到達真空度/の製品一覧

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小型ダイアフラム『R27A5A24K103』はDCモーター、高性能で多様に対応可能!導入実績も多くコストダウンにも効果的!

  • 真空ポンプ

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手動操作パネルが回路図になっているので、操作が容易に行えます。

  • その他加工機械

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「直接循環方式」が熱ロスを最大限に抑制!安定した温度分布による試験を実現

  • 試験機器・装置
  • 恒温槽
  • 環境試験装置

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リレー制御により、脱泡から液晶注入まで一連動作を自動で行えます。

  • その他加工機械

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小型セルの液晶注入に最適です。

  • その他加工機械

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小型セルの少ロットの液晶注入に最適な開発用液晶注入機です

  • その他加工機械

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様々な実験・開発に使用できるシンプルな液晶注入装置です

  • その他加工機械

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小型セルの液晶注入を自動で行える開発型液晶注入装置です

  • その他加工機械

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高真空雰囲気下での”その場観察”が可能な高温観察装置!

  • その他計測・記録・測定器

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省スペースな高推力油圧サーボプレス 真空雰囲気・加温条件も可能なプレス装置です。

  • その他組立機械

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世界の様々な用途でその価値を証明しているMils社製油回転式真空ポンプ!

  • 真空ポンプ

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SSの油外収益に最適商品!フロンガス回収・再生・真空引き・充填装置

  • ガス回収/処理装置

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卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃! 還元雰囲気用メタル炉も製作致します。

  • 加熱装置

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BHシリーズ【UHV対応 超高温 真空薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1800℃

高真空対応 多彩なヒーター材質オプション。 PVD(スパッタ、蒸着、EB等)、高温真空アニール、高温解析用基板ステージ、などに応用いただけます。 様々なご要望仕様にカスタムメイド対応致します。 【特徴】 ● 予備ヒーター素線との交換が容易 ●設置、メンテナンスが容易(M6スタッドボルト、支柱) 【対応基板サイズ】 ◉ Φ1inch〜Φ6inch 【標準付属品】 ● 熱電対:素線タイプ アルミナ絶縁スリーブ付き ● 取付用スタッドボルト 【オプション】 ● 標準外ヒーター素線(Nb, Mo, Pt/Re, WRe他) ● 基板保持クリップ ● 取付ブラケット ● 基板ホルダー ● ホルダー設置用タップ穴加工 ● トッププレート材質変更(PBN, 石英, カーボン, Inconel, 他) ● 過昇温用追加熱電対 ● ベースフランジ、真空導入端子

軽量/小型のシリーズ。サンプリング分析等に適しています。

  • その他ポンプ
  • 容積型ポンプ
  • 特殊ポンプ

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軽量タイプのシリーズで高周波仕様です。 商用航空機に搭載実績がありリプレイスの対応も可能です。

  • その他ポンプ
  • 容積型ポンプ
  • 特殊ポンプ

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高温ガス対応のダブルヘッドのシリーズ。高温タイプでは最も大流量のラインアップとなります。

  • その他ポンプ
  • 容積型ポンプ
  • 特殊ポンプ

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ダブルヘッドタイプで最も大流量のシリーズ。並列で台数を増やすことが出来ます。

  • その他ポンプ
  • 容積型ポンプ
  • 特殊ポンプ

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ダブルヘッドタイプのシリーズ。各種用途に応じた設計対応が可能となります。

  • その他ポンプ
  • 容積型ポンプ
  • 特殊ポンプ

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高温ガス用途でシングルヘッドのシリーズです。280kPaまで昇圧可能です。

  • その他ポンプ
  • 容積型ポンプ
  • 特殊ポンプ

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陶器・大型プラスチック製品吸着アタッチメントなど、産業全般に利用可能!

