更新日： 集計期間:2025年08月06日～2025年09月02日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。
31～45 件を表示 ／ 全 209 件
半導体製造工程などで使用する高純度ガスボンベ内に付着している不純物を除去する装置です。
ボンベの内壁に付着している不純物を加熱真空引きにより取り除きます ボンベサイズ、同時処理本数はカスタマイズにて対応します 自動機、手動機など予算に合わせご提案します 【特長】 ■ボンベの均一な加熱が可能です（Max200℃）。炉内温度±約1％ 。 ■ボンベ加熱と同時にボンベの安全弁への冷却も可能です（熱による安全弁の破損防止の為） ※詳しくはPDF（カタログ）をダウンロード頂くか、お気軽にお問い合わせください
金属線材連続熱処理炉
【仕様】 真空チャンパー 600W×200D×650H 到達圧力 8×10-3Pa 線材径0.5パイ〜0.9パイ×5m 線材送り速度0.01m〜1.5m／sec 加熱方式 直接通電 max Temp 2000℃ Gaバスへ急冷却方式
ロー付処理室ではロー材蒸発防止の目的で加熱時の圧力を真空の他にパーシャルガスの選択も可能
連続式に各種部品のロー付が可能で 2〜6室で構成されている、連続式真空ロー付炉
信頼性、品質性、経済性、生産性を兼ね備えた真空炉です
「真空焼結炉 高温真空・加圧焼結炉」は、超硬合金、希土類磁石、ファインセラミックスの焼結に適した高温真空焼結炉です。 減圧フローガスを利用して、脱脂から予備焼結、本焼結、冷却まで１バッチ完全自動処理が可能です。信頼性、品質性、経済性、生産性を兼ね備えた真空炉です。 適用材質は粉末ハイス、高合金鋼、超硬合金、ファインセラミック、有効寸法は300×300×600、500×500×1000、最高温度は1300℃、1600℃、2200℃、発熱体はグラファイトとなっています。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
高周波加熱式拡散接合炉
【用途】 30パイまでの各種金属類の拡散接合に使用。 【仕様】 加圧能力：1Torr 常用圧力：10-4Pa 常用加熱温度：1300℃ 加熱長：30パイx100mm 高周波電源：20KW
非常事態宣言などで、ビジネスに影響が出ている真空炉ユーザー様へ社内点検のご提案！
あらゆる熱処理にとって、正確な処理と金属特性を得ることが重要です。多くの場合、それらは真空炉の性能に依存します。炉が故障した場合、予期せぬ設備停止と予定外の経費が発生します。このようなコストを避けるために、熱処理に携わる部署は真空炉の状態を常に把握することが求められます。 航空宇宙業界、自動車、発電、医療、工具、その他のどのような業界であろうと、炉を信頼できる性能で、できる限り長く稼働させることが目標であることに変わりありません。 今回、紹介するのは、基本的な5つの点検項目です。まずはこれらから、実施することを推奨します。
ヒーター、断熱材は均熱性に優れたグラファイト製を基本にしている真空焼結炉をご紹介
『FVS-Rシリーズ』は、最高2500℃までの高温に対応している抵抗加熱式の 真空焼結炉です。 タンク形状には、通常の横丸型、角型のほかに、当社独特の「前割り型」 （縦置き・前扉方式）を採用し、試料の装填、取出しが容易でメンテナンス性にも 優れています。 連続式の設計・製作も多数実績がありますので、ご相談下さい。 【特長】 ■最高2500℃までの高温に対応 ■6.65×10^-4Paまでの高真空の製作実績がある ■焼結条件に応じてモリブデンなどの金属ヒータも使用 ■冷却方式：熱交換機とファンを組み合わせて焼結後の試料冷却速度を高める ■脱脂：バインダを昇華させ回収する ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
焼戻し・焼なましなどの各種熱処理に加え、真空窒化処理・酸化処理・サブゼロ処理が１台で可能となる多彩なオプション！
低温熱処理用低圧真空炉B5_Rシリーズは、加熱室内の温度分布を±３℃に維持。優れた熱均一性により短いサイクルでの加熱、冷却を可能とし、高い生産性と収益性に寄与します。 低圧窒化処理（ALLNITプロセス）は、減圧されたアンモニアベースの窒化雰囲気を使用し、安定した再現性と短い処理時間を実現します。熱間加工工具（金型、パンチ、射出ノズル等）や冷間加工工具（剪断機、回転櫛等）、そして切削工具、特に高速度鋼（ハイス）に有効な窒化機能で、B5_Rシリーズのオプションです。 また、超低温処理（COOL PLUS）のオプションは、残留オーステナイトを低減し、部品の安定化に有効です。
超伝導線材熱処理炉 VGF-55-1500型
