近年の交織・交編の増加に伴う染色機洗浄の問題を解決‼
染色機中のタール化物の除去及び分解・分散性能が良好‼『ネオポラン KC-10』
◎染料の溶解力に優れています。 ◎オリゴマーや減量加工で発生する、テレフタル酸や酸化チタンの分解力に優れています。 ◎金属塩に対するキレート力に優れています。 ◎染色機中のタール化物の除去及び分解・分散性能が良好です。 ◎本品使用による染色機の損傷はありません。
- Company:高松油脂株式会社
- Price:応相談
Last Updated: Aggregation Period:2026年04月08日~2026年05月05日
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染色機中のタール化物の除去及び分解・分散性能が良好‼『ネオポラン KC-10』
◎染料の溶解力に優れています。 ◎オリゴマーや減量加工で発生する、テレフタル酸や酸化チタンの分解力に優れています。 ◎金属塩に対するキレート力に優れています。 ◎染色機中のタール化物の除去及び分解・分散性能が良好です。 ◎本品使用による染色機の損傷はありません。
半導体製造の精密洗浄に。小型・パワフル、100V電源対応レーザークリーナー
半導体業界では、製造工程における微細な異物や付着物の除去が、製品の品質と歩留まりを左右する重要な課題です。特に、高密度化が進む中で、従来の洗浄方法では対応しきれないケースが増えています。Pulse300は、光の衝撃を利用した非接触のクリーニングにより、デリケートな半導体部品を傷つけることなく、精密な洗浄を実現します。100V電源対応で、設置場所を選ばず、手軽に導入できます。 【活用シーン】 ・ウェーハ、マスク、その他の半導体部品の精密洗浄 ・製造ラインにおける異物除去 ・品質管理におけるクリーン度向上 【導入の効果】 ・製品の品質向上と歩留まりの改善 ・洗浄時間の短縮とコスト削減 ・環境負荷の低減
堆積膜・反応生成物を塩化揮発で選択除去!母材の寸法や表面粗さを維持します
「小型塩素炉」は、Cl2/HClによる“選択塩素化→揮発"を用いた治具向け ドライクリーニング装置です。 MOCVD/エピ炉サセプタ、石英ボート・管等に付着したGaN/AlN/Si系生成物を 対象に、材料に応じた温度段階とガス組成で塩化物へ変換し、低温で揮発除去。 また、酸洗い不要で廃液負担を抑え、寸法変化・歪み・粒界損傷を最小化します。 【特長】 ■選択塩素化×段階温度:付着物を塩化物化→低温で揮発、 母材ダメージを抑制 ■乾式で廃液最小:酸洗いレス、洗浄・乾燥工程を短縮 ■寸法・表面を維持:負圧運転/酸素分圧制御で歪み・粗さ変化を抑える ■多材料対応:石英・SiC・C/C・金属(Mo/W/Al系)などの治具に適用可 ※さらに詳しい情報についてはダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。