更新日： 集計期間:2025年09月17日～2025年10月14日
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開き戸付き、ガス雰囲気使用の3ゾーンチューブ電気炉です。
常用温度1000°C以下の運転に適します。 プログラマブルコントローラ内蔵。 二重ハウジング構造で表面温度を低く保ちます(800°Cで29~30°C)。 Kanthal発熱体により、優れた耐久性を持ちます。 ガス交換実験に適します。 セラミック製断熱材により、軽量且つ温度上昇速度が速い。 便利なデザインにより、試料のセットや取出しが容易。 加熱プログラムを5種類記憶可能な温度調節器（1プログラムに9セグメント）内蔵。 過熱防止装置付き/CE認証品。 半導体制御整流回路（SSR）とプログラム制御により、低ノイズ及び正確な温度制御（±1℃）を実現。 チューブサイズ：直径50/80/100/120mm。 チューブの材質：石英、セラミック、アルミナ、合金。 300mm x 2ゾーン、300mm x 3ゾーン式もございます。
温度均一が5℃以内！炭素製品のような材料の特殊な熱処理にも対応可能
『OSK 75YU 17HV』は、1700℃まで操作できるラボ用真空熱処理炉です。 金属材料やセラミック部品、特にステンレス鋼、高温合金、硬質合金、 非鉄金属のような材料の還元性または保護雰囲気での真空焼結と アニールの熱処理に対応。 温度精密が±1のSCR(ケイ素制御の整流器)と30の区分のプログラム可能な 温度制御を搭載しております。 【特長】 ■良好な真空フランジシールにより漏れがない ■断熱性に優れたセラミックファイバーを採用した炉室を使用 ■温度の増減が速い ■個性的なカスタマイズが可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
セラミックファイバーを真空成形！エネルギーを50％以上節約できるチャンバー材料を使用
『OSK 97TG 14THt』は、金属材料、セラミック、ナノ、半導体、 粉末冶金など、新材料の焼結と高温熱処理に適した3ゾーン横型管状炉です。 熱電対、制御装置、加熱装置共にそれぞれ3組を装備。 RS485ポート及びUSBアダプタを内蔵し、パソコンでの制御ができます。 また、各加熱ゾーンは別々に制御でき3つの異なる温度領域を 得ることが可能です。 【特長】 ■セラミックファイバーを真空成形し高温でも粉が落ちず エネルギーを50％以上節約できるチャンバー材料を使用 ■熱電対、制御装置、加熱装置共にそれぞれ3組を装備 ■各加熱ゾーンは別々に制御でき3つの異なる温度領域を得ることが可能 ■RS485ポート及びUSBアダプタを内蔵しパソコンでの制御が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
最高温度1,650℃！コーナジェット式で炉内の温度差を小さくする焼成炉
『高温シャトルキルン（ガス燃焼）』は、燃焼方式としてバーナを4隅に配置したコーナジェット式で、炉内の温度差を小さくする焼成炉です。 焼成台車が炉から積載／降し場の間を行ったり来たりするところから「シャトル（SHUTTLE）キルン」と呼ばれています。 各種ファインセラミックス成形体、各種粉体原料、その他の用途に適しています。 【特長】 ○最高温度1,650℃で多種多様な製品の焼成が可能 ○高性能燃焼方式により低温域での制御を行い、均一加熱が可能 ○自動温度制御による安定した温度制御が可能 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
カーボンヒータユニット、試料移載ユニットを装着した真空高温抵抗合成炉
『真空高温抵抗合成炉』は、不活性ガス雰囲気で、高温に加熱し試料を 合成するための抵抗加熱装置です。 装置は上下分割チャンバーを採用しておりますので、試料の合成を 効率よく行えます。 ヒータ温度、バルブ動作、流量制御をレシピにて管理し、自動制御にて 運転をする事が可能です。 【特長】 ■装置は上下分割チャンバーを採用 ■試料の合成を効率よく行える ■加熱効率の良い抵抗加熱方式を採用 ■最大1,800℃まで昇温可能 ■視認性・操作性に優れる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
800℃雰囲気で高真空1×10-³Paが可能
本装置は、高真空及びガス雰囲気によりサンプルをプログラム運転により熱処理する装置で800℃で1×10⁻³Paの高真空での熱処理が可能です。
アルミ連続溶解保持炉 プレザーブ炉
炉体構造がより強化され、優れた燃焼制御を発揮！ 死角の無い構造でメンテナンスが容易なアルミ連続溶解保持炉 【特徴】 ○保持室の燃焼スペースが広く、輻射熱が大きい ○溶湯保持深さが浅く広い為、熱の吸収が良い ○特殊耐火物の選定により、湯離れが良い ○溶解室床部には、特殊高アルミナ質煉瓦を使用し、高い強度・耐摩耗性を実現 ○保持室の熱気は湯路から溶解室を通り 投入口から排出される為、材料予熱への利用が可能 ○冷材が溶湯に直接入らない構造の為、溶湯温度の降下が少ない ○溶湯温度及び炉内雰囲気温度制御の為、酸化物発生温度域以下で安定 ○多量の赤外線を含む輝炎バーナーの採用により アルミに対する熱吸収が大きく、炉内雰囲気温度を低く設定する事が可能 ハードスポットの原因ともなる酸化物の発生を低減 ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。
SCRを介したPID自動制御、位相角始動！電流制限抵抗による電力制御
