更新日： 集計期間:2025年11月26日～2025年12月23日
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加熱工程の自動化に貢献！昇温時間が短く、プロファイル作成可能な加熱法です！
当製品は、全自動生産ラインに組み込み可能な、インライン対応加熱炉です。 基板・トレイをローダーから取り込み、枚葉処理にて加熱ステージへ 搬送し昇温いたします。 熱効率の良い熱伝導を利用した昇温工法を採用し、省エネ・省スペース性に 優れた加熱炉です。 【特長】 ■全自動生産ラインに組み込み可能 ■インライン対応 ■熱効率の良い熱伝導を利用した昇温工法を採用 ■優れた省エネ・省スペース性 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ハイブライトは薄物、小物の熱処理に好適です！
ハイブライトは薄物、小物の熱処理に最適です。 ハイブライトでしかできない完全なプレスクエンチ（焼入れ・急冷プレス）で歪を最小限に抑えます。 【特長】 ■搬送台＋パージ室、加熱室、冷却室、パージ室＋抽出台の4室構造の 全自動スルータイプなので連続した焼入れ処理が可能 ■冷却時間を調整することで、製品を熱いうちに取り出し完全な 急冷プレスが可能で歪を最小限に抑制 ■輻射熱＋対流熱で加熱するので製品同士の干渉(カゲ)による温度ムラが生じない 全自動型雰囲気焼戻し炉で納期の短縮！ 搬送台＋冷却室、加熱室、冷却室＋抽出台の３室構造の全自動スルータイプです。 製品をバスケットにセットしサイクル開始ボタンを押すと、自動的に焼戻しを２回繰り返し行ないます。最大３個のバスケットの挿入ができ、焼入れした製品は、翌朝自動的に抽出台に送られ、焼戻し工程時間を大幅に短縮します。 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
用途に応じて冷却・加熱・乾燥・硬化に応用できる連続炉！
『エレベータ式炉』は、ワークを目的の温度に到達させる、あるいは 目的の温度で一定時間保持させるためのエレベータ式の炉です。 炉内に熱風あるいは冷風を循環させることによりワークを加熱もしくは 冷却します。 ワークが炉内を昇降するので、空間を立体的に利用できて省スペースで、 温度管理された空間を無駄なく利用できるため、ランニングコストを低く 抑えられます。 【特長】 ■省エネ・省スペース ■昇温スピードをコントロール ■さまざまな用途に使用可能 ■タクトの短縮 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
従来では不可能だった電磁石ギャップ80mmの狭い空間で800℃まで加熱できる電気炉
株式会社和泉テックで取り扱う『磁場中加熱炉』をご紹介します。 炉内寸法φ50石英管。 サンプルサイズは12mm口 x 縦配列5枚です。 従来では不可能だった電磁石ギャップ80mmの狭い空間で800℃まで 加熱できます。 【仕様】 ■炉内寸法φ50石英管 ■サンプルサイズ12mm口 x 縦配列5枚 ■10^-5Pa (PR. 分子ポンプ） ■Minギャップ80mmまで可能 ■MAX 800℃ ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
電力の大幅削減・使用雰囲気量の大幅低減を達成し、少スペースにも対応出来ます
当社では、精密な温度制御の状態において処理物を各種雰囲気中で 焼結する事を目的として使用される全自動プッシャー炉を取り扱っております。 駆動装置・出口置換室・高温焼成部・冷却部・制御盤自動温度調節装置 からなり、処理物トレイを充填したうえで連続的に処理されます。 【仕様内容】 ■常用温度：加熱部・1150℃ ■最高温度：加熱部・1180℃ ■雰囲気：H2+N2 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
高品質、高性能、デザイン性に優れた次世代の真空ガス焼入れ炉！
真空ガス焼入れ炉『TVG』は加熱室と冷却室を中間真空ドアで仕切る2 室型真空熱処理装置です。 高砂工業の真空炉は、通常の真空炉製品と比べ、デザイン（意匠）にこだわっています。デザインにこだわる事で、導入されたお客さまの中には、 工場見学ツアーのメインとして、好評を博していると評判いただいています。 また、機械がむき出しの製品に比べ、ゴミや埃などを防ぐ事もできるので、メンテナンスの頻度を下げる事ができます。もちろん、すぐに取り外しができるので、メンテナンスの邪魔になる事はありません。 【特長】 ■加熱室構成部品はグラファイト材料を使用！ ■炉内の搬送は電動モータのプッシュプラー式でインバータ制御！ ■搬出入時に加熱室が大気に触れないので無酸化処理に最適！ ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペース実験炉
