ウェハのメーカーや取扱い企業、製品情報、参考価格、ランキングをまとめています。
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ウェハ(成膜) - メーカー・企業と製品の一覧

更新日: 集計期間:2026年01月07日~2026年02月03日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。

ウェハの製品一覧

1~30 件を表示 / 全 32 件

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成膜Siウェハー

成膜Siウェハー

半導体向けテストウェーハ販売、熱酸化膜付きシリコンウェーハなど膜付きウェーハを小径から対応致します。

  • その他電子部品
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  • ウエハー
  • ウェハ

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CZウエハ 成膜加工

2インチから12インチウエハへの成膜が可能です。

株式会社エナテックのCZウエハ 成膜加工は、膜種により2インチから450mmウエハへの成膜が可能です。 酸化膜系:熱酸化、RTO、LP-TEOS、HDP-USG、P-TEOS、PSG、BPSG、BSG、LP-CVD、PE-CVD 窒化膜系: HCD-SiN、DCS-SiN、P-SiN、LP-SiN 、LP-CVD、PE-CVD 金属膜系: TaN、Ta、Cu、Al、AlN、Al-Si、Al-Si-Cu、Ni、W、W-Si-Cu その他 Poly-Si、a-Si、SiC、Low-k(SiOC系、有機化学系)、グラフェン膜、グラファイト *SiO2,SiN,SiONなど膜種により1枚からでも対応が可能です。 *Suputter成膜にてTi,Cu,Cr,Niなど対応可能です。 *レジスト塗布/露光/エッチングは4インチ~12インチまで対応可能です。 *テストパターン付ウエハ(6インチから12インチ)も仕様により一貫で対応致します。 *レチクルご支給による、露光/エッチングも承ります。(8インチと12インチ) 詳しくはお問い合わせ下さい。

  • その他半導体
  • 加工受託
  • ウエハー
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【CMP用テストウエハ】Ecu ブランケットウェハ

画像はCuブランケットウェハの例です!

アドバンスマテリアルズテクノロジーでは、 テスト用ウェハの中でも特に、成膜・CMP・洗浄・エッチング・TSVの 研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。 画像はCuブランケットウェハの例です。 7KA、15KAで成膜した時のCross SEMのウェハです。 ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。

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【テストウェハ】ブランケットウェハ (200mmウェハ)

成膜工程におけるテストウエハを、各企業様の状況に合わせてご提案&製造致します。

アドバンスマテリアルズテクノロジーでは、 テスト用ウェハの中でも特に、成膜・CMP・洗浄・エッチング・TSVの 研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。 【対応可能膜種】  Cu、Ta、TaN、Ti、TiN、Al-Cu、SiN、  PE-TEOS、HDP、HARP oxide、Poly-Si、  Th-Ox、ACL、SiC、SiON、Photo resist、Polyimide ■メタル系  Ru、Co、CoEP、Pt、Au、W ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。

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シリコンウェハー

多様化するニーズにお応えする高品質シリコンウェハー製品

当社は、先進の技術を追求し半導体製造開発に必要不可欠な ベアウェハー、高品質薄膜ウェハー、ダミーウェハー、各種成膜ウェハー等を ご提供し、多様化するマーケットのニーズにお応えいたします。 また、ウェハー加工サービスや分析サービスも承っております。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【各種ウェハー製品】 ■ベアウェハー ■加工成膜ウェハー ■テスト用TEG ■パターン付き300mmウェハー ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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ウェハー加工

「評価用パターンウェハー」「シリコンウェハー販売」「化合物半導体」のご紹介!小ロットからカスタマイズオーダーまで対応可能

株式会社アイテスが取り扱っている「評価用パターンウェハー」「シリコンウェハー販売」「化合物半導体」をご紹介します。「評価用パターンウェハー」は、CMP/成膜装置/洗浄装置/各種素材の評価用として、様々な構造のテスト用パターンウェハーを作成。 数枚の試作評価でも問題無く受け付けており、マスクの設計から断面の 寸法測定に至るまで、非常に柔軟な対応に定評があります。 【特長】 <評価用パターンウェハー> ■CMP/成膜装置/洗浄装置/各種素材の評価用として、様々な構造の  テスト用パターンウェハーを作成 ■数枚の試作評価でも問題無く受け付けている <シリコンウェハー販売> ■半導体前工程向けのパーティクルフリー品から、後工程向けの安価な  コインロールウェハーまで、幅広く取り扱っている ■シリコンウェハーへの成膜加工、BG薄化加工、ダイシング加工や  複雑なザグリ加工、貫通穴加工も可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • ウエハー
  • ウエハ加工/研磨装置
  • 加工受託
  • ウェハ

