半導体製造装置の製品一覧

電池の基本概念から、利用目的・実現方法による分類までを体系化。複雑な電池選定の第一歩を、初心者目線で分かりやすくまとめました

• 電池・バッテリー
• 技術書・参考書
• 技術書・参考書

静電式により高い捕集率を実現。大型から小型まで豊富なラインアップを展開。水溶性オイルミストにも対応

• 空調

500℃ウエハステージ！プラズマダメージの無いリモートICPソース採用

• その他半導体製造装置

研究開発用、小規模バッチ用！簡易除害ユニットALD Shield Vapor Trap標準搭載

• その他半導体製造装置

基板バイアス機構！当社のマイクロウエーブPECVD/エッチング装置をご紹介

• エッチング装置

最大5(220mm径)又は4(300mm径)ターゲット搭載！イオンビームスパッタ装置をご紹介

• スパッタリング装置

最大200mm径基板！ダブルリングマグネトロン(Fraunhofer FEP)

• スパッタリング装置

メカニカルクランプ又は静電チャック対応！サブナノメーターエッチング機構

• エッチング装置

最大150又は200mmウエハ基板対応！エッチング角度及びステージ傾斜・回転機構

• エッチング装置

インターロックカバーもご用意！研磨作業の更なる効率化を実現しました

• ウエハ加工/研磨装置
• その他加工機械

研究開発用の試料作製に好適！振動と騒音を大幅に抑えることに成功しました

• ウエハ加工/研磨装置
• その他加工機械

主軸に高精度アンギュラベアリングを採用！基準テーブル上で±10μm以内の面振れ精度を実現

• ウエハ加工/研磨装置
• その他加工機械

真空チャック式ホルダーや貼付けホルダーなど、豊富なラインアップをご用意！

• ウエハ加工/研磨装置
• その他加工機械
• その他機械要素

高精度・高効率性を追求した研磨技術！精密研磨装置の総合カタログをプレゼント

• ウエハ加工/研磨装置

固定砥粒盤から遊離砥粒盤、ポリシングクロスまで多種多様な研磨盤をご紹介いたします。

• ＣＭＰ装置
• ウエハ加工/研磨装置
• その他加工機械

手動で研磨盤にダイヤモンド液を吹き付けるよりも経済的！自動噴霧装置をご紹介します

• ウエハ加工/研磨装置
• その他加工機械
• その他理化学機器

エッジのダレが無く、介在物の脱落も無いためEPMA等での評価に適しています！

• ウエハ加工/研磨装置
• その他加工機械