「共創提案!フォトマスク×反射防止膜」を技術トレンドキーワードに追加しました。
半導体・FPD製造プロセスにおいて、フォトマスクは回路パターンを転写するための「原版」として不可欠な存在です。近年、露光装置の高精度化や多品種化に伴い、フォトマスク単体の性能だけでなく、周辺光学技術との組み合わせによる付加価値提案が求められる場面が増えてきました。その一つが「反射防止膜(AR膜)」との融合です。
フォトマスクと反射防止膜を組み合わせる意義や技術的な難しさ、そして光学薄膜・パターニング加工を専門とする安達新産業「匠のコーティング」ならではの共創提案の可能性について、4つの章に分けて解説します。
第1章:フォトマスクにおける「反射」という課題
第2章:一般的な反射防止膜とフォトマスクの相性問題
第3章:低温プロセスという視点からのアプローチ
第4章:フォトマスク×反射防止膜──共創提案のかたち
まとめ
詳細は当社hpをご覧ください。

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