ウエハーの製品一覧
- 分類：ウエハー
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量産テスト（CP test / FINAL test） 及び、テスト開発（テストプログラム、ボート） を対応します。
- ウエハー
2023年12月13日(水)～15日(金)に東京ビッグサイト(東展示棟)にて開催される『SEMICON JAPAN』に出展！
- ウエハー
台湾台中市および高雄市にある12インチファブをベースに、高品質メモリ製品を提供するため更なる自社技術開発を進めています。
- メモリ
- ウエハー
![Vacuum-Through-Hole-77x83[1].jpg](https://image.mono.ipros.com/public/product/image_extension/07d/450832/IPROS1754011553880620688.jpg?w=280&h=280){kind=small}
![Spacer-slide1-148x58[1].jpg](https://image.mono.ipros.com/public/product/image_extension/17e/450833/IPROS939520466215631759.jpg?w=280&h=280){kind=small}
![th_Blind-Hole-Bearing-No-background-112x83[1].jpg](https://image.mono.ipros.com/public/product/image_extension/f84/450834/IPROS9209978766125369857.jpg?w=280&h=280){kind=small}
sakase topics No.62
出展予定の展示会についてのご紹介 このたび10/17~19に幕張メッセで開催されます、 「MEMSセンシング＆ネットワークシステム展」に出展いたします！ サカセブースでは、センサ・次世代MEMS（IoT、IA、自動車、医療）の “研究・開発／生産工程支援ツール”として、 ・センサ、MEMSの通箱・輸送ケース ・工程間搬送治具 としてご使用頂ける商品などを展示いたします。 近くにお立ち寄りの際はぜひ弊社ブースを見にいらしてください。 製品実物を使用してのテストも可能ですので、 ぜひ試したいサンプルなどこの機会にお試しください。 詳細は添付されている「sakase topics 9月号」を是非ご覧ください。
ドライプロセスの為、水を一切使用せず環境に優しい。カーフロスゼロで生産性向上を実現。従来工法と比較して小フットプリント化.
- ウエハー
- 液晶ディスプレイ
- ファインセラミックス
ドライプロセスの為、水を一切使用せず環境に優しい。カーフロスゼロで生産性向上を実現。従来工法と比較して小フットプリント化.
- ウエハー
- 液晶ディスプレイ
- ファインセラミックス
半導体製作にご提案：ICやMEMS応用、従来の厚エピや反転エピなどからの材料代替に、費用対効果が高い材料として提供いたします。
- ウエハー
最大10pc/secの高速ピックアップ技術で高生産性を実現！独自技術により極小チップも確実に収函 ※カスタマイズ可能
- ウエハー
- テーピングマシン
排気を上方向に排出する機構を採用。周囲のチップを噴出気体により吹き飛ばすことなく非接触でつかみ移載します。
- ウエハー
- CVD装置
- ウエハ加工/研磨装置
幅1.4ｍｍｘ長さ55ｍｍの極細・長尺ワークを 非接触にて搬送するベルヌーイチャック
- ウエハ加工/研磨装置
- ウエハー
- 分離装置
100-200mmの貼付ウエハー（SOI,SiSi）や誘電体分離や高アスペクト比の深いトレンチエッチなどカスタム品を提供します
- ウエハー
【デモ機貸出OK】透明・半透明な化合物半導体ウェハ検査や非透明シリコンウエハ面上の欠陥検査、光学レンズの傷検査に適した照明です。
- LED照明
- 作業灯
- ウエハー
くっつける技術、制御する技術、モニタリングする技術を開発！設計から製造まで一貫対応
- その他半導体
- ウエハー
- その他搬送機械
半導体レーザ、VCSEL、PD、DBR 各種光半導体デバイスのエピウェハを提供
- レーザ部品
- その他光学部品
- ウエハー
193 nm, 213 nm, 244 nm, 257 nm, 266 nm FHG 発生半導体レーザーシステム
- ウエハー