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様々な用途にバランスよく対応する不織布ベースの研磨パッド
『Suba(TM)』は、原料にポリエステル繊維を使用しており、乾式法により成形した不織布にポリウレタンを含浸させた研磨パッドです。 主に、シリコンウェーハやサファイアウェーハ、酸化物ウェーハなどの 一次研磨・二次研磨用として優れた性能を発揮します。 また、エッジ研磨やノッチ研磨にも使用可能で、それぞれのプロセスに 応じた幅広い製品ラインナップを持っております。 【特長】 ■高研磨レート ■低欠陥性 ■高平坦性 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
CMPプロセスにおける研磨用パッドのディファクトスタンダード。世界シェアNo.1！
これまでに数多くの採用実績があり、今もなお高いシェアを維持しています。 IC1000(TM)は、特殊な材料・製造・加工技術、そして高いアプリケーション・評価技術をベースにデザインされていますので、最適なパフォーマンスをお届けします。
鏡面研磨加工における一次研磨に最適な研磨パッド
EXTERION(TM)シリーズは、優れた発泡コントロール技術から生まれたポリウレタン発泡パッドです。シリコンウェーハや化合物基板などの一次研磨に使用され、高品位な仕上がり面と信頼性の高い研磨性能を得ることができます。また特殊な加工技術により 優れた厚み精度と立ち上げ性能を発揮します
ディフェクトフリーを実現する仕上げ用研磨パッド
H1000シリーズパッドはシリコンウェーハのファイナル研磨用パッドとして開発されました。独自の樹脂 設計により優れたスクラッチ性能を示し、ストレートポア構造により高い安定性、ロングライフを実現します。
