コンポジットの製品一覧
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【最大トルク：880N・m】インパクトレンチのハイパワーとエアラチェットのコンパクトさを両立！アングルタイプのインパクトレンチ
- 空圧工具
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペース実験炉
- 加熱装置
BHシリーズ【UHV対応 超高温 真空薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1800℃
高真空対応 多彩なヒーター材質オプション。 PVD（スパッタ、蒸着、EB等）、高温真空アニール、高温解析用基板ステージ、などに応用いただけます。 様々なご要望仕様にカスタムメイド対応致します。 【特徴】 ● 予備ヒーター素線との交換が容易 ●設置、メンテナンスが容易（M6スタッドボルト、支柱） 【対応基板サイズ】 ◉ Φ1inch〜Φ6inch 【標準付属品】 ● 熱電対：素線タイプ アルミナ絶縁スリーブ付き ● 取付用スタッドボルト 【オプション】 ● 標準外ヒーター素線（Nb, Mo, Pt/Re, WRe他） ● 基板保持クリップ ● 取付ブラケット ● 基板ホルダー ● ホルダー設置用タップ穴加工 ● トッププレート材質変更（PBN, 石英, カーボン, Inconel, 他） ● 過昇温用追加熱電対 ● ベースフランジ、真空導入端子
【新製品】揮発性有機化合物(VOC)及び水分の両方を吸着する塗布型吸着剤・ゲッター剤
- その他高分子材料
500kNで、引張・圧縮・曲げ試験などに対応し、金属・コンポジット（複合材）・建築部材など高荷重サンプルに最適なシステムです。
- 分析機器・装置
【デモ機貸出中】顕微鏡本体で映す映像を無線でコンパクトな専用モニタ、パソコンに表示・撮影できます。更にパソコンなら計測も可能 。
- マイクロスコープ
ガラスクロス＋ガラス不織布のCEM-3タイプ標準品
- プラスチック
分散が困難なカーボンナノチューブとセルロースナノファイバーを強力なせん断力で粒子にダメージを与えず均一分散を実現
- その他
Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板対応、 高真空アニール装置（<5 × 10-7 mbar）
- アニール炉
BHシリーズ【UHV対応 超高温 真空薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1800℃
高真空対応 多彩なヒーター材質オプション。 PVD（スパッタ、蒸着、EB等）、高温真空アニール、高温解析用基板ステージ、などに応用いただけます。 様々なご要望仕様にカスタムメイド対応致します。 【特徴】 ● 予備ヒーター素線との交換が容易 ●設置、メンテナンスが容易（M6スタッドボルト、支柱） 【対応基板サイズ】 ◉ Φ1inch〜Φ6inch 【標準付属品】 ● 熱電対：素線タイプ アルミナ絶縁スリーブ付き ● 取付用スタッドボルト 【オプション】 ● 標準外ヒーター素線（Nb, Mo, Pt/Re, WRe他） ● 基板保持クリップ ● 取付ブラケット ● 基板ホルダー ● ホルダー設置用タップ穴加工 ● トッププレート材質変更（PBN, 石英, カーボン, Inconel, 他） ● 過昇温用追加熱電対 ● ベースフランジ、真空導入端子
低融点ソルダペーストの役割と可能性
『カーボンニュートラルを追求する低融点はんだペーストの役割と可能性』について、コラムを更新しました。 ご興味がある方は、以下リンクよりご覧ください。 ＜目次＞ 1. カーボンニュートラルの重要性と現在の課題の概要 1-1.なぜカーボンニュートラルが注目されているのか 1-2.世界各国のカーボンニュートラルへの取り組み 2. 低融点はんだの概要 2-1.低融点はんだの定義と特徴 2-2.低融点はんだの使用範囲と既存の応用例 2-3.低融点はんだが実装されているアプリケーション例 3. カーボンニュートラルとはんだ接合技術の関係性 3-1.はんだ接合技術におけるエネルギー消費とCO2排出の問題点 3-2.低融点はんだがカーボンニュートラルに向けた解決策となる理由 4. 低融点はんだの課題と展望 4-1.低融点はんだの課題 4-2.カーボンニュートラルに向けた今後の研究課題 5. まとめ
Φ6〜8inch超高温ウエハーアニール装置 研究開発から小規模生産まで多目的に幅広く対応するハイパフォーマンス機
- アニール炉
- 加熱装置
- 電気炉