【特長】 １）常温から1000℃まで約11分で急加熱できます。 ２）不活性ガス導入により試料の急冷が可能です。 ３）均熱帯がφ50×300L 1000℃±1℃以内 【仕様】 max Temp 1000℃ 均熱帯φ50×300L+移動1000L 到達圧力 3×10-5Pa(ＤＣ−７０５油、トラップ使用時) 透明電気炉 A型 電源 1パイ 200V 3KW 真空排気系(ＤＳ−４１２Ｚ型)(大亜真空製) 電離真空計(ＩＴ−Ｌ２０Ｐ型)(大亜真空製) ※詳細はお問い合わせ下さい。
電気をエネルギー源とした各種工業加熱システムを提供するサーモシステム事業
富士電波工業株式会社の「サーモシステム事業」についてご紹介します。 誘導加熱装置のメーカーとしてスタートし、産業構造の変遷に柔軟に対応。 鉄鋼など金属の溶解炉、ファインセラミックスなどの焼成炉、シリコンの 溶融、CVDなど各種の表面処理、熱処理設備とバラエティを広げています。 熱加工を必要とする様々な業界のお客様の多彩なニーズをくみ取って、 高温から低温まで、システム化された好適なソリューションを提供します。 【特長】 ■産業構造の変遷に柔軟に対応 ■バラエティを広げている ■熱加工を必要とする様々な業界のお客様の多彩なニーズをくみ取っている ■高温から低温まで、システム化された好適なソリューションを提供 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
各種仕様の高温炉を標準化し、セラミックスをはじめとする多様な高機能材の熱処理に対応
『ガス圧高温炉』は、セラミックスやグラファイトなどの焼成や 焼結に使用される炉です。 N2、Ar、Heなどの不活性ガス雰囲気を使用し、真空から0.99MPaまでの 高圧雰囲気中で2,800℃までの高温運転が行える不活性ガス雰囲気炉をはじめ、 大気やO2雰囲気中で、1,700℃まで加熱できる酸化雰囲気炉や、H2雰囲気や 0.01Pa以下の高真空中で、2,500℃まで加熱できる高真空雰囲気炉、ハロゲンガス、 純化炉があります。 さらに最高30MPaの超高圧ガスが使用でき、脱脂・焼結工程の簡略化を実現する 低圧HIP、真空から常圧までの処理ができる常圧高温炉などがあり、各種仕様の 高温炉を標準化しています。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
真空屋としての気密性持続に対するこだわりをカタチに。炉体開閉式構造を採用しています
当製品は、加熱方式からヒーターエレメント選定まで装置構成全ての 設計製作が可能な電気炉です。 ご使用になられる方の事を考慮した炉体構造設計。 1100℃と高温まで加熱できる能力を持ち、プログラム温度調節計にて 温度ステップを設けることができます。 また、酸素にも、水気にも触れずに持ち運び可能な「真空乾燥機」も 取り扱っております。 【特長】 ■炉体開閉式構造を採用 ■ご使用になられる方の事を考慮した炉体構造設計 ■ご希望に応じた設計製作が可能 ■最高温度:1,100℃ ■真空下かつガスフローができる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
コンパクトなのに常温から1000℃まで約10分で到達。加熱物を設置して炉内に収容、炉内真空、ガス置換可能な電気炉です。
昇降式ステージを有し、ステージのセラミックファイバー台上に被加熱物を設置して炉内に収容、炉内真空、ガス置換可能な電気炉です。 【特徴】 ○容易に焼成試験が可能なコンパクト設計 ○焼成試験に必要な接続ポートを完備 ○使い勝手の良いマニュアル操作 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
充分な安全機構とともに焼入、焼戻しまでが全自動プログラムコントロールにて可能
断熱室内に設けたファンにより、雰囲気ガスを撹拌するため 処理物を効果的に加熱することが可能な、真空置換焼戻炉
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペース実験炉
◉最高使用温度 Max2000℃ ◉カスタマイズ自在なヒーター構造： - 円筒状ヒーター：るつぼ内サンプル焼成（固形物、粉体、粒形、ペレット形状サンプル用） - 面状ヒーター：Φ1"〜Φ6"ウエハー、小片チップ焼成用 ◉PLCセミオートコントロール タッチパネル画面で温度調節計以外の全ての操作を行います。 煩わしいバルブ開閉・ポンプ起動操作が不要、焼成作業前の「真空/パージ」サイクルと焼成作業後の「ベント」を1ボタンで自動シーケンスで行います。 ◉MFC最大3系統 自動流量制御（又は手動調整） ◉APC自動圧力コントロール ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース 幅603 x 奥行603 x 高さ1,160mm（*ロータリーポンプ筐体内設置） 実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単な操作で行えます。 本体は小型でありながらよりさまざまな分野の研究開発にお使いいただけます。