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【評価用パターンウェハー】小ロット~カスタマイズオーダーまで対応

数枚の試作加工でも問題無く受け付けており、マスクの設計から断面の寸法測定に至るまで、非常に柔軟な対応に定評があります。

株式会社アイテスが取り扱っている「評価用パターンウェハー」「シリコンウェハー販売」「化合物半導体」をご紹介します。「評価用パターンウェハー」は、CMP/成膜装置/洗浄装置/各種素材の評価用として、様々な構造のテスト用パターンウェハーを作成。 数枚の試作評価でも問題無く受け付けており、マスクの設計から断面の 寸法測定に至るまで、非常に柔軟な対応に定評があります。 【特長】 <評価用パターンウェハー> ■CMP/成膜装置/洗浄装置/各種素材の評価用として、様々な構造の  テスト用パターンウェハーを作成 ■数枚の試作評価でも問題無く受け付けている <シリコンウェハー販売> ■半導体前工程向けのパーティクルフリー品から、後工程向けの安価な  コインロールウェハーまで、幅広く取り扱っている ■シリコンウェハーへの成膜加工、BG薄化加工、ダイシング加工や  複雑なザグリ加工、貫通穴加工も可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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【CMP用テストウエハ】AMT-S3 MASK Pattern

研究用途におすすめ! HDPをトップ層にしたパターンウェハ

アドバンスマテリアルズテクノロジーでは、 テスト用ウェハの中でも特に、成膜・CMP・洗浄・エッチング・TSVの 研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。 AMTオリジナルのマスクで、 HDPをトップ層にしたパターンウェハです。 均一性、埋込性ともによくできており、研究用途におすすめです。 ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。

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【CMP用テストウエハ】CD 50nm STI Pattern

300mmウェハにて対応可能! 近年のデバイスのターゲットサイズに近い幅でパターンを作ることに成功

アドバンスマテリアルズテクノロジーでは、 テスト用ウェハの中でも特に、成膜・CMP・洗浄・エッチング・TSVの 研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。 近年のデバイスのターゲットサイズに近い幅で パターンを作ることに成功いたしました。 300mmウェハにて対応可能です。 ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。

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シリコンの薄膜成膜加工

熱酸化膜やパターン加工膜、多層膜加工膜など!膜厚につきましては、都度ご相談に応じます

当社で行う、「薄膜成膜加工」をご紹介いたします。 ダスト保証品も可能な「熱酸化膜」をはじめ、「Poly膜(ノンドープ、 ドープド)」や「チッカ膜(LP・プラズマ)」、「TEOS膜」など 様々な膜に加工。膜厚につきましては、都度ご相談に応じます。 【膜種】 熱酸化膜(ダスト保証品も可能です)/Poly膜(ノンドープ、ドープド)チッカ膜(LP・プラズマ)※12″も対応可能です。 TEOS膜/BPSG膜/TI、TIN膜/CU膜/W膜/パターン加工膜/多層膜加工膜/各種IC種類 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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【パターンウェハ】3D ILD Pattern

CMP研究・開発用途に大変有用! 対応膜種はご希望によりご相談ください。

アドバンスマテリアルズテクノロジーでは、 テスト用ウェハの中でも特に、成膜・CMP・洗浄・エッチング・TSVの 研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。 画像は、HDP、SiN on Si の例になります。 200mm、300mmにて対応可能です。 対応膜種はご希望によりご相談ください。 高段差のパターンもご用意があります。 CMP研究・開発用途に大変有用です。 ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。

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【パターンウェハ】CD 50nm STI Pattern

