レンズの製品一覧
- 分類：レンズ
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１００万回繰り返しても壊れない！確実動作と高耐久性・低価格のマットスイッチ。工作機械のオプションなどにも。納期ご相談ください。
- センサ
FA/マシンビジョンや検査用途に欠かせないイメージングレンズ、カメラ、フィルター、照明製品等を2,600品目以上網羅！
- レンズ
最大20メガピクセル級カメラ対応の高コントラストを実現する高解像力レンズ！産業検査用途の厳しい要求に応えるCマウント対応。
- レンズ
超コンパクトなデザインを実現した検査システム用テレセントリックレンズ。単品の検査システムから大量検査システムまで対応！
- レンズ
4/3型の大型エリアセンサに対応。超高分解能で細部まで高精細な画像を撮影可能。ディストーションも極小
- レンズ
複数の波長にピークを持たせることのできる特殊な反射防止膜（ARコート）です。各種光学機器に最適な設計が可能なフィルターです。
- センサ
- その他光学部品
- レンズ
｢アロニックスシートへのITO／近赤外ARコート｣を匠の赤外に追加しました。
剛性を有する樹脂光学部材に、導電性と近赤外光学特性を同時付与する技術 近年、車載LiDARや各種赤外センサの普及に伴い、905nm帯域における高透過率と低反射率を両立した光学部材への要求が急速に高まっています。特にToF方式やパルスレーザーを用いるセンシングでは、わずかな反射損失や散乱が検出精度に直結するため、波長特化型の光学設計が不可欠です。 一方、これらのセンサを外部環境から保護するカバー材には、機械的強度および耐衝撃性、温度変化に対する寸法安定性、加工性および量産適性といった樹脂材料特有の特長が求められ、光学特性と機械特性の両立が設計上の大きな課題となっています。 安達新産業では、東亞合成株式会社のアクリル系樹脂材料「アロニックスシート」に下記を組み合わせた複合薄膜プロセスを確立しました。 続きは当社HPをご確認ください。
あらゆる種類の産業用途に適合し、3D測定などの条件の厳しいファクトリオートメーションシステムに合ったコンパクトで高性能レンズ
- レンズ
複数の波長にピークを持たせることのできる特殊な反射防止膜（ARコート）です。各種光学機器に最適な設計が可能なフィルターです。
- センサ
- その他光学部品
- レンズ
｢共創提案！量子コンピュータ × 光学薄膜｣を技術トレンドキーワードに追加しました。
量子コンピュータの実用化に向けた競争が、世界規模で加速しています。しかしその最前線で開発に取り組む研究者・エンジニアたちが直面する壁のひとつが、「部品が調達できない」という現実です。高精度な光学素子・光学薄膜は、量子システムの根幹を支える存在でありながら、量子光学特有の仕様に対応できるサプライヤーは世界的にも限られています。もちろん現時点で、安達新産業で全ての製品を成膜・製造できるわけではありませんが、その壁を一緒に越えるために、開発者の皆さまへこの共創提案をお届けします。 01：量子コンピュータと光学薄膜 02：量子システムに必要な光学薄膜製品——具体的な製品群と求められる仕様 03：量子光学コーティングが難しい理由——技術的課題の構造 04：匠のコーティングとの共創——少量試作から始める開発プロセス まとめ 安達新産業「匠のコーティング」は、その障壁を一緒に越えるパートナーとして、開発初期の構想段階から量産フェーズまで伴走します。少量試作から始め、試作と評価のサイクルを共に回しながら、量子デバイスに求められる光学薄膜を「一緒に作り上げる」——それが私たちの共創提案です。
カメラ用レンズの各種絞り口径面積を測定。校正登録できるSENS感度は4系列ズームレンズなどの測定に対応。専用仕様受注可能。
- レンズ
- その他計測・記録・測定器
- レンズ
壺坂電機はＣＰ+に出展致します。
壺坂電機は２０１２年２月に行われるＣＰ+２０１２に出展致します。 ２０１２年２月９日（木）～１２日（日） パシフィコ横浜 アネックスホール ブース番号は「Ｐ－０４」です。 ・手ブレ評価システム「ＳＡＰ－１」 ・輝度計「ＬＣ－５」 ・高性能機度箱「LSB-111系」 ・ストロボ光量計「ＬＸ－６０」 ・ストロボ配光テスタ「STB-225LD」 ・Ｆナンバーテスター「ＳＭＤ－８１Ｔ２」 ・シャッターテスタ「AS-250」 など、多数展示・デモ予定です。 お時間ありましたら是非、当ブースへお越し下さいませ。
特定の波長の反射率を低減させ、透過率を向上させる光学薄膜フィルターです。光量をあげることで省エネ、省電力化に寄与します。
- その他光学部品
- レンズ
- センサ
｢共創提案！フォトマスク×反射防止膜｣を技術トレンドキーワードに追加しました。
半導体・FPD製造プロセスにおいて、フォトマスクは回路パターンを転写するための「原版」として不可欠な存在です。近年、露光装置の高精度化や多品種化に伴い、フォトマスク単体の性能だけでなく、周辺光学技術との組み合わせによる付加価値提案が求められる場面が増えてきました。その一つが「反射防止膜（AR膜）」との融合です。 フォトマスクと反射防止膜を組み合わせる意義や技術的な難しさ、そして光学薄膜・パターニング加工を専門とする安達新産業「匠のコーティング」ならではの共創提案の可能性について、4つの章に分けて解説します。 第1章：フォトマスクにおける「反射」という課題 第2章：一般的な反射防止膜とフォトマスクの相性問題 第3章：低温プロセスという視点からのアプローチ 第4章：フォトマスク×反射防止膜──共創提案のかたち まとめ 詳細は当社hpをご覧ください。