更新日： 集計期間:2025年09月24日～2025年10月21日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。
更新日： 集計期間:2025年09月24日～2025年10月21日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。
更新日： 集計期間:2025年09月24日～2025年10月21日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。
1～13 件を表示 ／ 全 13 件
新たな赤外集光炉をはじめ、未知を解き明かすIn-situ観察と高温物性の数値化技術を掲載
当カタログは、米倉製作所の高温加熱炉技術を活用した実験・解析装置の総合カタログです。 精密加熱可能なデスクトップ型IRイメージ炉に加え、高温下リアルタイム観察を可能にするIn-situ高温観察装置、高温下の物性変化を多角的に数値化するシステム製品などを幅広く掲載。 金属材料、セラミックス、半導体分野における素材開発と検証を、より高精度かつ効率的に支援します。 また、新たな開発機能も多数掲載しております。 【掲載内容(一部)】 ■IRイメージ炉 ■加熱観察装置 ■超高温レーザー顕微鏡 ■高温試験装置 ■システム製品 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
マイクロ波加熱システムの課題解決事例を公開！食品関連業界の『解凍』『除菌』『加温』『乾燥』等、用途は多彩！
当事例集は日本ハイコムが多くの食品業界の課題を解決をしてきた「マイクロ波加熱システム」の課題解決事例集です。 海産物や肉類、穀物、野菜、ソース、菓子、油脂、惣菜、など、さまざまな業界で課題解決を実現！ マイクロ波で食品・食材を、“短時間＆均一温度”に「解凍」「除菌」「乾燥」「加温」「調理」できます。 食品業界で今後、一層の対応策が求められる『食品ロス』の低減に役立ちます。 【こういうお悩みの方いませんか？】 ■解凍時のドリップに悩んでいて、ドリップを少しでも押さえたい ■スピード解凍と除菌ができるオーダーメイド品を作ってほしい など多くの実績と課題解決をしてきました。 【掲載事例】 ■冷凍魚フィーレ解凍：4分30秒で次工程に合わせて適した状態に解凍 ■冷凍パン生地解凍：冷凍パン生地を2分15秒でスピード解凍 ■はんぺん2次加熱除菌：包装後のはんぺんにマイクロ波を照射して除菌 ■冷凍バター・マーガリン解凍加：わずが数分の加熱で簡単カット ■油脂加温：31秒のスピード加熱 ほか全20種類の事例集 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
FOOMA JAPAN2014出展時の様子がみなと新聞に掲載されました！
日本ハイコムは、FOOMA JAPAN2014に於いて、短時間で美味しく”解凍・殺菌・加温・調理・乾燥”が出来る「マイクロ波加熱システム」をご紹介致しました。 大量生産向けのコンベアタイプ、及び小ロットに最適な卓上タイプのご紹介に加え、今回はこの度ご成約頂いた豆腐メーカー様、びん入り飲料メーカー様の2社のユーザー様のご厚意により、豆腐、びん入り飲料の2種類の新殺菌装置を展示させて頂きました。 その様子を今回みなと新聞に取り上げられましたので、ご興味ある方はぜひカタログをダウンロード頂きご覧下さい！
GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケーションに応用頂けるアニール炉です。ユニテンプジャパン製
『RTP-150』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス（水素＋窒素）パージの他、 高濃度水素ガスパージにも対応 ■上下24本のIR (赤外）ヒーターで、正確な高速加熱が可能 ■高純度石英チャンバー ■窒素ガスパージ方式による降温に対応 ■プロセスガス最大4系統(MFC) ■到達真空度10-1Pa (TMP搭載のHVモデルなら10-3Paも可能） ■タッチパネル方式モニター標準装備で、オペレーションが簡単 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケーションに応用頂けるアニール炉です【テスト可】
『VPO-1000-300』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ12インチ・Φ6インチ・4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルの プロセスも可能。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。GaNやSiCなどの 新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス（水素＋窒素）パージの他、 高濃度水素ガスパージにも対応 ■上下24本のIR (赤外）ヒーターで、正確な高速加熱が可能 ■高純度石英チャンバー ■窒素ガスパージ方式による降温に対応 ■プロセスガス最大4系統(MFC) ■到達真空度0.1Pa (TMP搭載のHVモデルなら10-3Paも可能） ■タッチパネル方式モニター標準装備で、オペレーションが簡単 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
省スペース・省エネルギー！加熱パイプの配置は槽に合わせて自在にセット