多元マルチスパッタリング装置【MiniLab-125】Φ8"対応 SiCコーティング 1000℃ヒーターステージ 搭載！コンパクトサイズ！
多元マルチスパッタリング装置（Φ8inch基板対応） ・3元同時成膜 + 1元PulseDCスパッタ ・RF500W, DC850W両電源を3元カソード（Source1, 2, 3）へ自在に配置変更 ・5KW PulseDC電源も搭載 → 専用カソード（4）で使用 ・基板加熱ステージ Max800℃（SiCコーティングヒーターでMax1000℃も可能） ・MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング ・メインチャンバー RIEエッチングステージRF300W ・LLチャンバー ＜30W 低出力制御ソフトエッチング ・独自の"Soft-Ething"技術で基板バイアスにより基板のダメージを軽減 ・タッチパネル又はWindows PC操作：操作が分散せず、全ての操作をタッチパネル/PCで行うことができます。 ・装置設置寸法：1,960(W) x 1,100(D) x 1,700(H)mm ・マルチチャンバー式も製作可能です。 ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用） 4元マルチスパッタ（Φ6, 8inch用）
- スパッタリング装置
- 蒸着装置
- エッチング装置
ウエハーアニール装置【ANNEAL】Max1000℃ APC自動圧力制御 MFC x3系統 Φ4〜6inch基板対応
Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"〜最大6"基板対応、 高真空アニール装置（<5 × 10-7 mbar） [ANNEAL]は、ウエハー等の基板を安定したプロセス雰囲気にて高温熱処理が可能な研究開発用アニール装置です。 高真空水冷式SUSチャンバー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です（APC自動プロセス制御システムオプション）。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。 チャンバー内加熱ステージは、プロセスガス雰囲気・処理温度により３種類のバリエーションがあります。 ・ハロゲンランプヒーター：Max500℃ ・C/Cコンポジットヒーター：Max1000℃（真空中、不活性ガスのみ） ・SiCコーティングヒーター：Max1000℃（真空、不活性ガス、O2）
特性を最大限に活かした「積層構成の設計」が必要。CFRPの成形例をご紹介！【設計・開発・技術者の方は必見】
- 複合材料
- エンジニアリングプラスチック
【軽量化素材】三菱ケミカルCFRP成型品の資料を追加しました！
部材のCFRP化をご検討されている設計者、開発者、技術者の方々のために、CFRP部材開発のポイントを整理した資料を作成しました。 等方性材料との違いを含め、CFRP設計のポイントを分かりやすくまとめていますので一読いただけると幸甚です。
タクトタイム短縮が可能！CFRP化により軽量化・たわみ量低減・振動減衰性の向上
- 複合材料
- 繊維
【半導体向け活用事例】炭素繊維/炭素繊維複合材料『CFRP』
炭素繊維/炭素繊維複合材料『CFRP』の半導体向けの活用事例をご紹介します。 三菱ケミカルはPAN系とPitch系の両方の原料を活用することで多様な 炭素繊維を提供。炭素繊維の特長的な性能は、軽くて、高強度、高弾性率、 ということです。 樹脂と組み合わせた炭素繊維・複合材料として、航空宇宙、スポーツ・レジャー、 産業用途に幅広く活用しております。 ※詳しくは関連製品・カタログをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
溶液中の微量金属分析やめっき液の分析には欠かせない電気化学分析装置の基本を入門者向けにやさしく解説した技術冊子の第２段！
- 分析機器・装置
IPSパネル7”ハイビジョンフィールドモニター。充電式電池やACアダプタで動作でき、様々な解像度の画像信号を受け付ける。
- 液晶ディスプレイ
Global Non-woven Glass Fiber Prepreg Market 2022-2026
- その他の各種サービス
最大【長さ7m×直径1ｍ】の長物加工が可能！CFRPの特徴・性質や各種材料との比較をわかりやすく解説したお役立ち資料も進呈中。
- 複合材料
圧縮方式にH.264採用！HD-SDIカメラ対応デジタルビデオレコーダー
- 監視カメラシステム
- ビデオレコーダ
