SONOSYSメガソニック洗浄ノズルシステム 製品ページ公開のお知らせ｜半導体・MEMSの精密洗浄

最新の超音波洗浄はソノシスにお任せください

超音波洗浄スプレーノズル 非接触単一基板の洗浄にはシングルノズル、デュアルノズル、トリプルチャネルのいずれか、および周波数の任意の組み合わせを備えた600kHz から最大9MHzまでのメガソニックノズルがございます。 このメガソニックノズルのトランスデューサーはメガソニックを生成し流体(純水など)を通してメガソニックを基盤の表面に送り洗浄します。 メガソニック浸水型トランスデューサー 周波数が400kHz/600kHz/1MHz/2MHzのメガソニック浸水型トランスデューサーです。　　　　 ステンレス製又はプラスチック製 (例：PP、PVDFまたはPFA)の密閉されたトランスデューサーを既存タンクの底部又は、側面に設置します。 4"、6"および8"の基板サイズの標準システムに加え、特注で浸水型トランスデューサーも可能です。 非常に順応性の高い構成によりメガソニックシステムをバス・タンク式洗浄の工程に使用することで費用対効果の向上を可能にします。 周波数は400kHz, 600kHz, 1MHz と2MHzをご用意しております。

• CVD装置
• ＣＭＰ装置
• フォトマスク

Digital Generatorは半導体、電子部品、精密機器向けメガソニック洗浄システムに対応したデジタル制御型ジェネレーター

Sonosys Digital Generatorは、メガソニック洗浄向けに開発された次世代デジタルジェネレーターです。 400kHz～9MHzの広帯域周波数に対応し、最大35W・最小0.35Wの高精度出力制御を実現 Modbus通信による遠隔監視・遠隔制御機能を搭載し、出力、温度、運転状態をリアルタイムに可視化できます。 さらに既存のSonosysノズルとの互換性を備え、設備更新コストを抑えながらスマートファクトリー化を推進します。 半導体洗浄、電子部品洗浄、精密部品洗浄の品質向上とDX推進に貢献する革新的なソリューションです。

• ウエハー
• フォトマスク
• その他半導体製造装置

次世代メガソニック技術で最大300mmウェハーも一瞬でクリアに

SONOSYS社製1MHzメガソニックシステム（FTFトランスデューサー & MGHジェネレーター）は、単一基板の洗浄プロセスを最適化する高性能システムです。 主な特長を以下の通りです。 - 高精度洗浄: PFA製の密閉型トランスデューサーが基板から約1.5mmの距離で設置され、メガソニックエネルギーを均一に伝達 - 特許技術採用: 「バタフライ圧電セラミック」技術により、従来のシステムと比較して最大40%高い音圧、最大30%高い効率を実現 - シングルプロセス対応: 最大300mmの基板やウェハーの洗浄に適用可能 - 高出力仕様: 150Wの出力調整範囲（約20%～100%）を持ち、1MHzの超音波を活用 - 安定した動作環境: 筐体は19インチエンクロージャーでコンパクトな設計 - 動作温度範囲は+10℃～+40℃ - 耐久性と適応性: 最大+80℃までの液体温度に対応（窒素冷却使用時） - PTFEコート同軸HFケーブル（3m）採用 - 精密設計: 設置距離は約1.5mm（1MHz時）、基板の最低液層厚は約4mm

• フォトマスク
• その他半導体製造装置
• 超音波洗浄機

レヒラー社のノズル技術とソノシス社の超音波技術のコラボ商品

水や薬剤などの液体を、まるで霧のように細かく噴霧できる装置をご存じですか？ SONOSYS（ソノシス）の超音波アトマイザーは、従来の圧縮空気式ノズルとは異なり、「超音波の力」で液体を繊細なミスト状に変えることができます。 SONOSYSの超音波アトマイザーは、次のような幅広い用途に対応しています： 製品や原材料の加湿（乾燥防止） 液体のガス置換や脱気 離型剤（型から製品をはがしやすくする液）の噴霧 混合・撹拌工程中の液体添加 消毒液の噴霧 ポイントは「空気を使わずに霧を作る」 従来の噴霧ノズルは、圧縮空気が必要だったため「音がうるさい」「エネルギーコストが高い」といった問題がありました。 しかし、超音波アトマイザーは空気を使わず、静かで省エネ。 しかも粒子が非常に細かいため、均一な加湿や噴霧が可能です。 最後に 「水や薬剤を静かに、均一にミスト化したい」「限られたスペースでも使いたい」そんなニーズをお持ちの方に、超音波アトマイザーは最適です。 工場、医療、研究、農業、様々な分野での活用が進んでいます。

