光学薄膜設計ソフトウエア TFV
光学薄膜設計ソフトウエア TFV
反射防止膜・ミラー・各種フィルターなどの光学薄膜設計 真空蒸着装置・スパッタリング装置での光学薄膜立ち上げ など、光学薄膜に関する様々な場面でご利用いただけます。 詳しい機能の説明は、TFVホームページ をご覧ください。
- 企業：ナリー・ソフトウエア
- 価格：応相談
ソフト(薄膜) - メーカー・企業と製品の一覧
更新日： 集計期間:2025年08月13日～2025年09月09日
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ソフトの製品一覧
1～15 件を表示 ／ 全 29 件
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2D分光放射計対応膜厚ソフト『SR10-FF』
SiO2薄膜の厚み測定や、ITO薄膜の厚み測定などに！膜厚演算や解析などを行います
『SR10-FF』は「SR-5000」による測定データを読み込み、膜厚演算や 解析などを行うソフトウェアです。 標準仕様では、0.5μm～15μm(0.001μm)、標準＋薄膜解析では 0.01μm～15μm(0.001μm、0.1nm)の範囲を測定可能。 その他製品に関する詳細は、当社までお気軽にお問い合わせください。 【測定範囲】 ■標準仕様：0.5μm～15μm(0.001μm) ■標準＋薄膜解析：0.01μm～15μm(0.001μm、0.1nm) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：株式会社システムロード
- 価格：応相談
【解析事例】薄膜ヘッドの解析
薄膜ヘッドに電流を流した場合の磁場（磁界）解析の例を示します。
薄膜ヘッドの解析の節点数は65670で、要素数は61089です。 解析条件は、磁性体の電気伝導率 5×106 [Sm-1]、磁性体の磁場特性は図に示された磁束密度と磁場の関係（B-H曲線）を用いました。 詳しくはカタログをダウンロードしてください。
- 企業：株式会社フォトン
- 価格：応相談
RGBの膜厚が1回で可能！2次元膜厚計ソフト『SR10-FF』
面内の膜厚のばらつきが３D表示で可視化可能！
『SR10-FF』は「SR-5000」による測定データを読み込み、 膜厚演算や解析などを行う2次元膜厚計ソフトトウェアです。 2次元測定の為、通常複数回の測定が必要なRGBの膜厚 『SR10-FF』ですと1回で膜厚測定が可能です。 標準仕様では、0.5μm～15μm(0.001μm)、 標準＋薄膜解析では0.01μm～15μm(0.001μm、0.1nm)の範囲を測定可能。 【測定範囲】 ■標準仕様：0.5μm～15μm(0.001μm) ■標準＋薄膜解析：0.01μm～15μm(0.001μm、0.1nm) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：株式会社システムロード
- 価格：応相談
プラズマPICモンテカルロ衝突モジュール（PIC-MCCM）
計算の精度が高い！装置内のプラズマ密度が、比較的低い場合のプラズマ解析を得意とするモジュール
『プラズマPICモンテカルロ衝突モジュール（PIC-MCCM）』は、プラズマ CVD装置、プラズマエッチング装置、スパッタリング装置、機能性薄膜の 製造装置といった装置内の、非平衡低温プラズマの挙動を解析ができる モジュールです。 装置内のプラズマ密度が、比較的低い（10^16[#/m3]；10^10[#/cc]程度以下） 場合のプラズマ解析を得意としており、電磁場中での電子ビーム、イオン ビームの軌道解析などといった荷電粒子挙動解析も可能です。 【特長】 ■物理モデルが比較的簡単である ■シミュレーションの際に持ち込まれている物理モデルの仮定や近似が少ない ■計算の精度が高い ■SMCMとのカップリングにより、バッファガス・ラジカル種の影響も 考慮にいれた連成シミュレーションを行うことが可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：ペガサスソフトウェア株式会社
- 価格：応相談
イオンビーム設計ソフト
軸対称モデルを対象に、Ｅｘｃｅｌマクロを用い結果を簡単に評価します。
イオンビーム装置設計ソフト。軸対称モデルに限定だが、Ｅｘｃｅｌマクロを使い、簡単操作で結果を評価できる。電界分布、磁界分布、軌道分布を計算。空間電荷効果が考慮できる。
- 企業：株式会社ミューテック
- 価格：応相談
dw-2000
LSIマスクレイウト設計ツール
dw-2000はWindows、Linux、Macintosh、SUN及びHPと、主要なプラットホームの全てをサポートしている唯一のマスクレイアウトツールです。もちろん各プラットホーム間のデータ共有もネイティブで可能。VB及びVCベースでのマクロ構築機能も充実しており、簡単カスタマイズによるお客様独自のインターフェース環境を構築できます。さらに日本語マニュアル標準装備、購入者への無料講習など、操作を最小限のトレーニングでマスターできます。
- 企業：株式会社メディックス
- 価格：未設定
シミュレーションソフトウェア『PEGASUS』
真空技術、プラズマ技術、薄膜技術、微細加工技術を用いる技術者のためのシミュレーションソフトウェア！
『PEGASUS』は、装置メーカ、材料メーカそしてデバイスメーカにおいて真空技術を 利用した開発、製造に携わる技術者のためのシミュレーションソフトウェアです。 機能が異なる複数のモジュールで構成されおり、一つあるいは複数のモジュールを 組み合わせて使用することで、お客さまの要求に応じたシミュレーションを行うことができます。 IT、宇宙開発、エネルギー、半導体など幅広い産業・分野を対象としています。 ご要望の際はお気軽に、お問い合わせください。 【特長】 ■装置メーカ、材料メーカそしてデバイスメーカにおいて真空技術を利用した開発、製造に携わる 技術者のためのシミュレーションソフトウェア ■真空薄膜技術で必要とされる多くのプロセスに関連するシミュレーションを行うことが可能 ■装置サイズの気相シミュレーションからミクロンサイズの基板表面シミュレーションまで行うことが可能 など ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：ペガサスソフトウェア株式会社
- 価格：応相談
3D希薄流体解析ソフトウェア『DSMC-Neutrals』
低圧条件のガス流れの解析ができる 希薄気体(希薄流体)にも対応した解析ソフト