  • その他搬送機械

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最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、タングステンメタル炉) 小型・省スペース実験炉

  • 加熱装置

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BHシリーズ【UHV対応 超高温 真空薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1800℃

高真空対応 多彩なヒーター材質オプション。 PVD(スパッタ、蒸着、EB等)、高温真空アニール、高温解析用基板ステージ、などに応用いただけます。 様々なご要望仕様にカスタムメイド対応致します。 【特徴】 ● 予備ヒーター素線との交換が容易 ●設置、メンテナンスが容易(M6スタッドボルト、支柱) 【対応基板サイズ】 ◉ Φ1inch〜Φ6inch 【標準付属品】 ● 熱電対:素線タイプ アルミナ絶縁スリーブ付き ● 取付用スタッドボルト 【オプション】 ● 標準外ヒーター素線(Nb, Mo, Pt/Re, WRe他) ● 基板保持クリップ ● 取付ブラケット ● 基板ホルダー ● ホルダー設置用タップ穴加工 ● トッププレート材質変更(PBN, 石英, カーボン, Inconel, 他) ● 過昇温用追加熱電対 ● ベースフランジ、真空導入端子

酸素、水分濃度1ppm以下の環境を実現!

  • その他実験器具・容器
  • グローブボックス

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酸素、水分濃度1ppm以下の環境を実現!

  • その他実験器具・容器
  • グローブボックス

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軽量2.95kgを実現!十分な能力を兼ね備えたニュースタンダードモデル

  • 真空ポンプ
  • その他ポンプ

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当社最小サイズ!到達真空度-57kPaのDCダイアフラムエアポンプ

  • その他ポンプ

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最高温度1800℃!熱処理実験炉として使用いただけます

  • 工業炉

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キャスター付きで移動もラクラク!最高400°Cまでの加熱、そして冷却も可能な小型プレス

  • その他機械要素

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本体のサイズ・仕様など自由度の高い設計・製作が可能です。

  • グローブボックス

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【特注事例】セイデンシートグローブボックスのご紹介!

■【特注事例】セイデンシートグローブボックス ■お客様のご依頼内容及び問題点 発塵を抑制し、安価で簡易的なグローブボックスの製作依頼。 クリーンルーム内に設置して作業をしたい。 ■弊社のご提案・製品特長 1.グローブボックスの各面をシートで製作し、シートが破損しても交換可能。 (シート交換は弊社にて承ります。) 2.アルミフレーム枠を採用。 3.ガス置換環境下での作業に使用。 そのほか、ガス置換・真空・クリーン・低露点・防爆・大型など、 用途や環境に応じたグローブボックスをフルオーダーメイドで製作します。 お気軽にお問い合わせくださいませ! 詳しくはHPよりご覧くださいませ!

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ(Φ4inch用) 4元マルチスパッタ(Φ6, 8inch用)

  • スパッタリング装置
  • 蒸着装置
  • エッチング装置

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ウエハーアニール装置【ANNEAL】Max1000℃ APC自動圧力制御 MFC x3系統 Φ4〜6inch基板対応

Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"〜最大6"基板対応、 高真空アニール装置(<5 × 10-7 mbar) [ANNEAL]は、ウエハー等の基板を安定したプロセス雰囲気にて高温熱処理が可能な研究開発用アニール装置です。 高真空水冷式SUSチャンバー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です(APC自動プロセス制御システムオプション)。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。 チャンバー内加熱ステージは、プロセスガス雰囲気・処理温度により3種類のバリエーションがあります。 ・ハロゲンランプヒーター:Max500℃ ・C/Cコンポジットヒーター:Max1000℃(真空中、不活性ガスのみ) ・SiCコーティングヒーター:Max1000℃(真空、不活性ガス、O2)

● 本体のサイズ・仕様など自由度の高い設計・製作が可能です。

  • グローブボックス

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【特注事例】セイデンシートグローブボックスのご紹介!

■【特注事例】セイデンシートグローブボックス ■お客様のご依頼内容及び問題点 発塵を抑制し、安価で簡易的なグローブボックスの製作依頼。 クリーンルーム内に設置して作業をしたい。 ■弊社のご提案・製品特長 1.グローブボックスの各面をシートで製作し、シートが破損しても交換可能。 (シート交換は弊社にて承ります。) 2.アルミフレーム枠を採用。 3.ガス置換環境下での作業に使用。 そのほか、ガス置換・真空・クリーン・低露点・防爆・大型など、 用途や環境に応じたグローブボックスをフルオーダーメイドで製作します。 お気軽にお問い合わせくださいませ! 詳しくはHPよりご覧くださいませ!

●クローズドループ制御●アブソリュートエンコーダ搭載●バッテリレスを実現

  • その他半導体製造装置

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●クローズドループ制御●アブソリュートエンコーダ搭載●バッテリレスを実現

  • その他半導体製造装置

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搬送部の小型化に寄与します。

  • その他半導体製造装置

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