◉最高使用温度 Max2000℃ ◉カスタマイズ自在なヒーター構造： - 円筒状ヒーター：るつぼ内サンプル焼成（固形物、粉体、粒形、ペレット形状サンプル用） - 面状ヒーター：Φ1"〜Φ6"ウエハー、小片チップ焼成用 ◉PLCセミオートコントロール タッチパネル画面で温度調節計以外の全ての操作を行います。 煩わしいバルブ開閉・ポンプ起動操作が不要、焼成作業前の「真空/パージ」サイクルと焼成作業後の「ベント」を1ボタンで自動シーケンスで行います。 ◉MFC最大3系統 自動流量制御（又は手動調整） ◉APC自動圧力コントロール ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース 幅603 x 奥行603 x 高さ1,160mm（*ロータリーポンプ筐体内設置） 実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単な操作で行えます。 本体は小型でありながらよりさまざまな分野の研究開発にお使いいただけます。
炉内がメタル材料で構成！断熱材などによる炉内の汚染を低減可能な加熱炉
「メタル炉」は、炉内の構成部材(ヒーター・断熱材・炉壁)をすべて タングステンやモリブデンなどの金属で構成した高性能加熱炉です。 通常のアルミナやカーボン製炉では避けられない微量コンタミネーションを 排除し、超高純度・高温・クリーンな焼成環境を実現。 特に、真空または不活性ガス雰囲気での超高温プロセスに適しています。 研究開発から量産まで、シビアな温度・雰囲気管理が求められる プロセスに対応します。 【特長】 ■高純度環境 ■高精度温度制御 ■超高温対応 ■真空・不活性雰囲気対応 ■低アウトガス・低発塵 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
フラックスレス・ボイドフリー・鉛フリーなど高信頼性実装を実現するスタンダードモデル。『ユニテンプジャパン製』
『RSS-210-S』は、フラックスレスやボイド除去、鉛フリーへの課題解決に 好適な、卓上型真空はんだリフロー装置です。 従来の”フラックス”や”水素還元”、「ギ酸」を使っての還元に対応。 ギ酸の強力な還元作用で、基板などの金属表面の酸化膜を効果的に除去し、 フラックス無しでも濡れ性の向上を実現。さらに真空技術を組み合わせ 最高0.01%のボイドフリーを可能にします。 多彩なリフロープロファイル設定と抜群の温度コントロール性で、 パワーデバイスや航空宇宙などに求められる水準の高信頼性実装を実現します。 【特長】 ■毎秒4℃のスピード昇温、水冷式なのでタクトタイムを大幅削減 ■最大到達温度400℃対応（オプションで500℃） ■ギ酸・水素・窒素など様々な雰囲気環境に対応 ■設定した温度プロファイルをほぼそのまま実現 繰返し精度も高く、オーバーシュートも殆どゼロ ■加熱プレート上の面内温度差がゼロに近く、大きなワークもムラなく加熱 ※無償デモのご依頼も承ります。お気軽にお問い合わせ下さい。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
熱処理のノウハウが豊富！初心者の方でも簡単に熱処理が出来るようサポートします
『NVF-C型』は、炉内に撹拌ファンを設ける事で均熱性の向上を実現した 対流加熱付真空熱処理炉です。 均熱性を高めることにより、品質の安定や、硬度ムラの低減、処理時間の 短縮を図ることが可能。 小型から大型機まで、国内外と問わず、様々なニーズに対応し、フルオーダー メイドで、「創るから納める、アフターメンテナンス」まで行います。 【処理可能鋼材】 ■SKD11 ■SKD61 ■SUS304 等 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
省エネルギーバーナ搭載。やさしい加熱のるつぼ炉。
『ENX-POT』は「エコネクスト」シリーズのるつぼ炉です。熱交換器搭載バーナENXによる排熱回収に加え、高機能断熱材による断熱性能向上、バーナの配置最適化などにより、省エネルギーおよびCO₂削減を実現しています。 【特徴】 ■排熱回収による省エネルギー ■高温空気燃焼でるつぼの局所加熱を抑える ■独自の高温空気燃焼技術による低NOx ■バーナ配置最適化によるメンテ性向上 ■オーダーメイド可能な多彩なオプション ■IoT対応 視える化＆予防保全