200mm 300mm にて対応可能! 対応膜種はご希望によりご相談ください。

アドバンスマテリアルズテクノロジーでは、 テスト用ウェハの中でも特に、成膜・CMP・洗浄・エッチング・TSVの 研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。 画像は、HDP、SiN on Si の例になります。 200mm 300mm にて対応可能です。 ※MITマスク使用 対応膜種はご希望によりご相談ください。 ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。

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【CMP用テストウエハ】MIT W pattern Wafer

国内マスプロダクションで製造した、デバイスグレートに近いパターンウェハ

アドバンスマテリアルズテクノロジーでは、 テスト用ウェハの中でも特に、成膜・CMP・洗浄・エッチング・TSVの 研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。 国内マスプロダクションで製造した デバイスグレートに近いパターンウェハです。 均一性、埋込性ともによくできています。  非常に高品質なテストウェハとなっております。 200mm、300mmにて対応可能です。 ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。

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【CMP用テストウエハ】3D ILD Pattern wafer

CMP研究・開発用途に大変有用! 高段差のパターンも用意あり

アドバンスマテリアルズテクノロジーでは、 テスト用ウェハの中でも特に、成膜・CMP・洗浄・エッチング・TSVの 研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。 画像はHDP、SiN on Si の例です。 200mm 300mm にて対応可能です。 対応膜種はご希望によりご相談ください。 高段差のパターンもご用意があり、 CMP研究・開発用途に大変有用です。 ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。

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【CMP用テストウエハ】MIT STI CMP wafer

200mm 300mm にて対応可能! 対応膜種はご希望によりご相談ください。

アドバンスマテリアルズテクノロジーでは、 テスト用ウェハの中でも特に、成膜・CMP・洗浄・エッチング・TSVの 研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。 画像はHDP、SiN on Si の例です。 200mm 300mm にて対応可能です。 ※MITマスク使用 対応膜種はご希望によりご相談ください。 ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。

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【テストウエハの基礎知識】テストウェハとは何か?

半導体の材料メーカーや装置メーカーに供給するテストウエハについてご案内いたします。

テストウェハとは、次世代半導体プロセス開発に必要な 装置・材料の評価用ウェハです。 半導体製造メーカーは日夜、新しいプロセス技術の開発を行い、 人々の生活が豊かになるよう奮闘をしています。 それを支えるのは材料メーカーや半導体装置メーカーであり、 次世代の技術の開発を行うために日々実験や研究を行っています。 そこでは、ウェハ上のプロセスの均一性を向上させるために、 実際のウェハを使用したデータ収集が必須です。 弊社では、次世代半導体開発の為のテストウェハをお客様の希望に沿う 『カスタムメイド』という形で製造し、販売いたしております。 テスト用ウェハの中でも特に、成膜、CMP、洗浄、エッチング、TSVの 研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。 ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。

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シリコンウェハーへの各種加工(外注加工対応)

試作対応 少量対応 4~12inch対応 任意膜種 支給基板対応

セーレンKST株式会社では、自社で加工する酸化膜加工以外にも、協力会社などを通じて半導体製造プロセスに関わる研究開発用途の 各種成膜加工や各種膜付ウェハーをご提供しております。 <対応サイズ> 4inch~12inch ※あらゆる加工に対応いたしますが、ウェハーサイズによっては加工対応の可否がございますので、詳しくはお問い合わせください。

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シリコンウエハー

少数ロットでのご案内も可能ですので、ぜひご相談ください!

当社では、多種多様なニーズにマッチする『シリコンウエハー』を 供給いたします。 低抵抗品、高平坦度品等の「ベアウエハー」をはじめ、「石英製品」や 「SiCウエハー」などをラインアップ。 「ウエハー加工」も少数枚からニーズに合わせて承ります。 また、デバイスメーカー/装置メーカー様向けのご提案も行っております。 【ウエハー加工】 ■再生受託加工 ■成膜受託加工 ■ザグリ受託加工 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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エスエヌケー社「取扱製品半導体基板」

パーティクル管理品ウエハー、ダミーミラーウェハーなどのシリコンウェハーをご用意!

