鏡面研磨加工における一次研磨に最適な研磨パッド
EXTERION(TM)シリーズは、優れた発泡コントロール技術から生まれたポリウレタン発泡パッドです。シリコンウェーハや化合物基板などの一次研磨に使用され、高品位な仕上がり面と信頼性の高い研磨性能を得ることができます。また特殊な加工技術により 優れた厚み精度と立ち上げ性能を発揮します
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基本情報
【特長】 ・高生産性 ・高安定した品質 ・高平坦性
価格帯
納期
※仕様によって納期が変動しますので、お気軽にお問い合わせください。
用途／実績例
シリコンウェーハの一次研磨など。平坦化加工
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企業情報
ニッタ・デュポン株式会社は、CMP研磨材料のリーディング企業として、高機能・高品質の製品を提供して参りました。その適用範囲は半導体デバイス、シリコンウェーハ、サファイア基板、SiC・GaN・LiTaO3の化合物ウェーハやディスプレイ用ガラス基板など多岐に及びます。今後もお客様の必要とされる「最適表面の創造」を実現する研磨ソリューションを提供することで、ナノテクノロジーの技術革新に貢献して参ります。 「鏡面加工」「平坦化」「デバイス信頼性・歩留まり向上」などのテーマをお持ちの方は、ぜひ精密研磨のCMPをご検討ください！