは異なる質感を持ち、歩行時の硬い感覚や金属音を抑えやすいことも特徴です。夏場の照り返しや輻射熱を抑えやすく、作業環境の改善にもつながります。 5×10版は約230kg、5×20版は約460kgと比較的軽量で、現場条件によっては設置・撤去や移設にも対応しやすい仕様です。 ハイパーCLT敷板は、国土交通省NETIS登録技術です。登録番号は「TH-250021-A」。新技術活用や施工環境の改善、環境配慮の提案にも取り入れることができます。 木製敷板、NETIS、土木、CLT、木製軽量敷板。 足元を整えることは、働く人の毎日を支えること。ハイパーCLT敷板は、作業員に配慮した現場づくりを提案します。

2026年11月13日

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Intel iGPUでAI顔認証を高速化、ミニPC 1台で最大59台のカメラ映像を同時処理

Intel iGPUの活用により顔認証の処理性能を大幅に向上、ミニPC 1台で最大59台のカメラ映像を同時処理可能に

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サイバーリンクは、AI顔認証エンジン「FaceMe SDK」をIntel Core Ultra Series 3プロセッサー向けに最適化しました。 Intelの内蔵GPU(iGPU)とOpenVINOを活用することで、同一プロセッサーのCPU処理と比較して約20倍、従来の第12世代Intel Coreプロセッサーと比較して約37倍の顔認証処理速度を実現しました。 さらに、AI顔認証システム「FaceMe Security」では、ミニPC 1台で最大59台のカメラ映像を同時処理できることを弊社検証結果で確認しました。 今回の最適化により、専用GPUを搭載した大型ワークステーションに依存せず、コンパクトな機器で高性能な顔認証システムを構築できるため、企業のエッジAI導入や既存設備への顔認証機能の追加を支援します。 【主な特長】 ・専用GPU不要で高速なAI顔認証を実現 ・ミニPC 1台で最大59台のカメラ映像を同時処理 ・ハードウェアコストや設置スペースの削減に貢献 ・防犯監視や入退室管理など幅広い用途に対応 ※性能数値は弊社検証結果です。

2026年11月13日

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クリーンエジェクター

「POWTEX 2026 第46回国際粉体工業展」に出展します

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来る2026年11月25日(水)~27日(金)、東京ビッグサイトにて開催される「POWTEX 2026 第46回国際粉体工業展」に出展します。 当日は、分解・洗浄可能なエジェクターや、完全密閉型スクリューフィーダー等、様々な粉体ハンドリング装置を展示いたしますので、ご来場の際はぜひ弊社ブースへお越しください。 【POWTEX 2026 ブース情報】 ◆開催期間: 2026年11月25日(水)~27日(金) 9:30~17:00 ◆会場: 東京ビッグサイト 東1・2・3ホール ◆ブースNo.:3-Q54 【出展製品】 クリーンエジェクター、完全密閉型スクリューフィーダー、エアレーションホッパー、ブリッジレスフィーダー、自動吸引システム(紙袋、フレコン、ドラム缶)、連続吸引式粉体搬送装置、など

2026年11月13日

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