• 超音波発振器
• ノズル
• コーティング機

ウェーハの微細な汚れを徹底除去。ソノシスが実現する高品質洗浄。

半導体業界、特にウェーハ製造においては、微細な異物の除去が製品の品質を左右する重要な課題です。ウェーハ表面に付着した微細なパーティクルや有機物は、デバイスの性能低下や歩留まりの悪化を引き起こす可能性があります。当社の超音波メガソニック洗浄装置は、これらの課題に対し、メガソニック技術を用いてウェーハ表面の汚れを効果的に除去します。これにより、高品質な半導体製品の製造を支援します。 【活用シーン】 ・ウェーハ製造工程における洗浄 ・微細な異物や有機物の除去 ・高品質な半導体製品の製造 【導入の効果】 ・洗浄品質の向上 ・歩留まりの改善 ・製品の信頼性向上

• 超音波発振器
• フォトマスク
• 超音波洗浄機

プリズムの精密洗浄に。ソノシスの超音波洗浄装置。

光学業界では、プリズムの品質を左右する精密な洗浄が求められます。 特に、微細な埃や油膜の除去は、光の透過率や屈折率に影響を与え、製品の性能を低下させる可能性があります。 当社の超音波メガソニック洗浄装置は、プリズムの表面に付着した微細な汚れを、メガソニックの力で徹底的に除去し、高品質な製品作りに貢献します。 【活用シーン】 ・プリズム製造工程における洗浄 ・光学レンズの洗浄 ・精密部品の洗浄 【導入の効果】 ・高い洗浄力で、製品の品質向上 ・洗浄時間の短縮 ・洗浄コストの削減

• 超音波発振器
• フォトマスク
• 超音波洗浄機

ウェーハ洗浄の課題を解決する、ソノシスの超音波洗浄

半導体業界、特にウェーハ製造においては、微細な異物や残留物の除去が製品の品質を左右する重要な課題です。ウェーハ表面のわずかな汚れが、デバイスの性能低下や歩留まりの悪化につながる可能性があります。ソノシスの超音波メガソニック洗浄装置は、これらの課題に対し、高い洗浄力と均一な洗浄を実現することで、ウェーハ製造における品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェーハ製造工程における異物除去 ・精密部品の洗浄 ・薬液洗浄後のリンス工程 【導入の効果】 ・洗浄時間の短縮 ・洗浄品質の向上 ・歩留まりの改善

• 超音波発振器
• 超音波洗浄機
• 超音波洗浄器

MEMSデバイス製造の表面清浄化を、ソノシスの超音波洗浄で

MEMSデバイス製造においては、微細な異物や残留物の除去が製品の品質を左右する重要な課題です。ウェーハ表面のわずかな汚れが、デバイスの性能低下や歩留まりの悪化につながる可能性があります。ソノシスの超音波メガソニック洗浄装置は、これらの課題に対し、高い洗浄力と均一な洗浄を実現することで、MEMSデバイス製造における品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・MEMSデバイス製造工程における異物除去 ・精密部品の洗浄 ・薬液洗浄後のリンス工程 【導入の効果】 ・洗浄時間の短縮 ・洗浄品質の向上 ・歩留まりの改善

• 超音波発振器
• 超音波洗浄機
• 超音波洗浄器

ウェーハ洗浄の課題を解決する、ソノシスの超音波洗浄

半導体製造業界、特にウェーハ製造においては、微細な異物や残留物の除去が製品の品質を左右する重要な課題です。ウェーハ表面のわずかな汚れが、デバイスの性能低下や歩留まりの悪化につながる可能性があります。ソノシスの超音波メガソニック洗浄装置は、これらの課題に対し、高い洗浄力と均一な洗浄を実現することで、ウェーハ製造における品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェーハ製造工程における異物除去 ・精密部品の洗浄 ・薬液洗浄後のリンス工程 【導入の効果】 ・洗浄時間の短縮 ・洗浄品質の向上 ・歩留まりの改善

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光学レンズの精密洗浄を、ソノシスの超音波洗浄で

光学レンズ製造においては、微細な異物や残留物の除去が製品の品質を左右する重要な課題です。レンズ表面のわずかな汚れが、デバイスの性能低下や歩留まりの悪化につながる可能性があります。ソノシスの超音波メガソニック洗浄装置は、これらの課題に対し、高い洗浄力と均一な洗浄を実現することで、光学レンズ製造における品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・光学レンズ製造工程における異物除去 ・精密部品の洗浄 ・薬液洗浄後のリンス工程 【導入の効果】 ・洗浄時間の短縮 ・洗浄品質の向上 ・歩留まりの改善