【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション ・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) ・CVD のような化学反応を含む成膜シミュレーション などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化学反応の計算 ・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算 ・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算 ・GUI 上で，複数の反応式を設定も可能 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社ウェーブフロント 本社
- 価格：応相談
シャワーヘッド型CVDの解析ソフト『DSMC-Neutrals』
「シャワーヘッド型CVD」解析にも対応した 希薄流体解析ソフトウェア『DSMC-Neutrals』
シャワーヘッド型CVD装置内のガス流れのシミュレーション解析 はじめ様々なシミュレーションに対応 【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション ・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化学反応の計算 ・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算 ・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算 ・GUI 上で，複数の反応式を設定も可能 ※受託解析もしておりますので、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社ウェーブフロント 本社
- 価格：応相談
ダスト挙動の解析ソフト『DSMC-Neutrals』
「コンタミネーションに影響するダスト挙動」解析にも対応した 希薄流体解析ソフトウェア『DSMC-Neutrals』
「コンタミネーションに影響するダスト挙動」のシミュレーション解析 はじめ様々なシミュレーションに対応 【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション ・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化学反応の計算 ・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算 ・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算 ・GUI 上で，複数の反応式を設定も可能 ※受託解析も行っておりますので、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社ウェーブフロント 本社
- 価格：応相談
真空装置向け 希薄流体解析ソフト『DSMC-Neutrals』
低圧条件のガス流れの解析ができる 希薄気体(希薄流体)にも対応した解析ソフト
【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション ・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化学反応の計算 ・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算 ・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算 ・GUI 上で，複数の反応式を設定も可能 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社ウェーブフロント 本社
- 価格：応相談
【事例】『DSMC-Neutrals』でのダスト挙動の解析
「コンタミネーションに影響するダスト挙動」解析にも対応した 希薄流体解析ソフトウェア『DSMC-Neutrals』
「コンタミネーションに影響するダスト挙動」のシミュレーション解析 はじめ様々なシミュレーションに対応 【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション ・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化学反応の計算 ・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算 ・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算 ・GUI 上で，複数の反応式を設定も可能 ※受託解析も行っておりますので、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社ウェーブフロント 本社
- 価格：応相談
半導体関連装置向け解析シミュレーションソフト
ガス流れや薄膜生成のシミュレーションに。大規模形状でも短時間計算
当社では、半導体関連装置向けに特化した解析ソフトを取扱っています。 希薄流体解析ソフト、プラズマ解析ソフトをラインアップし、 有機ELやマグネトロンスパッタのシミュレーションに活躍。 お客様のニーズに合わせた対応も可能です。 【ラインナップ】 《希薄流体解析ソフト『DSMC-Neutrals』》 ■非構造メッシュに対応しているため、複雑な形状の計算に対応 ■装置内全体のガス流れのシミュレーションが可能 《プラズマ解析ソフト『Particle-PLUS』》 ■低圧のプラズマシミュレーションが可能 ■プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造などに この2つのシステムで、半導体製造における薄膜生成、スパッタリング、 プラズマエッチングなどの様々なシミュレーションに対応可能です。 ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
- 企業：株式会社ウェーブフロント 本社
- 価格：100万円 ~ 500万円
粒子法3D希薄流体解析ソフトウェア『DSMC-Neutrals』
低圧条件のガス流れの解析ができる 希薄気体(希薄流体)にも対応した解析ソフト
【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション ・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) ・CVD のような化学反応を含む成膜シミュレーション などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化学反応の計算 ・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算 ・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算 ・GUI 上で，複数の反応式を設定も可能 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社ウェーブフロント 本社
- 価格：応相談
