更新日： 集計期間:2025年07月16日～2025年08月12日
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サーボ系遅れを補正する形状補正機能
多軸補間ではサーボ系の遅れにより軌跡の内回りが発生します。 そのため実際の軌跡と理想の軌跡とでズレが発生します。 形状補正機能はサーボ系の遅れを補正して軌跡精度を改善します。 金型加工、研磨、造形など高速高精度を要求する装置に有効です。 また、ロギングツールである「TPCロギング」によりCSVデータを抽出することができるため、Excelを使うことで軌跡精度の定量解析ができます。 詳しくはお問い合わせ下さい。
工場の設備や情報などを決められた手続き通りに行う制御
リレーやプログラマブルコントローラを用いて 工場の設備や情報などを決められた手続き通りに行う制御 【特徴】 ○プログラマブルコントローラは三菱電機製（Fx・Qシリーズ）をはじめ、 光洋電子工業、和泉電気、キーエンスのノーシーケンサを使用 ○タッチパネルは，三菱電機製，デジタル製，八紘電機製を使用 ○パソコンとシーケンサと測定機器とのデーターを通信，解析，収集する為の プログラムが得意 ●詳細は、お問い合わせ下さい。
革新的な発想を促すロボット＆プログラム
ペリテックでは、デンソーウェーブ社製多関節型アームロボットとグラフィカルプログラミング言語LabVIEW を使い新しいロボティクスを提供します。
データ送受信や他装置との連携により工場内の装置を制御します。
装置制御(PLC)は、センサやモータなどとのデータ送受信や他装置との連携により工場内の装置を制御します。 定期的に情報を収集することで、装置や生産工程のデータ分析やタクトの計測を簡単に行えます。 絶えず動作ログを記録しておき、過渡現象などを後日でも解析することが可能。 タッチパネルやパソコンに直観的でわかりやすく装置状態や生産過程を表示。 MCプロトコルを使用して直接PLCのデータを書き換えることが可能です。 【特徴】 ○工場内の装置を制御 ○定期的に情報を収集、絶えず動作ログを記録 ○タッチパネルやパソコンに装置状態や生産過程を表示 ○MCプロトコルを使用して直接PLCのデータを書き換えることが可能 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
モーションキャプチャを取り入れた計測システムの開発に貢献
・デジタイジング機能 空間のあらゆるものの長さやR等、非接触で簡易に計測することができます。 ・ロボット制御 モーションキャプチャを用いてロボットのティーチングや位置補正のリアルタイムフィードバック等を高精度に行います。 ・バイオメカニクス 他の解析ソフトウェアとの連携や、床反力計や筋電計などの計測機器との親和性が高く、高次元な動作分析を実現できます。 ・バーチャルリアリティ VR（仮想現実）で、空間内の人がどこにいるのか、どこを見ているのか、モーションキャプチャでトラッキングできます。 ・測定 加速度やレーザー変位計を用いて行われている変位計測が非接触でより簡単、高精度に行うことができます。
より高性能な材料開発！粒子径を制御したナノ粒子応用技術の開発をお手伝いします
当社は、金属ナノ粒子の粒子径制御に関わる技術を保有しています。 金属微粒子径の表面状態の解析や、材料開発における粒子径の最適化 検討をお手伝いいたします。 粒子径を検討することにより、効果的なナノ粒子の活用が期待されます。 【今後の展開・期待できる成果】 ■発色性の制御(バイオセンサー、光デバイスでの応用) ■磁性特性の調整(磁気デバイスでの応用) ■反応性や安全性の制御による、取扱い性の向上(導電材料での応用) ■電極触媒における白金使用量の低減 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
バイオ医薬品産業におけるCD測定に最適なソリューション！
Applied Photophysics社製Chirascan Q100は、世界初にして唯一の超高感度、高速自動CDスペクトロメーターです。このユニークな装置はCDアプリケーションの範囲、領域を著しく広げ、生産性は50倍にも向上します。多次元的な負荷実験を使用するChirascan Q100は、タンパク質製剤スクリーニングや生物学的同定性研究野にける強力な新ツールです。 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
高分子延伸の最新研究事例決定版！
本書は，高分子の延伸に関わる最新の研究事例を集めたものであり，延伸の基礎科学から工業プロセスに至る幅広い内容が含まれている。 <中 略> 延伸に関わる理解が十分には進展していない状況下で新規な計測法を駆使した取り組み，新しい材料への取り組みなどで新鮮な知見が蓄積されつつある。多くの章で充実した内容とともに力の籠ったイントロダクションを提供されているのは各々の著者の延伸に対する思い入れの深さを物語っている。一方，繊維，フィルム，ボトルの製造に関わり，基礎実験，実際の製造プロセスの双方について，最先端の情報，現場でしか分からない生々しい情報が提供されている点も本書の大きな特徴になったと考えている。本書が延伸に関わる研究・開発の進展に少しでも貢献できれば幸いである。 東京工業大学 鞠谷 雄士(「まえがき」より抜粋)
業界No1の高度制御技術により、製造最適化を実現
状況の変化やリソースの制約の中で企業が効率の向上を目指す中、APCの新たな進歩により業務が劇的に合理化されます。新しくリリースされたaspenONEV12は、組み込みAIと並列コンピューティングを備えており、経験の浅いユーザーでもより高速なシードモデル(Seed model)とより正確な推論を生成できます。 これらの新機能が、自律運用への移行とAIの力を備えたよりスマートでより正確なモデルの構築にどのように役立つかをご覧ください。
ゼータ電位測定でCMPスラリーの分散・安定性を評価
半導体ウェーハの研磨工程におけるCMPスラリーは、粒子径を均一に制御することで、安定した加工性能が得ることができます。また、凝集物などの粗大粒子が含まれると、研磨レートの変化やスクラッチなどの表面欠陥の要因となるため、粒子径の管理が重要です。そこで、CMPスラリーでは、高い分散性が求められており、ゼータ電位測定から最適な添加剤などの分散条件を検討することができます。 今回は、SiO2スラリーに10～300mMのNaClを添加し、そのゼータ電位および粒子径測定を行いました。 CMPスラリーの塩濃度によるゼータ電位の制御の詳細については、カタログダウンロードより技術資料をダウンロードをしてください。
人工知能を応用するプロセス制御の電子版特許技術動向調査レポート
下記の技術分類別に特許情報をご覧いただけます。 ・化学物質のプロセス量の予測・推定 ・製造状態の診断 ・異常検知の高速化 ・プロセスばらつきの予測 ・加工プロセスの最適化 ・部品寿命の推定 ・故障予兆判定 ・シミュレーション
