加熱装置・炉の製品一覧
- 分類：加熱装置・炉
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【重量物の取り扱いによる作業負担を軽減！】お客様の課題を解決した導入事例5選を収録！ワークに応じた無料相談、テストも受付中！
- その他搬送機械
約1000万／月のコスト90％削減に寄与！周辺温度に応じて出力変化、ムラなく保温！高品質でヒーターのメンテナス不要！※課題解決有
- その他ヒータ
6ゾーンPID制御と窒素雰囲気で、均一な品質のろう付けを実現。均熱性・温度精度・酸化防止をすべて兼ね備え試作～量産まで対応可能。
- 工業炉
- アルミヒータ
6ゾーンPID制御と窒素雰囲気で大型EV熱交換器も均一加熱。試作から量産まで高品質なろう付けを実現。
- 工業炉
- アルミヒータ
GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケーションに応用頂けるアニール炉です【テスト可】
- はんだ付け装置
- 加熱装置
マイクロ波および高周波誘電加熱の加熱方式の違いを整理するとともに、これらの技術が応用されたプロセスの具体的な実用例をご紹介！
- 高周波・マイクロ波部品
- 加熱装置
グローブボックス内作業を最小に◎固体電解質材料スクリーニング/温度特性別インピーダンス評価◎複数均一・短時間・正確に試験評価
- リチウムイオン電池
- 2次電池・バッテリー
- 電気炉
《OCT搭載加熱観察イメージ炉》世界的な研究に貢献！高温下で内部構造の変化を直接観察
「OCT搭載加熱観察イメージ炉」は、集光加熱方式を利用したコンパクトな設計で、OCT（光コヒーレンストモグラフィー）を搭載した、内部観察装置です。この装置を利用し、横浜国立大学と神奈川県立産業技術総合研究所の研究グループは、高温で焼結中のセラミックスの内部構造変化を、世界で初めて直接観察することに成功しました。 詳細はカタログをご覧ください。 ご不明点やご相談等ございましたら、お気軽にお問い合わせください。
《OCT搭載加熱観察イメージ炉》世界的な研究に貢献！高温下で内部構造の変化を直接観察
「OCT搭載加熱観察イメージ炉」は、集光加熱方式を利用したコンパクトな設計で、OCT（光コヒーレンストモグラフィー）を搭載した、内部観察装置です。この装置を利用し、横浜国立大学と神奈川県立産業技術総合研究所の研究グループは、高温で焼結中のセラミックスの内部構造変化を、世界で初めて直接観察することに成功しました。 詳細はカタログをご覧ください。 ご不明点やご相談等ございましたら、お気軽にお問い合わせください。
デモ動画配信中【材料/特注試験機・高温炉】米倉製作所 [公式]YouTubeにて実験のデモ動画や会社案内・商品紹介動画を掲載！
試験機メーカーである米倉製作所に関する動画を公式YouTubeチャンネルにてご紹介！ ≪米倉製作所の事業内容≫ 1[材料試験機] 衝撃/捩り疲労/クリープ/プーリ疲労/摩擦摩耗/静的捩り/往復摺動/万能試験機等 2[特注試験機] 製品向け特注試験機、自動車関連部品向け特注試験機、自動検査ライン設計/製作等 3[IRイメージ炉(高温観察炉)] 18SP-最高温度1800℃/TPS-既存の顕微鏡に取付最高温度1500℃/HP-ウエハ等の実験も可能等 4[システム・ソフト] 手入力データの入力・計測を自動化/品質管理用ソフト製作(Access、Oracleデータベースでの実績有)/小規模集中管理システム設計・製作/上位システムとの指令・実績の送受信等 5[ミニマルファブ] 酸化膜形成プロセス-集光加熱/レジスト除去プロセス-水プラズマ(超純水のみを利用し劇薬不要なアッシング)等 6[AE] 非破壊検査（超音波、AE、磁気）機器 ≪主要取引先≫ ・各種メーカー(自動車・鉄鋼・精密機械・マテリアル・半導体等) ・大学・教育機関 ・公的機関・研究施設 等
卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃！ 還元雰囲気用メタル炉も製作致します。
- 加熱装置
- 電気炉
- アニール炉
【MiniLab-125】 多元マルチスパッタ装置（Φ8"対応）1000℃ヒーターステージ(SiCコーティング ）搭載！コンパクトサイズ！
多元マルチスパッタリング装置（Φ8inch基板対応） ・3元同時成膜 + 1元PulseDCスパッタ ・RF500W, DC850W両電源を3元カソード（Source1, 2, 3）へ自在に配置変更 ・5KW PulseDC電源も搭載 → 専用カソード（4）で使用 ・基板加熱ステージ Max800℃（SiCコーティングヒーターでMax1000℃も可能） ・MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング ・メインチャンバー RIEエッチングステージRF300W ・LLチャンバー ＜30W 低出力制御ソフトエッチング ・独自の"Soft-Ething"技術で基板バイアスにより基板のダメージを軽減 ・タッチパネル又はWindows PC操作：操作が分散せず、全ての操作をタッチパネル/PCで行うことができます。 ・装置設置寸法：1,960(W) x 1,100(D) x 1,700(H)mm ・マルチチャンバー式も製作可能です。 ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペース実験炉
- 加熱装置
- アニール炉
- 電気炉
【MiniLab-125】 多元マルチスパッタ装置（Φ8"対応）1000℃ヒーターステージ(SiCコーティング ）搭載！コンパクトサイズ！
