UVオゾンクリーナー UV-1
UV/O3クリーナー・UVオゾンクリーナー
UV-1は、フォトレジストアッシング、シリコンウエハークリーニング、クロムマスククリーニングなど各種半導体プロセスの完全ドライ処理を高濃度オゾンと紫外線照射の相互作用で効率よく行うことを目的として開発された研究開発用の洗浄装置です。
- 企業：サムコ株式会社
- 価格：応相談
クリーナ×サムコ株式会社 - メーカー・企業と製品の一覧
クリーナの製品一覧
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UVオゾンクリーナー UV-300
UV/O3クリーナー・UVオゾンクリーナー
UV-300は、フォトレジストアッシング、シリコンウエハークリーニング、クロムマスククリーニングなど各種半導体プロセスの完全ドライ処理を高濃度オゾンと紫外線照射の相互作用で効率よく行うことを目的として開発された洗浄装置です。
- 企業：サムコ株式会社
- 価格：応相談
UVオゾンクリーナー UV-300H
UV/O3クリーナー・UVオゾンクリーナー
UV-300Hは、フォトレジストアッシング、シリコンウエハークリーニング、クロムマスククリーニングなど各種半導体プロセスの完全ドライ処理を高濃度オゾンと紫外線照射の相互作用で効率よく行うことを目的として開発された洗浄装置です。本装置は従来のUV/O3処理に比べ、高速処理が可能です。
- 企業：サムコ株式会社
- 価格：応相談
プラズマクリーナー PC-1100
プラスチックパッケージや液晶基板、ハイブリッドICなどの表面クリーニングに最適なバッチ式のプラズマクリーナーです。
反応室内に電極棚を複数段装備できるため、小型部品からFPD用角型基板に至るまでさまざまな形状の基板の多数処理が可能です。また、三種類の処理モード（RIEモード、プラズマモード、ダウンストリームモード）を選択できるため、基板の種類に応じた最適な処理を行うことが可能なプラズマクリーナーです。
- 企業：サムコ株式会社
- 価格：応相談
洗浄装置・UV/O3洗浄装置・ドライ洗浄装置・クリーナー(クリーニング装置)・ストリッパー(ストリッピング装置)
洗浄装置・UV/O3洗浄装置・ドライ洗浄装置・クリーナー(クリーニング装置)・ストリッパー(ストリッピング装置)
● 大気圧作動であるため真空システムが不要 ● コンパクト設計 ● 操作が簡単、メンテナンスが容易 ● 低コスト
- 企業：サムコ株式会社
- 価格：応相談
ドライエッチング装置・リアクティブイオンエッチング装置・コンパクトエッチャー・アッシング装置・クリーナー(クリーニング装置)
ドライエッチング装置・リアクティブイオンエッチング装置・コンパクトエッチャー・アッシング装置・クリーナー(クリーニング装置)
● ワンタッチ操作のみで特別な操作が不要です。 ● 設置スペースが小さく場所を選びません。 ● 試料はφ4インチまで対応可能。 ● 専用機であるため低価格。
- 企業：サムコ株式会社
- 価格：応相談
プラズマクリーナー PC-300
表面改質に適したバッチ式のプラズマ洗浄装置（プラズマクリーナー）です。
本装置では、RIEモード、プラズマモードから処理モードを選択できるため、基板の種類に応じた最適な処理を行うことが可能です。また、省スペースで場所を選ばす、卓上型で非常にコンパクトな設計のプラズマクリーナーです。
- 企業：サムコ株式会社
- 価格：応相談
還元性プラズマクリーナー『Aqua Plasma クリーナー』
金属酸化膜の安全な還元と洗浄を実現！水蒸気を用いたプラズマ処理装置
『Aqua Plasma クリーナー』は、主に水蒸気を用いた プラズマ処理装置です。 金属酸化膜の還元、有機汚れの洗浄、フォトレジストアッシング、 親水化などの表面処理を、安全に効率よく行うことができます。 銀電極、銅電極の還元、改質、洗浄やその他酸化金属の還元、 樹脂の表面改質、親水化、アッシングなどに応用可能です。 【特長】 ■金属酸化膜の安全な還元と洗浄を実現 ■酸素の添加により洗浄速度の高速化が可能 ■水蒸気生成、供給量の自動コントロールシステムを内蔵 ■専用デザインにより、設置面積を従来の60％に削減 ■多段処理に対応（最大3段） ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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