『高負荷燃焼浸管ヒータ』は、高効率・高負荷燃焼の為 小型、コンパクト化が実現した液加熱システムです。 熱効率が高く、さらに従来蒸気加熱のように配管をせず、槽内を直接加熱する為 輸送レスやドレンロスも無く20％～30％の省エネルギーが図れます。 また、ON-OFFボタン1つで起動・停止が可能。 さらに、温度調節器を取付ける事により液温を一定に保つことができます。 【特長】 ■超省エネタイプ ■小型コンパクトで取付場所を選びません ■操作が簡単 ■自動起動・停止が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
固形入り、高粘性、ペースト食材の殺菌処理ができるシステム
「ジュール加熱システム」は、ポンプで搬送することができる食品及び 粘性のある食品、固形物入りの食品を短時間にて連続殺菌する装置です。 食品の体積全体に流れた電気がすべて熱発生するためムラがなく均一殺菌ができ、 従来の加熱方式と比較して1/10の速さで目的の温度まで急速加熱が可能 です。 熱履歴が少なく、熱ダメージの少ない高品質の食品処理が可能です。また、 液体と固形が同時に熱発生するため、殺菌温度到達後の余分な保持時間が 必要ありません。 お客様のニーズに適合した製造や商品開発にお役立てできます。 【特長】 ■均一殺菌（加熱） ■短時間で温度上昇、高品質の殺菌処理 ■高粘性、固形物入り食品の連続殺菌が可能 ■安定した殺菌温度 ■焦げ付かない ※詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードして下さい。
パワフル、広い適合範囲、優れたプロセス信頼性！使用範囲と用途はほぼ無限！
当社が提供する誘導加熱電源は熱処理における理想的なソリューションです。 『TruHeatシリーズ』は、典型的な誘導加熱からエピタキシャル成長や チョクラルスキー法など特殊なアプリケーションまで幅広くカバー。 速度、安定性、制御とエネルギー効率を巧みに組み合わせることにより、 誘導加熱を的確に使用することで、様々な工業分野と多数の生産プロセスに おいて大きなメリットを得ることができます。 【特長】 ■典型的な誘導加熱からエピタキシャル成長やチョクラルスキー法など 特殊なアプリケーションまで幅広くカバー ■パワフル、広い適合範囲、優れたプロセス信頼性 ■使用範囲と用途はほぼ無限 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
【無料配布中】温度分布が均一な遠赤外線ヒーター総合カタログ
ＡＭＫが取り扱う遠赤外放射ヒーターの総合カタログです。 熱衝撃に強く、温度分布が均一で、信頼性の高いヒーターです。 【掲載内容】 ●<遠赤外放射パネル型>クリーンヒーター ●<遠赤外放射型>ストレートヒーター ●<遠赤外放射型>セラミックヒーター ●<遠赤外放射中空型>セラミックヒーター ●<遠赤外放射パネル型>スペースヒーター 【特長】 ●温度分布が均一 ●熱衝撃に強く、耐冷熱サイクルに優れています。 ●遠赤外放射釉で施釉された発熱体です。 ●発塵の要素のないクリーンヒーターです。 ※詳細はカタログダウンロードからご覧ください。
やりたい事を実現！御社の競争力の源となる技術・装置を創り出します
当社は、お客様のニーズに合った装置を設計・製作するのが得意な会社です。 "加熱機構を増設させたい""既存の設備をより能力アップさせたい" "熱をかけて焼成、硬化させたい"などやりたい事を実現でき、 御社の競争力の源となる技術・装置を創り出します。 特注機・設備の試作～導入後までサポート。 ご要望の際は、お気軽にお問い合わせください。 【こんなご要望にお応え】 ■素早い昇温が必要 ■加熱機構を増設させたい ■既存の設備をより能力アップさせたい ■こんな形にしたい、ここの温度を上げたい ■加工技術の開発が必要になった ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
施工上の注意点、および施工例についても解説！図や表を用いてわかりやすく掲載
当資料では、ヒーティングシステムの設計についてご紹介しています。 ヒート・トレースの概念をはじめ、電気加熱の目的や電気加熱の特長、 加熱対象、放熱量の計算などを図や表を用いてわかりやすく掲載。 施工上の注意点、および施工例についても解説していますので、 是非ご一読ください。 【掲載内容】 ■ヒート・トレースの概念 ■電気加熱の目的 ■電気加熱の特長 ■加熱対象 ■放熱量の計算 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケーションに応用頂けるアニール炉です。ユニテンプジャパン製
『RTP-100』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルのプロセスも可能です。 最大到達温度1200℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス（水素＋窒素）パージの他、 高濃度水素ガスパージにも対応 ■上下18本のIR (赤外）ヒーターで、正確な高速加熱が可能 ■高純度石英チャンバー ■窒素ガスパージ方式による降温に対応 ■プロセスガス最大4系統(MFC) ■到達真空度10-1Pa (TMP搭載のHVモデルなら10-3Paも可能） ■タッチパネル方式モニター標準装備で、オペレーションが簡単 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
加熱用ハロゲンランプの特性をすべて活かした加熱システムです。
素早く立ち上がり、効率的なエネルギー放射。 加熱用ハロゲンランプの特性をすべて活かした加熱システムです。 【特徴】 ○高出力加熱＆小型軽量・省スペースで生産性を向上 ○立ち上がり・立ち下がりが速く、熱制御も容易 ○効率的 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
