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ゼータ電位・粒子径・分子量測定システムを用いてＣＭＰスラリーの非イオン性界面活性剤添加によるゼータ電位・粒子径の制御評価
半導体製造におけるCMPでは、半導体ウェハや金属面を研磨する場合に金属酸化物（シリカ粒子、アルミナ粒子）がよく利用されています。シリカ粒子 アルミナ粒子などの金属酸化物は種々の要因（pH、添加剤など）によって粒子の分散状態が異なり、粒径やゼータ電位を指標として分散状態をコントロールすることが非常に重要になっています。 今回、CMPスラリーに非イオン性界面活性剤を添加し、添加前後のゼータ電位および粒子径変化の測定をおこないました。 ＣＭＰスラリーの非イオン性界面活性剤添加によるゼータ電位・粒子径の制御評価の詳細については、カタログダウンロードより技術資料をダウンロードをしてください。
ゼータ電位・粒子径・分子量測定システムを用いて種類の異なるリポソームの粒子径評価
リポソームは膜を構成する層数と大きさにより、小さい一枚膜リポソーム（ SUV; 100nm以下）、大きな一枚膜リポソーム（ LUV; 100-500nm）、そして多重層リポソーム（MLV; 200-1000nm）に大別されます。 これら3種（それぞれ超音波処理法、逆相蒸発法、ボルテックス処理法によって調製）のリポソームを動的光散乱法を用いて、粒子径測定を行いました。 種類の異なるリポソームの粒子径評価の詳細については、カタログダウンロードより技術資料をダウンロードをしてください。
ゼータ電位・粒子径・分子量測定システムを用いてDDSナノ材料リポソームの粒子径とゼータ電位評価
リポソームは、脂質2分子膜で構成される閉鎖小胞であり、化学療法などの薬剤のキャリアとして注目されています。脂質組成、粒子径、表面荷電などを容易に調整でき、抗腫瘍ペプチドや抗体などを表面に修飾することが可能であり、標的化が比較的簡単におこなえるなど、薬物キャリアとして有用な性質を有しています。このように、リポソームの体内動態を理解する上で、物性評価（粒子径、表面電位測定など）は非常に重要です。 今回はリポソームの粒子径とゼータ電位を測定しました。 DDSナノ材料リポソームの粒子径とゼータ電位評価の詳細については、カタログダウンロードより技術資料をダウンロードをしてください。
ゼータ電位・粒子径・分子量測定システムを用いてDDSナノ材料リポソームのと等電点評価
あるpHでゼータ電位がゼロ（粒子の表面電位がゼロ）になる点を等電点といい、コロイド粒子は等電点近傍のpHに近づけると、静電的な反発力がなくなり凝集することになります。分散状態を安定化させるには、等電点からできるだけ離れるようにし、ゼータ電位の絶対値を高める必要があります。 今回は生理食塩水にリポソーム分散させリポソームの粒子径とゼータ電位のpH依存測定をおこないました。 DDSナノ材料リポソームのと等電点評価の詳細については、カタログダウンロードより技術資料をダウンロードをしてください。
