更新日： 集計期間:2025年09月24日～2025年10月21日
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加熱長は300mm×2ゾーン！過熱防止装置付き/CE認証品
『OSK 93TI151』は、バイオマス、セラミック、セメント、リチウム電池、 CVD、焼成、熱分解プロセス等に幅広く使える実験室及び小規模生産用 ロータリーキルンです。 原料投入部、回転機構、電気炉、回収部で構成され、連続運転可能。 炉心管内部全体の運転状況の観察が容易な石英観察口を装備。 加熱プログラムを記憶可能な温度調節器(2プログラム計30セグメント)を 2基内蔵しております。 【特長】 ■常用温度1000°C以下の運転に好適 ■1/4" Gas in/outポート及びKF25規格のタールガス排出用ポート付き ■炉心管が簡単に交換可能 ■真空工程対応の完璧なガスシーリング構造 ■最低回転速度(0.7rpm)でもスムーズで安定的に回転 ■熱分解用に使用する場合、後端部にコールドトラップと連結使用可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
加熱工程の自動化に貢献！昇温時間が短く、プロファイル作成可能な加熱法です
当製品は、全自動生産ラインに組み込み可能な、インライン対応加熱炉です。 基板・トレイをローダーから取り込み、枚葉処理にて加熱ステージへ 搬送し昇温いたします。 熱効率の良い熱伝導を利用した昇温工法を採用し、省エネ・省スペース性に 優れた加熱炉です。 【特長】 ■全自動生産ラインに組み込み可能 ■インライン対応 ■熱効率の良い熱伝導を利用した昇温工法を採用 ■優れた省エネ・省スペース性 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ハイブライトは薄物、小物の熱処理に好適です！
ハイブライトは薄物、小物の熱処理に最適です。 ハイブライトでしかできない完全なプレスクエンチ（焼入れ・急冷プレス）で歪を最小限に抑えます。 【特長】 ■搬送台＋パージ室、加熱室、冷却室、パージ室＋抽出台の4室構造の 全自動スルータイプなので連続した焼入れ処理が可能 ■冷却時間を調整することで、製品を熱いうちに取り出し完全な 急冷プレスが可能で歪を最小限に抑制 ■輻射熱＋対流熱で加熱するので製品同士の干渉(カゲ)による温度ムラが生じない 全自動型雰囲気焼戻し炉で納期の短縮！ 搬送台＋冷却室、加熱室、冷却室＋抽出台の３室構造の全自動スルータイプです。 製品をバスケットにセットしサイクル開始ボタンを押すと、自動的に焼戻しを２回繰り返し行ないます。最大３個のバスケットの挿入ができ、焼入れした製品は、翌朝自動的に抽出台に送られ、焼戻し工程時間を大幅に短縮します。 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
最高温度1400～1600℃まで、シリコンカーバイド製裸線発熱体により、急速加熱が可能な高温箱型炉です
最高温度1400℃－1600℃の高温チャンバー炉です。前面の縦型開閉式ドアの開閉は操作が容易です。 シリコンカーバイド(SiC)発熱体により、急速加熱が可能になります。 低熱容量断熱材で、急速加熱だけでなく、効果的な断熱をもたらします。
半導体リレーによる低騒音の加熱動作！ハウジングを低温に保つ高堅牢性の二重壁構造
『OSK 50OU004』は、空気流入/排出の特殊システムにより、1分につき 6回以上の空気入換えが行われる灰化炉です。 置き台として利用できる前開き扉、または値段の追加なしの上下スライド式 扉の選択が可能。後者では高熱部はユーザー操作の扉裏側に位置します。 ハウジングを低温に保つ高堅牢性の二重壁構造となっており、ヒーター内蔵の セラミック発熱体、飛散物と排気ガスからの保護、交換は容易です。 【特長】 ■最高温度：1100℃ ■二面加熱方式 ■1分につき6回以上の空気入換え ■分類されないファイバー材から断熱 ■ステンレス圧延板の本体 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
加熱長は300mm×3ゾーン！最低回転速度(0.7rpm)でもスムーズで安定的に回転
