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低コストで運転可能！粒子の酸化や変質を抑えた皮膜を作製できます。
HVAF(High Velocity Air Fuel)は、炭化水素系のガスもしくは液体と圧縮空気を燃料としてチャンバー内で燃焼させ、発生した高温高圧の ガス流れに粉末を投入、粒子を加速加熱させ対象材に衝突堆積させて皮膜を形成する溶射法です。 フレーム溶射やプラズマ溶射と比較すると高密着力・材料変質の少なさが主な特徴です。 【特徴】 ○ガスの最高温度が低い ○ガスの選択範囲が広い ○低コストで運転できる ○低温での超高速ジェットフレーム 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
工業用ガスを使用しませんので非常に低コストです。ガス温度は450℃から800℃までの間で選択できます。
【装置概要】 大島商船高専・大分高専との共同研究によって、従来のHVAF(High Velocity Air Fuel)の問題点を解消し、不活性ガスを使用する従来のコールドスプレーと同程度までにガス温度を低温にした新しい溶射装置です。 【特徴】 ○ガス温度は450℃から800℃までの間で選択できます。 ○灯油と圧縮空気の燃焼ガスが作動ガスです。窒素・ヘリウムなどは使用しませんので、運転費の大幅な低減が可能です。 ○作動圧力は導入するコンプレッサ等により変化します。 ○流動性が悪く、凝集しやすい数μm以下の粉体も施工可能です。 ○粉体は軸方向から投入します。 【運転費】 時間当たり約1,500円（37KWコンプレッサを使用時）