多元マルチスパッタリング装置（Φ8inch基板対応） ・3元同時成膜 + 1元PulseDCスパッタ ・RF500W, DC850W両電源を3元カソード（Source1, 2, 3）へ自在に配置変更 ・5KW PulseDC電源も搭載 → 専用カソード（4）で使用 ・基板加熱ステージ Max800℃（SiCコーティングヒーターでMax1000℃も可能） ・MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング ・メインチャンバー RIEエッチングステージRF300W ・LLチャンバー ＜30W 低出力制御ソフトエッチング ・独自の"Soft-Ething"技術で基板バイアスにより基板のダメージを軽減 ・タッチパネル又はWindows PC操作：操作が分散せず、全ての操作をタッチパネル/PCで行うことができます。 ・装置設置寸法：1,960(W) x 1,100(D) x 1,700(H)mm ・マルチチャンバー式も製作可能です。 ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペース実験炉
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多元マルチスパッタリング装置【MiniLab-125】Φ8"対応 SiCコーティング 1000℃ヒーターステージ 搭載！コンパクトサイズ！
多元マルチスパッタリング装置（Φ8inch基板対応） ・3元同時成膜 + 1元PulseDCスパッタ ・RF500W, DC850W両電源を3元カソード（Source1, 2, 3）へ自在に配置変更 ・5KW PulseDC電源も搭載 → 専用カソード（4）で使用 ・基板加熱ステージ Max800℃（SiCコーティングヒーターでMax1000℃も可能） ・MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング ・メインチャンバー RIEエッチングステージRF300W ・LLチャンバー ＜30W 低出力制御ソフトエッチング ・独自の"Soft-Ething"技術で基板バイアスにより基板のダメージを軽減 ・タッチパネル又はWindows PC操作：操作が分散せず、全ての操作をタッチパネル/PCで行うことができます。 ・装置設置寸法：1,960(W) x 1,100(D) x 1,700(H)mm ・マルチチャンバー式も製作可能です。 ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペース実験炉
- 加熱装置
nanoPVD-S10Aスパッタ装置 標準規格品登場！従来よりお求めやすい価格・短納期でご提供可能になりました。
標準 在庫規格品、従来よりお求めやすい低価格・短納期でのご提供が可能になりました。 *下記構成に限ります。又、在庫状況も変わりますので詳細は当社までお問い合わせください。 【nanoPVD-S10A標準構成仕様】 ● 基板ステージ：Φ4inch、基板シャッター付 ● 最高到達圧力：5 x 10-5 Pa（10-3paまで10分、10-4paまで20分以内） ● 2"マグネトロンカソード x 2：自動連続多層膜, 2源同時成膜（RF/DCのみ） ● RF150W、DC780W 電源搭載 ● プロセスガス3系統（Ar, O2, N2） ● 主排気TMP、粗挽RP（*ドライポンプ オプション） ● Windows PCリモートソフトウエア"IntelliLink"付属：システムライブモニター、最大1000layer, 50filmのレシピを作成・保存。PCでデータロギング ● 水晶振動子膜厚センサ付属 【主な用途】 ・酸化膜、絶縁膜 ・金属・合金、導電性膜 ・化合物、反応性膜、他 【オプション】 ◉ 基板加熱ヒーター500℃、磁性材用カソード、ドライスクロールポンプ、など
卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃！ 還元雰囲気用メタル炉も製作致します。
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- その他ヒータ
nanoPVD-S10Aスパッタ装置 標準規格品登場！従来よりお求めやすい価格・短納期でご提供可能になりました。
標準 在庫規格品、従来よりお求めやすい低価格・短納期でのご提供が可能になりました。 *下記構成に限ります。又、在庫状況も変わりますので詳細は当社までお問い合わせください。 【nanoPVD-S10A標準構成仕様】 ● 基板ステージ：Φ4inch、基板シャッター付 ● 最高到達圧力：5 x 10-5 Pa（10-3paまで10分、10-4paまで20分以内） ● 2"マグネトロンカソード x 2：自動連続多層膜, 2源同時成膜（RF/DCのみ） ● RF150W、DC780W 電源搭載 ● プロセスガス3系統（Ar, O2, N2） ● 主排気TMP、粗挽RP（*ドライポンプ オプション） ● Windows PCリモートソフトウエア"IntelliLink"付属：システムライブモニター、最大1000layer, 50filmのレシピを作成・保存。PCでデータロギング ● 水晶振動子膜厚センサ付属 【主な用途】 ・酸化膜、絶縁膜 ・金属・合金、導電性膜 ・化合物、反応性膜、他 【オプション】 ◉ 基板加熱ヒーター500℃、磁性材用カソード、ドライスクロールポンプ、など
分析・評価装置の温度制御を高精度で支援。安定した熱源を提供するフィルムヒーター。
- その他ヒータ
- 表面処理受託サービス
均一な熱で焼き上げ・乾燥・保温を実現。食品設備の品質を支えるシート状のポリイミドヒーター。
- その他ヒータ
- 表面処理受託サービス
薄く、軽く、確実に発熱。電子機器の性能を支える温度制御技術で、限られたスペースでも効果を発揮する薄型ヒーターです。
- その他ヒータ
- 表面処理受託サービス
体温管理から美容デバイスまで。精密な熱制御で、安心・安全な製品を実現する薄型ヒーターです。
- その他ヒータ
- 表面処理受託サービス
クリーンルーム環境でも安定稼働。精密工程を支える高精度な温度制御技術で、有したフィルムヒーターです。
- その他ヒータ
- 表面処理受託サービス
建材、車載、空調機器用に！900℃の電気式空気加熱装置による 『ろう付け工法』！火炎レス装置で脱CO2ろう付けを達成！
- 加熱装置
