更新日： 集計期間:2025年04月16日～2025年05月13日
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1200℃最高温度の真空管状炉 石英・セラミック炉心管対応
• 最高温度は1200℃で、カンタルワイヤー発熱体を使用しています • 真空ポンプと配管を接続することで、低真空・中真空下での熱処理が可能です • 真空置換機能により、不活性ガスや反応ガスなどの制御雰囲気での加熱が可能です • 大気での加熱も可能で、3種類の加熱方法を1機で実現できます • 温度制御器は本体に内蔵されており、制御箱を別置きにする必要がありません • 熱電対や炉心管の取り外しや交換が容易です • 科学研究所や教育機関などで、様々な材料試験や熱処理に使用されています
真空2200℃、H2雰囲気1800℃の条件下で安定した運転ができます
真空焼結炉（メタル炉）メタルホットゾーン高温真空炉「FINEVAC」は、メタルホットゾーンを用いることにより、カーボンの汚染を解消します。 真空、水素ガス、不活性ガス雰囲気で、1800℃以上の高温で安定操業が可能です。高純度のファインセラミックスを焼成できます。 適用材質はファインセラミック、有効寸法は300×300×600、500×500×1000、最高温度は1300℃、1600℃、2200℃、発熱体はモリブデン、タングステンとなっています。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
高品質素材の金属部品及び発熱体を使用した固体セラミックチャンバーを備えた高精度電気炉
セラミックチェンバー電気炉は、最大1 300℃で、焼入れ、焼戻し、焼ならし（焼準）およびその他の熱処理に使用される、セラミック底板を含む電気炉です。熱処理時に放出されるガスや煙を除去するために、換気ハッチや排気システムをオプションとして選択できます。
最高温度1600℃～1800℃の、自立型高温電気炉
＜特長＞ ＊ 床置きチャンバー型高温電気炉 ＊ 安全スイッチ付き縦型開閉式ドア ＊ 高品質のファイバーボードの断熱材で構成 ＊ 炉内両側に位置するカンタルスーパー（二珪化モリブデン）発熱体 ＊ 亜鉛メッキ塗装鋼板 ＊ 炉床プレートにより底面を保護 ＊ マイクロプロセッサ温度調節器
■ ステンレス筐体の卓上タイプ管状炉
＜説明＞ ■ 本シリーズの管状炉は、抜群の価格対性能比や非常にコンパクトなデザイン、軽量が大きな特徴です。 ■ これらの万能機種にはヒーター線の担体機能も兼ねた作業管が装備されています。このため、作業管は炉のヒーターを構成し、抜群の高速加熱を達成する利点をもたらします。 ■ 管状炉は 1100 ℃ または1300 ℃ に対応しています。 両機種は水平で使用するタイプとして設計されています。 ■ 不活性ガス雰囲気が必要となる場合は、ガスパージセット１を含む石英ガラス製などの作業管を別途装入しなければなりません。
小型の真空炉ですが内部の有効容積は横式丸型で非常に大きく設計されております
『MINI-VAC-NT』は、当社の「真空炉技術」から開発された真空高温炉です。 特殊な操作技術が必要でなくワンハンドルで高真空が得られ、高真空はもちろん 不活性ガスに使用できMINI・VAC-1型は低真空、酸化雰囲気でも使用が可能。 また、ヒーター構造が周囲と後部にもあり温度上昇も早く、温度分布は もちろん温調もP.I.D動作のため800℃±3℃の精密な温度制御ができます。 【特長】 ■ワンタッチの真空操作 ■温度調節および温度分布が抜群に良い ■雰囲気の万能性 ■高速昇温 ■附属機構もつけられる ■有効容積が大きい など ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
好適なヒータ・リフレクタ・試料台などの形状を提案していきます
イムテック株式会社では、真空炉・高温炉のモリブデン・タングステン・タンタルヒータ、リフレクタ及び構成パーツの製作はもとより、その設計段階から真空・不活性ガス雰囲気・温度・均熱などの仕様に応じて、好適なヒータ・リフレクタ・試料台などの形状を提案していきます。 ホットゾーンの新規設計・改造などありましたら、ご相談ください。 使用済みモリブデン・タングステン・タンタル製品はお引取りいたしますのでお問合せください。 【主な取扱い製品】 ○タングステンメッシュヒータ ○モリブデン・タングステン・タンタルプレートヒータ ○モリブデン・タングステンロッドヒータ ○モリブデン・タングステン・タンタルワイヤーヒータ ○リフレクタ、その他 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
研究に使える高速高温焼成！卓上型のコンパクト設計！
『HRシリーズ』は、研究に使える卓上型前扉式高速焼成炉です。 ニ珪化モリブデンヒーターによる高速昇温で、 卓上型のコンパクト設計。また、使用温度、使用サイズに 合わせたバリエーションをご用意しております。 【特長】 ■研究に使える高速高温焼成 ■ニ珪化モリブデンヒーターによる高速昇温 ■卓上型のコンパクト設計 ■使用温度、使用サイズに合わせたバリエーションを用意 ■OP不活性ガス導入装置取り付けにより「還元焼成」にも対応可能 など ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