『OSK 93TI152』は、バイオマス、セラミック、セメント、リチウム電池、 CVD、焼成、熱分解プロセス等に幅広く使える実験室及び小規模生産用 ロータリーキルンです。 原料投入部、回転機構、電気炉、回収部で構成され、連続運転可能。 1/4" Gas in/outポート及びKF25規格のタールガス排出用ポート付き。 加熱プログラムを記憶可能な温度調節器(2プログラム計30セグメント)を 3基内蔵しております。 【特長】 ■常用温度1000°C以下の運転に好適 ■炉心管内部全体の運転状況の観察が容易な石英観察口を装備 ■炉心管が簡単に交換できる ■真空工程対応の完璧なガスシーリング構造 ■過熱防止装置付き/CE認証品 ■熱分解用に使用する場合、後端部にコールドトラップと連結使用可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
用途に応じて冷却・加熱・乾燥・硬化に応用できる連続炉！
『エレベータ式炉』は、ワークを目的の温度に到達させる、あるいは 目的の温度で一定時間保持させるためのエレベータ式の炉です。 炉内に熱風あるいは冷風を循環させることによりワークを加熱もしくは 冷却します。 ワークが炉内を昇降するので、空間を立体的に利用できて省スペースで、 温度管理された空間を無駄なく利用できるため、ランニングコストを低く 抑えられます。 【特長】 ■省エネ・省スペース ■昇温スピードをコントロール ■さまざまな用途に使用可能 ■タクトの短縮 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
従来では不可能だった電磁石ギャップ80mmの狭い空間で800℃まで加熱できる電気炉
株式会社和泉テックで取り扱う『磁場中加熱炉』をご紹介します。 炉内寸法φ50石英管。 サンプルサイズは12mm口 x 縦配列5枚です。 従来では不可能だった電磁石ギャップ80mmの狭い空間で800℃まで 加熱できます。 【仕様】 ■炉内寸法φ50石英管 ■サンプルサイズ12mm口 x 縦配列5枚 ■10^-5Pa (PR. 分子ポンプ） ■Minギャップ80mmまで可能 ■MAX 800℃ ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
電力の大幅削減・使用雰囲気量の大幅低減を達成し、少スペースにも対応出来ます
当社では、精密な温度制御の状態において処理物を各種雰囲気中で 焼結する事を目的として使用される全自動プッシャー炉を取り扱っております。 駆動装置・出口置換室・高温焼成部・冷却部・制御盤自動温度調節装置 からなり、処理物トレイを充填したうえで連続的に処理されます。 【仕様内容】 ■常用温度：加熱部・1150℃ ■最高温度：加熱部・1180℃ ■雰囲気：H2+N2 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
高品質、高性能、デザイン性に優れた次世代の真空ガス焼入れ炉！
真空ガス焼入れ炉『TVG』は加熱室と冷却室を中間真空ドアで仕切る2 室型真空熱処理装置です。 高砂工業の真空炉は、通常の真空炉製品と比べ、デザイン（意匠）にこだわっています。デザインにこだわる事で、導入されたお客さまの中には、 工場見学ツアーのメインとして、好評を博していると評判いただいています。 また、機械がむき出しの製品に比べ、ゴミや埃などを防ぐ事もできるので、メンテナンスの頻度を下げる事ができます。もちろん、すぐに取り外しができるので、メンテナンスの邪魔になる事はありません。 【特長】 ■加熱室構成部品はグラファイト材料を使用！ ■炉内の搬送は電動モータのプッシュプラー式でインバータ制御！ ■搬出入時に加熱室が大気に触れないので無酸化処理に最適！ ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。
最高温度1100℃まで昇温可能！315度に往復回転する電気モータが試料の混合を均一化
『OSK 55DB312』は、電気炉の回転運動を利用することにより、 投入された試料を混合・加熱を同時に行う電気炉です。 高品質の発熱体と革新的な断熱設計が組み込まれており、ケース温度と 消費電力の両方を抑えながら、ファーストクラストクラスの パフォーマンスを実現。 管状炉本体は二つに分割され後部でヒンジで固定されており、両端の 空気圧ダンパーによりスムーズな開閉動作が可能です。 【特長】 ■「EPC3016P1」温度調節器搭載(3ゾーン機は「CC-T1」) ■インターロック機構付き蓋 ■制御ボックスー炉本体間接続ケーブル(2m)1本付属 ■石英ガラス製ベセル標準品1本装備 ■電源仕様：単相または三相200-210V、220-240V、三相380-410V ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
