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測定(nm) - メーカー・企業と製品の一覧

更新日: 集計期間:2025年07月09日~2025年08月05日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。

測定の製品一覧

31~39 件を表示 / 全 39 件

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顕微分光膜厚計 nk 未知の極薄膜の測定

複数点同一解析を用いた nk 未知の極薄膜の測定

従来法では困難であった極薄膜領域下(100nm以下)でのnk解析ですが、複数点解析機能により、精度良くnk解析が可能です。(特許取得済 第5721586号) 最小二乗法でフィッティングをして膜厚値(d)を解析するには材料のnkが必要です。nkが未知の場合、d とnkの両方を可変パラメータとして解析します。 しかしながら、d が100nm以下の極薄膜の場合、d とnkとを分離することができず、そのため精度が低下して正確な d が求められないことがあります。  このような場合、d の異なるサンプルを複数測定し、nkが同一であると仮定して同時解析(複数点同一解析)をします。これにより精度よくnkを求め、正確な d を求めることが可能です。

  • 複数点同一解析を用いた nk 未知の極薄膜の測定.jpg
  • 分析機器・装置

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【レンズ分析】反射率測定

強い反射光やゴーストフレアの原因となる反射率を測定!凹凸のある黒物部品も可能

当社で行った、「反射率測定」の解析事例をご紹介いたします。 部品表面の反射率が高いことで有害なゴーストが発生していることが多く、 測定面の反射率を見ることでコートや表面処理改善に役に立ちます。 反射防止コートが施されたレンズのような透明なものや凹凸のある 黒物部品も可能。指定サンプルや測定箇所のご相談もお受けいたします。 【事例概要】 ■測定項目:波長380~780nm間の反射率 ■測定器:顕微分光測定機「Olympus製 USPM-RU」 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 受託解析

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顕微分光膜厚計による透明基板上の高精度膜厚測定

反射対物レンズが実現する透明基板の高精度測定

フィルムやガラス等の透明な基板サンプルの場合、基板の裏面からの反射の影響を受けると正確な測定ができません。 OPTMシリーズの反射対物レンズを使用すると、物理的に裏面反射を除去することができ、透明基板でも高精度に測定ができます。 また、フィルムやSiC等の光学異方性をもつサンプルに対してもその影響を受けること無く上面の膜のみの測定を行うことが可能です。 (特許取得済 第5172203号)

  • 反射対物レンズが実現する透明基板の高精度測定.jpg
  • 分析機器・装置

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顕微分光膜厚計 複雑な形状のある任意ポイントの測定

さまざまな用途のDLCコーティング厚みの測定

DLC(diamond‐like carbon)はアモルファス(非晶質)な炭素系材料です。高硬度・低摩擦係数・耐摩耗性・電気絶縁性・高バリア性・表面改質やDLCの厚み測定は断面を電子顕微鏡にて観察する破壊検査が一般的でしたが、大塚電子の光干渉式膜厚計であれば非破壊かつ高速に測定が可能です。 独自の顕微鏡光学系を採用することで、形状のあるサンプルの実測定が可能になりました。

  • さまざまな用途のDLCコーティング厚みの測定2.jpg
  • さまざまな用途のDLCコーティング厚みの測定1.jpg
  • さまざまな用途のDLCコーティング厚みの測定3.jpg
  • さまざまな用途のDLCコーティング厚みの測定4.jpg
  • 分析機器・装置

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顕微分光膜厚計を用いたSiO2 SiNの膜厚測定

反射分光膜厚計『OPTM』を用いた絶縁膜の膜厚測定

半導体トランジスタは電流の通電状態を制御することで信号を伝達していますが、電流が漏れたり別のトランジスタの電流が勝手な通路を通り回り込むことを防止するために、トランジスタ間を絶縁するための絶縁膜が埋め込まれています。 絶縁膜にはSiO2(二酸化シリコン)やSiN(窒化シリコン)が用いられます。 SiO2は絶縁膜として、SiNはSiO2より誘電率の高い絶縁膜として、または不必要なSiO2をCMPで除去する際のストッパーとして使用され、その後にSiNも除去されます。 このように絶縁膜としての性能、正確なプロセス管理のため、これらの膜厚を測定する必要があります。