カーボンヒータユニット、試料移載ユニットを装着した真空高温抵抗合成炉
『真空高温抵抗合成炉』は、不活性ガス雰囲気で、高温に加熱し試料を 合成するための抵抗加熱装置です。 装置は上下分割チャンバーを採用しておりますので、試料の合成を 効率よく行えます。 ヒータ温度、バルブ動作、流量制御をレシピにて管理し、自動制御にて 運転をする事が可能です。 【特長】 ■装置は上下分割チャンバーを採用 ■試料の合成を効率よく行える ■加熱効率の良い抵抗加熱方式を採用 ■最大1 800℃まで昇温可能 ■視認性・操作性に優れる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ローコストで大容量の1 700℃仕様の高温簡易雰囲気電気炉
二珪化モリブデンヒーター使用にて手軽に1 700℃(オプションにて1 800℃)得られ各種実験等に向いています。 オプション類も充実しておりコンピューターソフト(WindowsXP/7/8対応)も用意しております。 N2及びAr等の不活性ガス雰囲気で使用でき強制排気装置(オプション)も揃えております。 標準で9×9パターンプログラムコントローラーを採用、オプションで16×16プログラムまで可能。
豊富な実績を誇るベストセラータイプ、高温半田付やペースト焼成・金属粒子燒結接合工程を実績のソフトと信頼性の高いハードでサポート
炉内を水素還元雰囲気置換。Ｎ２による不活性雰囲気では実現できない低酸素濃度と還元雰囲気処理をコンベア炉による連続処理で実現。 水素雰囲気の還元効果を応用し、通常のリフローでは対応できない高い信頼性を求められる高温半田付や連続還元雰囲気処理熱処理に対応。 各種ペーストの焼成にも実績豊富。 ３００ｍｍウェハ対応のＣｔｏＣタイプでシステムＬＳＩのウェハバンプのリフロー工程もカバー 従来の半田付・ロー付・ペースト焼成工程だけでなく次世代接合材（金属ナノペースト）の燒結接合にも実績対応。 デモ機を常設し各用途の初期テストから量産まで確実にサポート。
炉内温度分布の均一性が特長！試料着脱は簡易蓋開閉方式及び試料昇降機構によります
『TOR-14』は、加熱温度2000℃(Max.)、1800℃(Nor.)の高温熱処理炉です。 省スペース、省電力、省冷却水によるエコ設計。 排気系はターボ分子ポンプ又はDPに変更が出来ます。 オプションとして、ルツボ形状選択や、真空排気ユニット取付、冷却水チラー取付をご用意しております。 【特長】 ■炉体、制御部一体化によるコンパクト設計 ■試料着脱は簡易蓋開閉方式及び試料昇降機構による ■炉内温度分布の均一性 ■省スペース、省電力、省冷却水によるエコ設計 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
超小型真空リフロー炉の決定版!!
大変ご好評頂いております超小型リフロー炉シリーズに超小型真空リフロー炉（TR-125V2）がついに販売を開始致しました！ リフロー炉を導入したいが、価格が高い、場所がない等で機種の選定にお悩みの方や、既にリフロー炉を持っているが、大型の為、わざわざ大型のリフロー炉を動かすのも手間と時間がかかると感じられている方に最適な超小型真空リフロー炉です。
二珪化モリブデンヒータを採用！常用1800℃まで昇温可能な縦型抵抗加熱炉
『T11-18VR』は、アルミナチューブ内を不活性ガス又は酸化大気雰囲気で、 高温に加熱し、試料を合成するための抵抗加熱装置です。 縦型抵抗加熱方式を採用する事で、チューブ内への大気巻込みを極力低減し、 装置占有面積も小さくする事が可能となりました。 また、二珪化モリブデンヒータを採用しており、常用1800℃（最大1830℃）まで 昇温可能です。 【特長】 ■縦型抵抗加熱方式を採用する事で、装置占有面積も小さくする事が可能 ■二珪化モリブデンヒータを採用しており、常用1800℃（最大1830℃）まで昇温可能 ■坩堝昇降軸の動作を精動作から粗動作までシームレスな動作が可能 ■坩堝昇降機構を装備しているため、より安全かつ容易に坩堝の脱着が行える ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
Φ6〜8inch超高温ウエハーアニール装置 研究開発から小規模生産まで多目的に幅広く対応するハイパフォーマンス機
◾️ Max2000℃ ◾️ 有効加熱範囲：Φ6〜Φ8inch 枚葉式、又はバッチ式（多段5枚カセット） ◾️ ヒーター制御：1ゾーン、又は2ゾーン（カスケード制御） ◾️ ヒーター材質： ・C/Cコンポジット：Φ6〜Φ8inch ・PGコーティング 高純度グラファイト：Φ6〜Φ8inch ◾️ 使用雰囲気： ・真空（1x10-2Pa）、不活性ガス（Ar N2） ◾️ PLCセミオート運転 ・真空/パージサイクル、ベントの自動シーケンス制御 ・フルオート自動運転（オプション） ・タッチパネル操作、操作が分散せず一元管理が可能です。 ◾️ プロセス圧力制御 ・APCコントロール（MFC流量、又は自動開度調整バルブ PIDループ制御） ・MFC最大3系統流量自動制御、又はフロートメーター/ニードルバルブの手動調整 ◾️ PLOT画面グラフ表示、CSVデータ出力