TITANシリーズのプラットフォームを流用した低温用真空炉！
『TITAN LT』は、Ipsenの独自のフロー生産プロセスで製造された低温用真空炉です。 生産性・短納期・操作性における費用対効果の高い真空炉で、特に真空加熱による光輝処理に最適です。 【用途】 焼鈍、ろう付け、光輝時効処理、応力除去、焼き戻し 【特長】 ■独自の制御用ソフトウェア搭載 ■物温測定、物温管理が容易 ■Ipsen独自のヒーター構造 ■昇温用の対流加熱では2barまで加圧可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
300mm角対応モデル。ローダー・アンローダーと連携可能で量産にも。 ユニテンプジャパン製
当製品は、最高0.01%のボイドフリーを可能にし、フラックスレスや 鉛フリーへの課題解決に好適な、卓上型真空はんだリフロー装置です。 接合する金属表面の酸化膜除去に”水素還元”や「ギ酸還元」に対応。 ギ酸の強力な還元作用で、フラックス無しでも濡れ性の向上を実現します。 また、業界最小クラスのコンパクト設計ながら、試作開発～量産まで 対応する機能と性能を一台に凝縮。 リフロープロファイル設定の多彩さと、抜群の温度コントロール性で、 パワーデバイスや航空宇宙開発などに求められる水準の高信頼性実装を実現します。 【特長】 ■毎秒2.5℃のスピード昇温、水冷式でタクトタイムを大幅削減 ■最大到達温度450℃対応（オプションで650℃） ■ギ酸・水素・窒素など様々な雰囲気環境に対応 ■設定した温度プロファイルをほぼそのまま実現 繰返し精度も高く、オーバーシュートも殆どゼロ ■加熱プレート上の面内温度差がほぼゼロで、大きなワークもムラなく加熱 ※無償デモのご依頼も承ります。お気軽にお問い合わせ下さい。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
フラックスレス・ボイドフリー・鉛フリーなど高信頼性実装を実現するスタンダードモデル。ユニテンプジャパン製
『RSS-160-S』は、フラックスレスやボイド除去、鉛フリーへの課題解決に 好適な、卓上型真空はんだリフロー装置です。 従来の”フラックス”や”水素還元”の他、「ギ酸」を使っての還元に対応。 ギ酸の強力な還元作用で、基板などの金属表面の酸化膜を効果的に除去し、 フラックス無しでも濡れ性の向上を実現。さらに真空技術を組み合わせ、 最高0.01%のボイドフリーを可能にします。 また、業界最小クラスのコンパクト設計ながら、さまざま試作開発に 対応する機能と性能を一台に凝縮しました。 【特長】 ■毎分100℃のスピード昇温、さらに水冷式なのでタクトタイムを大幅削減 ■最大到達温度400℃対応（オプションで500℃） ■ギ酸・水素・窒素など様々な雰囲気環境に対応 ■設定した温度プロファイルをほぼそのまま実現 繰返し精度も高く、オーバーシュートも殆どゼロ ■加熱プレート上の面内温度差がゼロに近く、大きなワークもムラなく加熱 ※無償デモのご依頼も承ります。お気軽にお問い合わせ下さい。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
フラックスレス・ボイドフリー・鉛フリーなど高信頼性実装を実現するスタンダードモデル。ユニテンプジャパン製
『RSS-110-S』は、フラックスレスやボイド除去、鉛フリーへの課題解決に 好適な、卓上型真空はんだリフロー装置です。 従来の”フラックス”や”水素還元”、「ギ酸」を使っての還元に対応。 ギ酸の強力な還元作用で、基板などの金属表面の酸化膜を効果的に除去し、 フラックス無しでも濡れ性の向上を実現。さらに真空技術を組み合わせ、 最高0.01%のボイドフリーを可能にします。 多彩なリフロープロファイル設定と抜群の温度コントロール性で、 パワーデバイスや航空宇宙などに求められる水準の高信頼性実装を実現します。 【特長】 ■毎秒2℃のスピード昇温、水冷式なのでタクトタイムを大幅削減 ■最大到達温度400℃対応（オプションで500℃） ■ギ酸・水素・窒素など様々な雰囲気環境に対応 ■設定した温度プロファイルをほぼそのまま実現 繰返し精度も高く、オーバーシュートも殆どゼロ ■加熱プレート上の面内温度差がゼロに近く大きなワークもムラなく加熱 ※無償デモのご依頼も承ります。お気軽にお問い合わせ下さい。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