  • SiO2 SiNの膜厚測定.jpg
  • 分析機器・装置

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駅再開発工事の足場測定などに「建築限界測定器」LDM300A

鉄道事業者向け建築限界測定器! 7.6kgの小型・軽量のため、持ち運びが楽で作業員の削減に貢献できます

鉄道事業者、鉄道関連工事者向けの離隔を測定できる「建築限界測定器」です。 トンネル内、ホーム、信号などの鉄道設備、駅の再開発工事に伴う足場、仮設構造物との 離隔測定に使用されることを主な目的としています。 【特長】 ■測定精度 ・限界測定:±3mm ・距離測定:±2mm ・最小表示単位:1mm ■カラーグラフィック液晶搭載 ・現地で測定結果の確認が可能 ■傾斜センサー搭載 ・専用台座でカント計測が可能 ■コンパクト&省力化 ・拡幅測定機能有り ※詳しくはPDFダウンロードまたはお問い合わせください  レンタルにご興味ある方は下記「お問い合わせ」ボタンに、レンタル希望と記載ください。

  • LDM300.JPG
  • 距離関連測定器

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樹脂、プラスチック材料 粘弾性測定、伸長粘度測定

高分子材料や、オイル、潤滑油、接着剤、塗料、インキなどの測定が可能です!

当社で保有している「粘弾性測定装置」についてご紹介いたします。 トルク範囲は0.02uNm~200mNmで、歪み速度範囲は0.001~1000S-1。 温度範囲は-150℃~400℃です。 液体から固体まで幅広いレオロジー測定が可能。動的粘弾性、定常流粘度、 応力緩和、クリープ、固体ねじり、フィルム引張、伸長粘度といった 測定モードが備わっています。 【装置仕様】 ■装置名:MCR301(Anton Paar社製) ■トルク範囲:0.02uNm~200mNm ■歪み速度範囲:0.001~1000S-1 ■温度範囲:-150℃~400℃ ■試料量:10g~50g ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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熱可塑性エラストマー材料 粘弾性測定、伸長粘度測定

熱可塑性エラストマー材料成形時の成形指標となる流動特性が取得できます!

当社で保有している「粘弾性測定装置」についてご紹介いたします。 トルク範囲は0.02uNm~200mNmで、歪み速度範囲は0.001~1000S-1。 温度範囲は-150℃~400℃です。 液体から固体まで幅広いレオロジー測定が可能。動的粘弾性、定常流粘度、 応力緩和、クリープ、固体ねじり、フィルム引張、伸長粘度といった 測定モードが備わっています。 【装置仕様】 ■装置名:MCR301(Anton Paar社製) ■トルク範囲:0.02uNm~200mNm ■歪み速度範囲:0.001~1000S-1 ■温度範囲:-150℃~400℃ ■試料量:10g~50g ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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GPC測定 樹脂の分子量分布測定

トルエン系、シクロヘキサン系、高温系など各種溶媒系での測定が可能!

株式会社ロンビックにて行う「SEC(GPC、APC)分析」について、 ご紹介いたします。 THF系(テトラヒドロフラン)、HFIP系(ヘキサフルオロイソプロパノール)、 DMF系(N、N-ジメチルホルムアミド)など各種溶媒系での測定が可能。 成形品異常の原因例としては、原料乾燥不足や成形条件異常における、 分子量低下による成形品強度不足などがあげられます。 【測定可能例】 ■THF系(テトラヒドロフラン) ■HFIP系(ヘキサフルオロイソプロパノール) ■NMP系(1-メチル-2-ピロリドン) ■シクロヘキサン系 ■クロロホルム系 ■DMF系(N、N-ジメチルホルムアミド) ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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