当社では、エスエヌケー社の製品を取り扱っております。 SiC基盤(6インチなど)・GaAs・GaN・Ga2o3・Ga2o3Epi・InPウェハー など、サイズ:2~4インチその他のインチもラインアップ。 また、熱酸化膜・SiN・各種金属膜のほか、ポーラスシリコン加工にも 対応しております。 【ラインアップ】 ■シリコンウェハー ■シリコンウェハー以外の各種基盤 ■各種成膜加工 ■各種ウェハー加工 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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  • ウエハー
  • その他半導体
  • ウェハ

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半導体用シリコンウェハー 量産用プライムウェハー(CZ,FZ)

単結晶の原料である高純度多結晶シリコンからデバイス前工程までの製造・受託加工をしております。

デバイスメーカー、装置メーカーのテストウェハーをはじめ超高精度開発用ウェハーや大学研究所向け超高抵抗、超低抵抗ウェハー、特殊用途向プライムウェハーまで製造販売をしております。

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受託洗浄サービス ドライ洗浄・表面処理再生

洗浄のことならお任せ下さい!

当社では、環境面へ配慮した洗浄方法として『ドライ方式洗浄』を採用しております。 大量の廃液を発生させるウェット洗浄への依存を低減させ、品質・納期・コスト・安全面の向上を図っております。ドライ方式の場合、洗浄によるパーツ消耗は殆ど起きません。

  • その他受託サービス
  • 表面処理受託サービス
  • ウェハ

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CZ/高抵抗FZ 各種ウエハ販売(評価・開発・テスト用)

少量ウエハに対応!研究・テスト用途に便利なウェーハ販売サービス! ハーフinchから450mmまで幅広く取り扱っております!

【取扱商品】 *CZ・FZ・拡散ウエハ・SiC・SOI・EPI・GaAs・SiGe・GaSb・サファイア・ゲルマニウムなど様々な半導体用ウエハを扱っております。 *プライム・テスト・モニター用ベアウエハ(高精度ウェーハ・パーティクルチェック用・COP対策品等) *SOIウエハ:高抵抗デバイス層、基板も対応可、ウェーハを支給していただきSOIウエハへ加工することも可能です。 *パーティクル管理されていないダミーウエハ(コインロール)も取り扱っております。 *各種加工:成膜・グラインダー(30μm以下も可能)ダイシング・エッジ部面取り加工・サイズダウン・パターニング・シリコン及び化合物半導体ウェーハ再生(リクレイム)・再洗浄、測定及び分析サービス等も対応可能。   シリコン単結晶/多結晶/合成石英の各種加工品も取り扱っております。 化合物半導体や各種電子材料・ウエハケース、トレイ、ダイシングテープなどの周辺用品もお問合せ下さい。 国内外より仕様に合う製品をお探しいたします。 他社でお買い上げ済みのウエハに加工をして納品させていただく事も対応可能です。

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ウェハーサービス

用途に合わせてウエハをカスタマイズ!フルラインアップのサイズでご要望にお応えしております

当社は、2インチ~12インチの各種ウエハ販売を行っています。 徹底した品質管理と優れた技術により、お客さまの用途に合わせてウエハを カスタマイズ。フルラインアップのサイズでご要望にお応えしております。 石英ウエハ、GaAsウエハ、Geウエハも扱っております。 ご用命の際はお問い合わせください。 【概要(抜粋)】 ■シリコンウエハ ・2インチ~12インチまでのダミーウエハ、テストウエハなど ■各種成膜加工サービス ・熱酸化膜、TEOS、ポリシリコン、TiN、TaN、BPSGなど ■レジストパターニング加工、Cuメッキ加工 ■2インチ~12インチまでの再生ウエハサービス ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • ウエハ加工/研磨装置
  • ウエハー
  • 加工受託
  • ウェハ

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【短納期・低価格】シリコンウェハー 2~6インチ/8~12インチ

お客様のご要望に合ったシリコンウェハーを短納期・低価格で提供いたします!最短即日発送。

当社では、装置の条件出し、ダイサーやBGのプリカット、搬送テストなど の用途にご使用いただける『シリコンウェハー』を取り扱っております。 モニターウェハーはもちろんのこと、各種サイズ、各種厚み、 パーティクルウェハーにも対応可能です。 小口径2インチ~6インチモニターウエハー、8インチ~12インチモニターウエハーも格安で販売致します。 P型/N型・オリフラ/Vノッチ・結晶方位などお気軽にご相談ください。 【用途】 ■装置の条件出し ■ダイサーやBGのプリカット ■搬送テスト など ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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『テスト用ガラス(テストピース)』

レジストや粘着材、フィルム、薬液等を評価できる!高品質なテスト用ガラス!

