分析機器・装置の製品一覧

１００万回繰り返しても壊れない！確実動作と高耐久性・低価格のマットスイッチ。工作機械のオプションなどにも。納期ご相談ください。

センサ

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直径３０ｍｍ程度～8インチまで対応可能　高抵抗FZウエハ

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株式会社エナテック東京本社

直径３０ｍｍ程度から8インチ、高ライフタイム、１万オームを超えるような高抵抗も対応可能！薄化、チップ加工もアレンジいたします！

その他半導体
加工受託
ウエハー

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顕微分光膜厚計　ハードコートの膜厚測定　

ハードコートの膜厚測定

分析機器・装置

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【2026年12月9日(水)～11日(金)】「SEMICON Japan」出展のお知らせ

当社は、東京ビッグサイトで開催される「SEMICON Japan」に出展いたします。半導体製造プロセスからアプリケーションまでを網羅し、先進技術を体験できます。大塚電子では、ラインスキャンのモックアップ、スマート膜厚計などを展示予定。ぜひ当社ブースにて実機をお近くでご覧ください。皆様のご来場をお待ちしております。

顕微分光膜厚計のメリット

反射分光法と他の測定手法の比較

分析機器・装置

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【2026年12月9日(水)～11日(金)】「SEMICON Japan」出展のお知らせ

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顕微分光膜厚計の構造解析

傾斜モデルを用いた薄膜の構造解析

分析機器・装置

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【2026年12月9日(水)～11日(金)】「SEMICON Japan」出展のお知らせ

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顕微分光膜厚計の測定原理

光干渉法を用いた顕微分光膜厚計（OPTM）の測定原理

分析機器・装置

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【2026年12月9日(水)～11日(金)】「SEMICON Japan」出展のお知らせ

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粒子径・ゼータ電位測定による無機粒子の分散性評価

コロイド分散系における無機粒子のｐHタイトレーションによる等電点の評価

分析機器・装置

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プリンター用インクを高濃度状態で粒子径・粒子径分布測定　

有機顔料の分散性を高濃度状態で評価

分析機器・装置

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ゼータ電位・粒度分布測定　コロイド粒子のｐH依存性評価

ゼータ電位・粒子径・分子量測定システムを用いたDDSナノ材料リポソームの等電点評価

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粒子径・粒子径分布測定装置　リポソームの粒子径評価　

粒子径測定装置を用いた種類の異なるリポソームの粒子径評価

分析機器・装置
その他検査機器・装置

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砥粒の異なるCMPスラリーの分散性評価　

CMPスラリーの等電点測定から分散性を評価

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CMPスラリーの塩濃度によるゼータ電位の制御　

ゼータ電位測定でCMPスラリーの分散・安定性を評価

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固体表面のゼータ電位測定　

ゼータ電位からCMPスラリーとウェーハの静電相互作用を評価

分析機器・装置

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ゼータ電位・粒子径測定によるＣＭＰスラリーの評価　

ゼータ電位・粒子径測定システムを用いてＣＭＰスラリーの非イオン性界面活性剤添加によるゼータ電位・粒子径の評価

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ゼータ電位・粒子径分布・粒子濃度　エクソソームの評価　