炉内がメタル材料で構成！断熱材などによる炉内の汚染を低減可能な加熱炉
「メタル炉」は、炉内の構成部材(ヒーター・断熱材・炉壁)をすべて タングステンやモリブデンなどの金属で構成した高性能加熱炉です。 通常のアルミナやカーボン製炉では避けられない微量コンタミネーションを 排除し、超高純度・高温・クリーンな焼成環境を実現。 特に、真空または不活性ガス雰囲気での超高温プロセスに適しています。 研究開発から量産まで、シビアな温度・雰囲気管理が求められる プロセスに対応します。 【特長】 ■高純度環境 ■高精度温度制御 ■超高温対応 ■真空・不活性雰囲気対応 ■低アウトガス・低発塵 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペース実験炉
◉最高使用温度 Max2000℃ ◉カスタマイズ自在なヒーター構造： - 円筒状ヒーター：るつぼ内サンプル焼成（固形物、粉体、粒形、ペレット形状サンプル用） - 面状ヒーター：Φ1"〜Φ6"ウエハー、小片チップ焼成用 ◉PLCセミオートコントロール タッチパネル画面で温度調節計以外の全ての操作を行います。 煩わしいバルブ開閉・ポンプ起動操作が不要、焼成作業前の「真空/パージ」サイクルと焼成作業後の「ベント」を1ボタンで自動シーケンスで行います。 ◉MFC最大3系統 自動流量制御（又は手動調整） ◉APC自動圧力コントロール ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース 幅603 x 奥行603 x 高さ1,160mm（*ロータリーポンプ筐体内設置） 実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単な操作で行えます。 本体は小型でありながらよりさまざまな分野の研究開発にお使いいただけます。
フラックスレス・ボイドフリー・鉛フリーなど高信頼性実装を実現するスタンダードモデル。ユニテンプジャパン製
『RSS-210-S』は、フラックスレスやボイド除去、鉛フリーへの課題解決に 好適な、卓上型真空はんだリフロー装置です。 従来の”フラックス”や”水素還元”、「ギ酸」を使っての還元に対応。 ギ酸の強力な還元作用で、基板などの金属表面の酸化膜を効果的に除去し、 フラックス無しでも濡れ性の向上を実現。さらに真空技術を組み合わせ 最高0.01%のボイドフリーを可能にします。 多彩なリフロープロファイル設定と抜群の温度コントロール性で、 パワーデバイスや航空宇宙などに求められる水準の高信頼性実装を実現します。 【特長】 ■毎秒4℃のスピード昇温、水冷式なのでタクトタイムを大幅削減 ■最大到達温度400℃対応（オプションで500℃） ■ギ酸・水素・窒素など様々な雰囲気環境に対応 ■設定した温度プロファイルをほぼそのまま実現 繰返し精度も高く、オーバーシュートも殆どゼロ ■加熱プレート上の面内温度差がゼロに近く、大きなワークもムラなく加熱 ※無償デモのご依頼も承ります。お気軽にお問い合わせ下さい。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
300mm角対応モデル。ローダー・アンローダーと連携可能で量産にも。 ユニテンプジャパン製
当製品は、最高0.01%のボイドフリーを可能にし、フラックスレスや 鉛フリーへの課題解決に好適な、卓上型真空はんだリフロー装置です。 接合する金属表面の酸化膜除去に”水素還元”や「ギ酸還元」に対応。 ギ酸の強力な還元作用で、フラックス無しでも濡れ性の向上を実現します。 また、業界最小クラスのコンパクト設計ながら、試作開発～量産まで 対応する機能と性能を一台に凝縮。 リフロープロファイル設定の多彩さと、抜群の温度コントロール性で、 パワーデバイスや航空宇宙開発などに求められる水準の高信頼性実装を実現します。 【特長】 ■毎秒2.5℃のスピード昇温、水冷式でタクトタイムを大幅削減 ■最大到達温度450℃対応（オプションで650℃） ■ギ酸・水素・窒素など様々な雰囲気環境に対応 ■設定した温度プロファイルをほぼそのまま実現 繰返し精度も高く、オーバーシュートも殆どゼロ ■加熱プレート上の面内温度差がほぼゼロで、大きなワークもムラなく加熱 ※無償デモのご依頼も承ります。お気軽にお問い合わせ下さい。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