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CMP工程のスラリー除去に、ソノシスの超音波洗浄

CMP工程では、ウェーハ表面のスラリー除去が、製品の品質に影響を与える重要なプロセスです。ウェーハ表面に残存したスラリーは、後工程での欠陥や歩留まりの低下につながる可能性があります。ソノシスの超音波メガソニック洗浄装置は、高い洗浄力と均一な洗浄を実現し、CMP工程における品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・CMP工程におけるスラリー除去 ・ウェーハ製造工程における異物除去 ・薬液洗浄後のリンス工程 【導入の効果】 ・洗浄時間の短縮 ・洗浄品質の向上 ・歩留まりの改善

• 超音波発振器
• 超音波洗浄機
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株式会社ホトロンの新製品「車両カウントセンサー CCS3」が登場！ 本製品は、赤外線とレーダーを組み合わせた天井取付型センサーです。 1台で双方向の車両を安定して検知し、渋滞時や車両のすれ違いにも対応、大型駐車場の効率的な満空管理を実現します。 また、車両カウントに加えて出庫警告用途にも活用でき、駐車場の安全で円滑な運営に貢献します。 『特長』 ・赤外線とレーダーの併用により、雨天時の路面変化に対する検知性能を向上 ・防水・防塵性能IP67を備え、塩害地域でも活躍 ・専用アプリ（Android端末）から各種設定が可能。現在の設定がひと目でわかりやすく ・従来品「CCS2」とベース寸法が同一で、既存設備の入れ替えもスムーズ ※詳しくは製品情報、カタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。

新しい土木資材を公共工事で採用する際、「どのような技術なのか」「採用する根拠は何か」は重要なポイントです。 ハイパーCLT敷板は、木材CLTを活用した土木用敷板で、**国土交通省NETIS登録技術「TH-250021-A」**です。 NETIS登録は国による性能保証や認定そのものではありませんが、新技術として情報が公開されていることは、施工会社が発注者へ提案する際の大きな材料になります。 さらに、軽量で設置・撤去しやすく、照り返しや金属音の抑制、CO2固定など、木材ならではの特徴もあります。 つまり、単に珍しいCLT敷板ではなく、NETIS登録技術として公共工事へ提案できることが大きな強みです。 木材、NETIS、土木、CLTを組み合わせたハイパーCLT敷板。新しい資材を導入する際の安心感と、現場での実用性を併せ持つ選択肢です。

今回は当社の試験や計測・評価技術をご紹介します。 以下の３件について、技術資料をアップロードしました。 是非この機会に各資料をご覧ください。 【１】特殊環境下でのひずみ（応力）計測技術の紹介 最新式の光ファイバを用いたFBG（Fiber Bragg Grating）センサとひずみゲージの計測技術のご紹介。 詳細はこちらから技術資料をご請求ください！ https://ma.imsys.jp/r/1768856?m=79769&c=15270112 【２】騒音評価技術のご紹介その１－騒音を越境させない、防音壁の技術－ 敷地境界騒音の評価技術および対策技術のご紹介。 ご希望の方は下記URLよりご請求ください！ https://www.ipros.jp/product/detail/2001503430 【３】騒音評価技術のご紹介その２－騒音を拡散させない、エンクロージャの技術－ 騒音を拡散させない：エンクロージャの技術のご紹介。 ご希望の方は下記URLより請求ください！ https://ma.imsys.jp/r/1768854?m=79769&c=15270112

【DKクライオプロセス 次回処理日のご案内】 いつもお世話になっております。 次回のDKクライオプロセス処理日は10月23日（金）です。 受付締切は10月16日（金）となります。 チッピングや摩耗でお困りの金型部品・加工工具がございましたら、この機会にぜひご検討ください。 ✔ 1本から対応可能 ✔ コーティング済み・使用中部品もご相談可能 ✔ 寿命2～7倍の実績あり（使用条件によります） 「この部品も処理できる？」 「概算費用を知りたい」 といったご相談もお気軽にお問い合わせください。 DKクライオプロセス事例集（無料）も進呈中 お申し込み・お問い合わせ https://dksmmp.com/dkcryo.php dfujita@dksmmp.com

下記の展示会に出展いたします。 皆様のご来場をお待ちしております！ 「とちぎビルメンテナンスフェア2026」 化学物質対策保護具や衛生マスクなどをご紹介予定です。 ●日程　2026年9月25日（金） 9:00～16:00 ●会場　マロニエプラザ 栃木県立宇都宮産業展示館大展示場 「日本鋳造工学会 第188回全国講演大会　つながる展」 難燃対策防護服などをご紹介予定です。 ●日程　2026年9月26日（土）～ 9月27日（日） ●会場　函館工業高等専門学校　体育館（函館市） ※ご不明な点等ございましたら、関連リンク【防護服の知恵.com】よりお気軽にお問い合わせください。 　【防護服の知恵.com】は、アゼアス株式会社の運営する安全な作業環境のための情報総合サイトです。