『OSK 75YU RTシリーズ』、無機化合物を焼成、特にリチウムイオン 電池の負極材料の焼成に適した回転式雰囲気炉です。 二層強制空冷構造により、表面温度を60℃未満に保ちます。単一の 加熱ゾーンとチューブの直径はカスタマイズ可能。 炉管は、310sステンレス管、石英管、アルミナ管を使用しています。 【オプション】 ■複数加熱ゾーンの選択 ■タッチスクリーンコントロール ■50セグメントPID自動制御機械式ポンプ ■混合ガスタンク ■KF整形ベローズ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
炉内雰囲気（酸素濃度）の再現性を実現！構成材の軽量化により低燃費・迅速焼成
『シャトルキルン』は、製品を積載した台車を炉内へ装入し、所定の温度で 処理する形式の炉です。 生産量の調整と、焼成温度のパターン変更が容易。 自社開発のバーナー（スーペリオバーナー）と温度制御システムにより、 約100℃から2℃/hの精密な温度コントロールと均一焼成を実現します。 【特長】 ■約100℃から2℃/hの精密な温度コントロールと均一焼成を実現 ■炉内雰囲気（酸素濃度）の再現性を実現 ■荷姿や限られた設置スペースに応じた好適な燃焼方式をご提案 ■特殊な炉材構成によるメンテナンスが軽減 ■セラミックスファイバー等、構成材の軽量化により低燃費・迅速焼成を実現 流量制御システムでは、空燃比をコントロールしながら温度を制御するため、 炉内雰囲気の再現性を確立します。 ※詳しくは関連リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
パソコンでの制御が可能！熱電対、制御装置、加熱装置共にそれぞれ3組を装備
『OSK 97TG 17THt』は、金属材料、セラミック、ナノ、半導体、 粉末冶金など、新材料の焼結と高温熱処理に適した3ゾーン横型管状炉です。 各加熱ゾーンは別々に制御でき3つの異なる温度領域を得ることが可能。 セラミックファイバーを真空成形し、高温でも粉が落ちず、エネルギーを 50％以上節約できるチャンバー材料を使用しております。 ご用命の際は、お気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■セラミックファイバーを真空成形し高温でも粉が落ちず エネルギーを50％以上節約できるチャンバー材料を使用 ■熱電対、制御装置、加熱装置共にそれぞれ3組を装備 ■各加熱ゾーンは別々に制御でき3つの異なる温度領域を得ることが可能 ■RS485ポート及びUSBアダプタを内蔵しパソコンでの制御が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
電気炉 時効炉（6連式）
【仕様】 加熱温度：常用800℃ 最高1000℃ 均熱帯：90パイ×500L 500〜1000℃ ±2℃以内 ヒーター：カンタルヒーター プログラム調節計 温度記録計 電気炉：110パイ×1000L(3分割制御) 200V1パイ7KW／台
良好な真空フランジシールにより漏れがない！個性的なカスタマイズが可能
『OSK 75YU 12HV』は、金属材料やセラミック部品、特にステンレス鋼、 高温合金、硬質合金、非鉄金属のような材料の還元性または保護雰囲気 での真空焼結とアニールの熱処理に対応する高真空炉です。 炭酸化の開発プロセスにおける炭素製品のような材料の特殊な熱処理 にも対応可能。 温度精密が±1のSCR(ケイ素制御の整流器)と30の区分のプログラム可能な 温度制御を搭載しております。 【特長】 ■1700℃まで操作できる ■温度均一 5℃以内 ■良好な真空フランジシールにより漏れがない ■断熱性に優れたセラミックファイバーを採用した炉室を使用 ■温度の増減が速い ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
断熱性に優れたセラミックファイバーを採用した炉室を使用！1700℃まで操作可能
当社が取り扱う、ラボ用真空熱処理炉『OSK 75YU 14HV』を ご紹介いたします。 金属材料やセラミック部品、特にステンレス鋼、高温合金、 硬質合金、非鉄金属のような材料の還元性または保護雰囲気 での真空焼結とアニールの熱処理に対応。 炭酸化の開発プロセスにおける炭素製品のような材料の特殊な 熱処理にも対応できます。 【特長】 ■温度均一 5℃以内 ■良好な真空フランジシールにより漏れがない ■断熱性に優れたセラミックファイバーを採用した炉室を使用 ■温度精密が±1のSCR(ケイ素制御の整流器)と30の区分のプログラム可能な 温度制御 ■温度の増減が速い ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
各加熱ゾーンは別々に制御！2つの異なる温度領域を得ることが可能
『OSK 97TG 12THd』は、金属材料、セラミック、ナノ、半導体、 粉末冶金など、新材料の焼結と高温熱処理に適した2ゾーン横型管状炉です。 熱電対二組、制御装置二組、加熱装置二組を装備。 セラミックファイバーを真空成形し、高温でも粉が落ちずエネルギーを 50％以上節約できるチャンバー材料を使用しております。 また、RS485ポート及びUSBアダプタを内蔵し、パソコンでの制御が 可能です。 【特長】 ■セラミックファイバーを真空成形し高温でも粉が落ちず エネルギーを50％以上節約できるチャンバー材料を使用 ■熱電対二組、制御装置二組、加熱装置二組を装備 ■各加熱ゾーンは別々に制御でき2つの異なる温度領域を得ることが可能 ■RS485ポート及びUSBアダプタを内蔵しパソコンでの制御が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