ミツル光学研究所ではレジストや粘着材、フィルム、薬液等を評価 試験するテストピースとしてご使用頂ける『テスト用ガラス』を 取り扱っています。 液晶ディスプレイで使用されるものと同じ材質を、ご要望のサイズで 作成することが可能です。 液晶ディスプレイや光学部品の製造で培った加工技術を活かした 高品位ガラスをご用意いたします。 【仕様】 ■ガラスサイズ ・730×920mm~10×10mm ・円形状:φ450mm~φ10mm ■板厚:0.3t・0.4t・0.5t・0.7t・1.1t等 ■外形公差 ±0.2mm ■面取形状:C面取り・R面取り ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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高アスペクト構造 トレンチパターンウェハ 『PT063』

深堀エッチング技術で高アスペクトトレンチパターンウェハを実現

当社は先端の半導体技術によるテストウエハで、お客様の技術・製品開発を強力に支援しております。 (ベアSiウエハ/ 膜付ウエハ/パターンウエハ) トレンチパターンパターンウェハ『PT063』は、ボッシュプロセスによる深堀エッチング技術により高アスペクト構造を実現しております。 当社の標準レイアウトで、マスク寸法0.2µm~10µmのトレンチパターンを配置しており、最大アスペクト比は40~65程度となります。 開発効率化を求める皆様のニーズに答える製品としておすすめいたします。是非ご活用ください。 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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【テストウェハ】ブランケットウェハ(300mmウェハ)

成膜工程におけるテストウエハを、各企業様の状況に合わせてご提案&製造致します。

アドバンスマテリアルズテクノロジーでは、 テスト用ウェハの中でも特に、成膜・CMP・洗浄・エッチング・TSVの 研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。 【対応可能膜種】  Cu、Ta、TaN、Ti、TiN、Al-Cu、SiN、  PE-TEOS、HDP、HARP oxide、Poly-Si、  Th-Ox、ACL、SiC、SiON、Photo resist、Polyimide ■メタル系  Ru、Co、CoEP、Pt、Au、W ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。

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【パターンウェハ】MIT STI CMP wafer

200mm 300mm にて対応可能! 対応膜種はご希望によりご相談ください。

アドバンスマテリアルズテクノロジーでは、 テスト用ウェハの中でも特に、成膜・CMP・洗浄・エッチング・TSVの 研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。 画像はHDP、SiN on Si の例です。 200mm 300mm にて対応可能です。 ※MITマスク使用 対応膜種はご希望によりご相談ください。 ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。

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1インチ以下~450mmで提供可能 「CZウエハ」

1インチ以下~450mmまで提供が可能です。各種成膜加工、FZウエハやサファイア、ゲルマニウム、化合物半導体も対応可能。

弊社では、半導体製造装置テスト用のモニターウエハ・ダミーウエハ、太陽電池用単結晶シリコンウエハ・太陽電池用多結晶ウエハ・SOIウエハ・拡散ウエハなどを取り扱っております。 お客様の用途に合わせて適したウエハをご紹介させていただきます。 CZウェーハは直径1インチ以下から450mmまでご提供が可能です。 また貴社でお持ちのウエハにEPI成膜を行ったり、SOIウエハへの加工なども対応可能です。 CZウェーハ以外にも高抵抗FZウエハも4インチ以下から8インチまで、抵抗値は数オームから 1万オーム以上に対応可能です。 サファイア、ゲルマニウム、化合物半導体、多結晶シリコンなども取り扱っております。 詳しくはお問い合わせ下さい。

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【パターンウェハ】MIT W pattern Wafer

国内マスプロダクションで製造した、デバイスグレートに近いパターンウェハ

アドバンスマテリアルズテクノロジーでは、 テスト用ウェハの中でも特に、成膜・CMP・洗浄・エッチング・TSVの 研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。 国内マスプロダクションで製造した デバイスグレートに近いパターンウェハです。 均一性、埋込性ともによくできています。  非常に高品質なテストウェハとなっております。 200mm、300mmにて対応可能です。 ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。

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